李翔
- 作品数：44 被引量：63H指数：3
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- 相关领域：自动化与计算机技术轻工技术与工程经济管理理学更多>>
- 不同定量的纸张对印刷色彩再现的影响被引量：1
- 2003年
- 在同一印刷条件下,对同一原稿使用定量分别为100 g/m2,157 g/m2,230 g/m2的纸进行印刷,用X-Rite密度计对其密度、网点进行测量,观察比较3种纸张对3原色油墨Y、M、C再现的色强度、色效率、色纯度以及印刷相对反差K值,得到以下结论:一般情况下定量高的纸张印刷适性良好。
- 郭凌华昝东生李翔
- 关键词：纸张密度测量色纯度色强度印刷适性
- 膜电极产生臭氧的工作时间特性
- 2008年
- 采用Nafion膜作为电解质、β-PbO2颗粒作为阳极、碳载铂作为阴极,制备了固体聚合物电解质复合膜电极.利用SEM和XRD研究发现,膜电极运行220h后,阳极PbO2中约有6%左右的α-PbO2,阳极催化层颗粒之间变得疏松,PbO2颗粒的表面也出现了大量重结晶的纳米尺寸的PbO2颗粒,膜电极出现电流效率下降和槽压上升的趋势.阳极PbO2重结晶导致的催化层结构和形貌改变是这种趋势出现的主要原因;晶体中的Pb2+被氧化为Pb4+所致的晶体原有结构的破坏可能是膜电极性能下降的原因之一.膜电极在运行到180h后,槽压和电流效率趋于稳定,这可能是由于阳极催化层的结构已趋于稳定。
- 王景平李翔牛育华
- 关键词：臭氧膜电极二氧化铅重结晶
- 一种推测嵌套软件事务存储的冲突管理方法
- 本发明公开了一种推测嵌套软件事务存储的冲突管理方法，提供了在线程级推测技术上实现具有序列化提交线程的征的嵌套软件事务存储的冲突检测器和冲突消解器。冲突检测器采用读可见-懒惰冲突检测方法，冲突消解器在序列化提交线程的基础上...
- 李翔王长浩张鹏伟
- 固化剂对PANI/SiO_(2)环氧涂层防腐性能的影响
- 2021年
- 采用原位聚合,在400目的SiO_(2)表面包覆了聚苯胺(PANI),制备了PANI/SiO_(2)颗粒,将其添加在环氧防腐涂层中.分别使用酚醛胺T-31、腰果酚以及聚酰胺650作为固化剂固化环氧涂层.采用扫描电子显微镜发现,聚酰胺650固化的环氧涂层结构致密,腰果酚固化的环氧涂层次之,而酚醛胺T-31固化的环氧涂层表面有明显的微孔.环氧涂层的结构对其力学性能和防腐性能有至关重要的影响.在力学性能测试中,聚酰胺650固化的环氧涂层附着力、耐磨性和硬度均比较好.电化学测试结果表明,使用聚酰胺650固化的环氧涂层防腐性能最佳,腐蚀电位Ecorr为-0.567 V,腐蚀电流密度Icorr为1.890×10^(-8)A/cm^(2);将其浸泡在3.5 wt%NaCl水溶液中,30天后依然能够发挥很好的防腐作用.
- 曹金安王景平董鑫冯江波邵亮李翔
- 关键词：防腐涂层聚苯胺固化剂二氧化硅
- 电解式臭氧发生器及其阴极催化层的制备工艺
- 本发明涉及一种电解式臭氧发生器及其阴极催化层的制备工艺，包括圆形Nafion膜和设于所述Nafion膜轴向两侧的圆形阳极构件和圆形阴极构件。这种电解式臭氧发生器，采用多孔硼掺杂的金刚石电极为阳极，阴极催化层采用碳载铂制备...
- 王景平王杨勇李仲谨牛育华李翔郭凌华刘正安惠烨
- 文献传递
- 一种水相中偕二氟烯丙基化合物的合成方法
- 本发明公开了一种水相中偕二氟烯丙基化合物的合成方法，向溶剂中加入芳基二氟乙酸和烯丙基砜，以及催化剂和氧化剂，然后进行脱羧烯丙基化反应，反应完成后萃取、分离提纯即得到偕二氟烯丙基化合物，反应在60度下水相中进行。本发明的合...
- 李翔张瑞红张晓斐朱培元
- 文献传递
- 图像修复常用工具及注意事项
- 2004年
- 对于印前所获取的数字图像,往往要对其中的损伤、污点及撕裂等缺陷进行修复.目前修复这些缺陷最常用的软件是Photoshop,而利用Photoshop进行修复工作时使用的工具较多,本文就如何有效使用Photoshop中常用的图像修复工具及注意事项做较为深入的探讨.
- 李翔王景平景青侠
- 关键词：修复工作图像修复数字图像
- 一种N-亚氨基吡啶叶立德双酰胺化合物的合成方法
- 本发明公开了一种N‑亚氨基吡啶叶立德双酰胺化合物的合成方法，向溶剂中加入N‑亚氨基吡啶叶立德和3‑苯基‑1,4,2‑二氧唑‑5‑酮，以及催化剂和碱，反应完成后进行分离提纯即得到N‑亚氨基吡啶叶立德双酰胺化合物。本发明的合...
- 李翔赵青李新建
- 中小型印刷企业供应物流信息系统数据库设计与实现被引量：1
- 2008年
- 通过对中小型印刷企业物流管理的运行模式的调查研究,分析了系统的数据结构,给出了相关数据库表的E-R图;采用SQL Server 2000数据库和VC++6.0开发工具,描述了印刷企业供应物流信息系统数据访问层的编程实现过程。
- 李翔陈东颖惠烨王长浩
- 关键词：数据库设计数据访问层
- 半导体表面平坦化及新型高性能湿式清洗工艺的研究
- 超大规模集成电路技术遵循摩尔定律不断发展,随着集成度的不断提高,金属半导体晶体管(MOSFET)的尺寸也在不断缩小,随之带来的新问题也不断出现。其中,绝缘膜与硅界面的微粗糙度造成了闪烁噪声的增大,导致电路性能和MOSFE...
- 李翔
- 关键词：集成电路清洗工艺粗糙度绝缘膜
- 文献传递
