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李立峰

作品数:13 被引量:64H指数:6
供职机构:清华大学更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划国家科技部专项基金更多>>
相关领域:机械工程理学更多>>

文献类型

  • 8篇期刊文章
  • 4篇专利
  • 1篇会议论文

领域

  • 9篇机械工程
  • 7篇理学

主题

  • 12篇光栅
  • 7篇衍射
  • 7篇光学
  • 6篇全息
  • 5篇全息光栅
  • 5篇物理光学
  • 3篇衍射光栅
  • 3篇刻蚀
  • 3篇光刻
  • 3篇光刻胶
  • 3篇光谱
  • 2篇样片
  • 2篇凸面光栅
  • 2篇离子束
  • 2篇离子束刻蚀
  • 2篇光强
  • 2篇光学方法
  • 1篇导波
  • 1篇对称性
  • 1篇多层介质

机构

  • 13篇清华大学
  • 3篇北京光学仪器...
  • 1篇中国工程物理...

作者

  • 13篇李立峰
  • 4篇曾理江
  • 3篇周倩
  • 3篇赵劲松
  • 3篇吴振华
  • 2篇赵劲松
  • 2篇吴振华
  • 1篇白本锋
  • 1篇林华
  • 1篇颜宏
  • 1篇孟祥峰

传媒

  • 5篇光学学报
  • 2篇光谱学与光谱...
  • 1篇强激光与粒子...

年份

  • 1篇2019
  • 1篇2015
  • 1篇2009
  • 4篇2008
  • 1篇2006
  • 4篇2004
  • 1篇2003
13 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
光栅的刻蚀控制方法及装置
本公开涉及一种光栅的刻蚀控制方法及装置。该方法包括:在光栅刻蚀过程中,实时确定待刻蚀光栅的衍射效率;根据衍射效率,判断是否满足停止刻蚀的条件;在满足停止刻蚀的条件时,控制停止刻蚀。本公开实施例,通过在光栅刻蚀过程中,监测...
曾理江李立峰
文献传递
利用导波耦合角度实时控制光刻胶光栅掩模的占宽比被引量:2
2006年
研究一种控制多层介质膜上的光刻胶光栅掩模占宽比(线宽与周期之比)的新方法。该方法基于下面的原理:如果某泄漏模在包层中的隐失尾较强,那么它的等效折射率受光刻胶光栅占宽比变化的影响就大,从而可以利用耦合角度来实时控制光栅占宽比。在光栅制作的显影阶段,采用实时监测技术,根据耦合角度和占宽比之间的关系预设入射光角度,在出现共振反常的时刻停止显影来控制占宽比。实验结果表明,固定适当的入射角度可以得到特定的占宽比;改变入射角度,占宽比按照预计的规律变化,因此定性地验证了这种占宽比控制方法的可行性。文中给出了监控装置和具体的实验方法,并讨论了误差来源和影响。
林华李立峰曾理江
关键词:物理光学
多层介质膜偏振无关光栅的研制被引量:4
2015年
介绍了一种应用于光纤激光光谱合束的高衍射效率多层介质膜偏振无关光栅的设计及制作,给出了设计参数、制作流程和最终制作的偏振无关光栅的测量结果,在1.044-1.084μm波长范围内,实验测得的TE偏振光、TM偏振光的平均衍射效率分别为89.7%,93.8%。
申碧瑶曾理江李立峰颜宏
关键词:衍射光栅
光谱仪用平场凹面光栅的凸面母光栅的消像差设计思路被引量:9
2009年
平场全息凹面光栅是光谱仪中的核心元件之一,其成像质量和衍射效率直接影响了光谱仪的分辨率和光能利用率。利用凸面母光栅复制制作凹面光栅,便于在凸面基底上进行离子束刻蚀以获得高的衍射效率。为了保证复制的凹面光栅具有高的成像质量,文章提出一种全息凸面光刻胶光栅的消像差设计方法,优化中考虑了凸面基底对记录光束的折射效应以及由基底折射率所引入的附加光程。通过将"光程函数级数展开法"和ZEMAX光学设计软件相结合,采用粗精两步优化的方法,显著提高了优化的效率和成功率。ZEMAX对比仿真结果显示,复制得到的凹面光栅与传统直接采用全息法制作的凹面光栅的成像质量是相当的。
周倩李立峰
关键词:衍射光栅凸面光栅
全息光栅制作中的实时潜像自监测技术被引量:21
2004年
介绍了一种实时监测全息光栅曝光过程的新方法。在曝光过程中 ,光刻胶折射率的空间分布发生微小变化 ,由此形成的潜像光栅同时对记录光束产生衍射 (自衍射 ) ,探测一个非零级次的衍射强度的变化就可对曝光过程实时监测。实验证明 ,这种技术能灵敏、客观地探测出样片之间由于个性差异所导致的最佳曝光量的漂移 ,制作者可以借此对曝光时间做实时补偿。发现自监测曲线之线性区的末端存在着一个明显的最佳曝光参考点 ,紧接其后是一个最佳曝光可选择区。采用了一个曝光模型 ,其模拟结果和实验中得到的自监测曲线能很好地吻合。理论分析证实 ,根据实时监测曲线的相对幅值来优化最佳曝光量的方法是很合理的 ,这种实时自监测是一种非常简单、能有效控制曝光量的技术。
赵劲松李立峰吴振华
关键词:全息光栅衍射光学元件物理光学
一种在凸面基底上直接制作光刻胶母光栅的方法
一种在凸面基底上直接制作光刻胶母光栅的方法,属于光栅制作技术领域。加工制作凹面光栅基底;加工制作凸面母光栅基底;在凸面母光栅基底的工作面上旋涂感光材料;采用全息法曝光得到凸面光刻胶掩模光栅;显影,得到凸面光刻胶掩模光栅,...
周倩李立峰
文献传递
提高离子束刻蚀亚微米光栅侧壁陡直度的方法被引量:9
2008年
现代亚微米光栅的应用通常要求栅脊侧壁陡直。通过比较两种配备不同离子源的刻蚀机的反应离子束刻蚀结果,认为影响亚微米光栅侧壁陡直度的一个重要因素是离子束发散角(束散角),且小束散角有利于获得陡直的光栅侧壁。国内应用最广泛的双栅考夫曼刻蚀机束散角较大(大于13°),致使用常规方法获得的熔石英光栅的侧壁倾角仅为77°。针对此刻蚀机,尝试了三种提高侧壁陡直度的方法:旋转倾斜刻蚀法、交替倾斜刻蚀法和二次金属掩模法,分别把侧壁倾角提高到86°、86°和82°。最后从掩模侧壁收缩速率和槽底部与顶部离子通量的差异对束散角对侧壁陡直度的影响给予解释,并说明了上述三种方法的工作机理。
孟祥峰李立峰
关键词:物理光学衍射光栅反应离子束刻蚀
用于提高二维光栅问题计算效率的群论方法
本文建立了一种基于群论的系统性方法,利用对称性提高二维光栅衍射问题的计算效率。其基本思想是将一般的非对称入射问题分解成若干“对称模”的叠加,通过求解这些对称模,从而使计算效率大幅度提高,这一结论得到了理论分析和数值实验的...
白本锋李立峰
关键词:光栅群论对称性
文献传递
一种控制矩形光刻胶光栅槽深和占宽比的方法被引量:12
2004年
利用光刻胶的非线性效应可以制作出了矩形的全息光栅。制作矩形光栅时 ,对槽形的控制被简化为对槽深和占宽比这两个参量的控制。首先借助实时潜像监测技术获得最佳曝光量 ,然后根据显影监测曲线的特征找出光栅槽底的残胶厚度为零的显影时刻 ,就能得到槽底干净的矩形光栅 ,同时保证槽深近似等于光刻胶的初始厚度 ;如果此后继续显影 ,就能适度减小占宽比。实验结果和理论分析都证实了这种控制方法的可靠性。对 12 0 0lp/mm的光栅 ,目前工艺能精确调控的最大槽深为 1μm ,占宽比在 0 .2~ 0 .6范围内。实验还揭示 ,为了提高对光栅槽形的调控能力 ,必须首先提高干涉条纹的稳定性。
赵劲松李立峰吴振华
关键词:物理光学全息光栅掩模
一种全息光栅制作中的实时潜像自监测用的光学方法
本发明涉及一种全息光栅制作中的实时潜像自监测用的光学方法,属于光栅测量技术领域。其特征是它把作用于光栅的光强任意的干涉记录光束同时作为实时潜像自监测用的入射光束,当入射光束的波长与光栅的周期比值λ/d<2/3时,光栅存在...
李立峰赵劲松吴振华
文献传递
共2页<12>
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