徐成俊
- 作品数：4 被引量：49H指数：4
- 供职机构：重庆大学材料科学与工程学院更多>>
- 发文基金：重庆市科技攻关计划更多>>
- 相关领域：一般工业技术金属学及工艺理学更多>>
- 室温磁控溅射制备(Ti,Zr)N薄膜及其性能研究被引量：6
- 2005年
- 采用直流反应磁控溅射工艺,在载波片和Al基材上制备出金黄色的(Ti,Zr)N薄膜。(Ti,Zr)N薄膜具有比TiN薄膜更高的硬度和更强的耐腐蚀性能。用XRD衍射方法和扫描隧道显微镜对薄膜的晶体结构、微观表面形貌和电子结构进行了测试分析。XRD结果表明,(Ti,Zr)N薄膜为多晶态,存在TiN和ZrN两种分离相;从表面形貌可知,薄膜表面平整,晶粒排列致密且无连接松散的大颗粒;STS谱表明,Zr掺杂后,禁带宽度仍为1.64eV,但在禁带内增加了新能级,新能级的宽度分别为0.33eV和0.42eV,这也正是掺杂Zr后,薄膜仍呈现金黄色的主要原因。
- 黄佳木徐成俊王亚平
- 关键词：金黄色表面形貌
- 氮流量对磁控溅射法制备氮化钛薄膜光学性能的影响被引量：17
- 2005年
- 采用磁控溅射方法在载波片和Al基片上制备了氮化钛薄膜;通过改变N2流量来改变薄膜中N/Ti原子比例。采用分光光度计和扫描隧道显微镜测试手段对氮化钛薄膜光学性能随N2流量变化的规律进行了研究。薄膜反射率光谱和扫描隧道图谱分析表明,氮化钛薄膜主要遵循自由载流子光吸收机制,随着N含量的增加,薄膜中的自由电子数目不断减少,等离子体频率逐渐红移,反射率降低,薄膜颜色发生变化。从薄膜扫描隧道谱(STS)可知,TiN薄膜表现出类似金属的光学性能,并且其禁带宽度Eg=1.64 eV。
- 黄佳木徐成俊
- 关键词：薄膜光学光学性能电子结构氮化钛
- 室温直流磁控溅射氮化钛薄膜研究被引量：19
- 2005年
- 利用直流磁控溅射在室温下沉积出性能优良的氮化钛薄膜,研究了N2流量和偏压对氮化钛薄膜性能和结构的影响,并采用扫描隧道显微镜(STM)技术对其表面形貌进行了较为详细的研究。结果表明,随着N2流量的增加,薄膜的结构从四边型混合结构转变为面心立方NaCl型结构,最后变为无定型结构,薄膜结构的变化也使薄膜的硬度随之发生变化;施加负偏压不仅能让薄膜中缺陷减少,使膜层变得更致密,而且还能优化氮化钛晶粒,从而获得性能优良的薄膜。从TiN薄膜的表面形貌图可知,薄膜表面平整,缺陷很少,晶粒排列非常致密,且空位及表面缺陷较少。
- 黄佳木徐成俊张兴元王亚平
- 关键词：氮化钛工艺参数表面形貌
- 磁控溅射TiN及ZrN薄膜的特性研究
- 氮化钛和氮化锆薄膜的结构通常由金属键和共价键混合而成，具有金属晶体和共价晶体的特点：高熔点、高硬度、优异的热和化学惰性，优良的导电性和金属反射比。这类薄膜既可作为一种耐磨及硬质薄膜而广泛用于各种切削工具、机械零部件，也可...
- 徐成俊
- 关键词：磁控溅射氮化钛薄膜氮化锆薄膜
- 文献传递
