谢巧英
- 作品数：4 被引量：2H指数：1
- 供职机构：电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术电气工程理学更多>>
- 溅射气压对FeCoSiB非晶薄膜表面形貌及磁特性的影响
- 2007年
- 利用磁控溅射的方法，在玻璃基片上制备了FeCoSiB非晶薄膜，研究了溅射心气压强对薄膜表面形貌及磁特性的影响。结果表明，薄膜的表面形貌显著依赖于心气压强，随着山Ar压强的增加，薄膜表面颗粒增大，粗糙度增加并形成柱状微结构。心气压强对薄膜磁特性有显著的影响，随血压强增加，薄膜的矫顽力增加，而剩磁则呈下降趋势。从薄膜的磁滞回线、矫顽力以及剩磁随溅射气压的变化规律可知，溅射气压较小时制备的薄膜软磁性能较好．
- 汤如俊谢巧英彭斌张万里张文旭蒋洪川
- 关键词：非晶薄膜溅射气压表面形貌矫顽力剩磁
- 张应力对FeCoSiB非晶薄膜磁特性的影响被引量：1
- 2007年
- 采用磁控溅射方法,在弯曲的玻璃基片上制备出受张应力作用的FeCoSiB非晶薄膜,研究了张应力大小对FeCoSiB薄膜的磁畴、矫顽力、剩磁、各向异性场等磁特性的影响。结果表明,薄膜的畴结构显著依赖于张应力,其磁畴宽度随张应力增加而增加;张应力导致FeCoSiB薄膜内形成较强的磁各向异性,其各向异性随应力的增大而增大。
- 谢巧英张万里蒋洪川沈博侃彭斌
- 关键词：应力磁各向异性磁畴矫顽力
- 溅射气压对FeCoSiB非晶薄膜表面形貌及磁特性的影响
- 利用磁控溅射的方法,在玻璃基片上制备了 FeCoSiB 非晶薄膜,研究了溅射 Ar 气压强对薄膜表面形貌及磁特性的影响。结果表明,薄膜的表面形貌显著依赖于 Ar 气压强,随着 Ar 压强的增加,薄膜表面颗粒增大, 粗糙度...
- 汤如俊谢巧英彭斌张万里张文旭蒋洪川
- 关键词：溅射气压表面形貌矫顽力剩磁
- 文献传递
- 应力对FeCoSiB非晶磁弹性薄膜磁特性影响的研究
- 非晶磁弹性薄膜由于具有磁晶各向异性消失和高磁弹耦合系数的特点,应力诱导的各向异性对其磁结构及磁性能将起到显著的影响。本文针对FeCoSiB非晶磁弹性薄膜,从理论和实验上研究了应力对FeCoSiB非晶磁弹性薄膜的磁化过程和...
- 谢巧英
- 关键词：应力作用磁学特性溅射气压各向异性
- 文献传递
