阚娅
- 作品数:22 被引量:48H指数:4
- 供职机构:中国科学技术大学核科学技术学院国家同步辐射实验室更多>>
- 发文基金:国家自然科学基金中国科学院知识创新工程国家大科学工程更多>>
- 相关领域:电子电信自动化与计算机技术机械工程冶金工程更多>>
- 一种用于制作量子线超微细图形的光刻掩模
- 本实用新型涉及制作量子线超微细图形过程中所用的掩模。本掩模包括有透明衬底和量子金属线图形,其特征在于所述量子金属线图形依附在透明衬底垂直凸起的光栅的两个侧壁上,本掩模不仅具有稳定性好,使用寿命长的优点,而且由于透明光栅的...
- 付绍军夏安东田杨超洪义麟阚娅陶晓明胡一贯张新夷
- 文献传递
- PMMA面键合的热压法工艺研究
- 2005年
- 研究了PMMA热压键合工艺,测量了PMMA的键合强度,利用扫描电镜检测了键合后微流体管道的结构变化,讨论了键合温度、键合压力等因素对键合强度的影响;给出了热压键合的合理工艺参数范围.结果表明,经过参数优化后的热压键合法可以满足PMMA微流体器件对键合的需求.
- 朱学林郭育华王俊刘刚阚娅田扬超
- 关键词:PMMA热压法键合强度
- 一种制作活动微结构的方法
- 本发明制作活动微结构的方法,特征是先在导电的衬底上涂覆光刻胶,根据活动微结构形状制作光刻掩模,光刻、显影,得到和掩模上图形相反的光刻胶图形;采用电镀法直接制作牺牲层;将残留的光刻胶去除干净,再涂覆一层光刻胶,采用光刻和微...
- 陈大鹏张新夷田扬超刘刚胡一贯阚娅洪义麟陶晓明霍同林付绍军
- 文献传递
- 一种量子线超微细图形的制作方法
- 本发明涉及量子线超微细图线的制作方法,包括利用陡侧壁x光栅制造初始光栅光刻掩模图形,将其转换为刻蚀掩模图形后再转换到所需基片上,其特征在于将初始光栅图形转换到为刻蚀掩模的过程中,先将图形转换到支撑材料薄层上,形成支撑光栅...
- 付绍军夏安东洪义麟田杨超胡一贯陶晓明阚娅张新夷
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- 木材断裂过程的研究被引量:21
- 2000年
- 运用同步辐射光源,对杉木和马尾松径、弦向切片在拉应力作用下的破坏过程进行了观察.结果显示:木材在径向拉伸荷载的作用下,易在早、晚材分界处出现裂纹,并向早材部分扩展,裂纹扩展路径不规则,在细胞壁处被终止;木材在弦向拉伸荷载的作用下,易在木射线处出现裂纹,并很快在其附近产生更多的裂纹,直至破坏。木材预制裂纹与木材纹理垂直,受顺纹拉伸荷载的作用时,裂纹尖端不沿预制方向扩展,而是顺纹扩展。木射线和纹孔对裂纹扩展起阻碍和终止作用。
- 江泽慧任海青胡一贯刘刚阚娅
- 关键词:杉木马尾松木材力学性质
- 电镀法制作活动微结构的牺牲层工艺被引量:6
- 2000年
- 报道了一种采用电镀方法制作活动微结构的牺牲层工艺 ,该牺牲层技术可用于微电子机械装置中活动部件的制作。利用电镀形成Zn牺牲层 ,结合微细加工技术中的LIGA工艺对该工艺进行了验证 ,制作出可活动的微齿轮结构 ,齿轮直径为2 5 0 μm。
- 陈大鹏刘刚田扬超胡一贯阚娅张新夷
- 关键词:牺牲层电镀微细加工LIGA技术
- 微管道的制作方法
- 本发明提出一种微管道的制作方法,它涉及微机械的加工技术,特别是对其中的微管道进行制作的方法。本发明是将利用光刻工艺在正性光刻胶上制作的微管道图形采用负性光刻胶交联的办法直接固定和封装。不仅可以适用于多种材料,也可以制作各...
- 刘刚田扬超洪义麟张新夷阚娅
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- 热模压成形技术中的脱模研究被引量:10
- 2005年
- 通过有限元模拟热模压成形中的脱模过程,分析了一般脱模工艺造成图形缺陷的原因;通过优化脱模工艺过程,采用低表面能的聚四氟乙烯作为抗粘剂,减小脱模时的摩擦,获得了高质量的模压复制品.
- 郭育华刘刚朱学林王俊阚娅田扬超
- 关键词:脱模有限元方法
- 同步辐射光刻光束线的真空系统被引量:2
- 1994年
- 第一条同步辐射光刻光束线已在合肥国家同步辐射实验室建成,并刻出了线宽0.2μm的图形。真空系统是光束线的重要组成部分。该真空系统要使镜箱内的压力分别小于6.7×10-8Pa(镜箱内有SR)和2.6×10-7(镜箱内无SR),以免暴露于SR的光学镜面遭受碳污染。一个装有可移动样品架的曝光室坐落在超净室中。曝光室内的压力约为10-4Pa。一个多级差分抽气系统实现了镜箱到曝光室的真空过渡。具有较大截面的差分管必须是良好的光通路。给出了差分抽气系统的计算公式和实验结果。描述了真空联锁系统的组成部分和功能。该光束线的功能还需扩展和提高,真空系统也有值得探讨和改进的问题。
- 蒋迪奎李贵和刘泽文殷立新钱石南阚娅吴冠原
- 关键词:光刻真空系统
- 一种制作活动微结构的方法
- 本发明制作活动微结构的方法,特征是先在导电的衬底上涂覆光刻胶,根据活动微结构形状制作光刻掩模,光刻、显影,得到和掩模上图形相反的光刻胶图形;采用电镀法直接制作牺牲层;将残留的光刻胶去除干净,再涂覆一层光刻胶,采用光刻和微...
- 陈大鹏张新夷田扬超刘刚胡一贯阚娅洪义麟陶晓明霍同林付绍军
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