您的位置: 专家智库 > >

陶向明

作品数:50 被引量:154H指数:8
供职机构:浙江大学物理系物理学系更多>>
发文基金:国家自然科学基金浙江省自然科学基金教育部留学回国人员科研启动基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术电子电信电气工程更多>>

文献类型

  • 47篇期刊文章
  • 3篇会议论文

领域

  • 42篇理学
  • 7篇一般工业技术
  • 4篇电子电信
  • 3篇电气工程
  • 1篇机械工程

主题

  • 13篇密度泛函
  • 13篇泛函
  • 10篇电子结构
  • 10篇子结构
  • 9篇密度泛函理论
  • 9篇泛函理论
  • 8篇第一性原理
  • 8篇第一性原理研...
  • 8篇电子态
  • 8篇原子
  • 7篇吸附能
  • 6篇STM图像
  • 5篇导体
  • 5篇超导
  • 5篇超导体
  • 5篇O
  • 4篇再构
  • 4篇态密度
  • 4篇铁电
  • 4篇密度泛函理论...

机构

  • 49篇浙江大学
  • 6篇杭州大学
  • 6篇上海工程技术...
  • 3篇温州大学
  • 1篇江苏大学

作者

  • 50篇陶向明
  • 32篇谭明秋
  • 16篇叶高翔
  • 13篇赵新新
  • 9篇陈文斌
  • 9篇蔡建秋
  • 7篇许宇庆
  • 7篇尚学府
  • 7篇张其瑞
  • 6篇宓一鸣
  • 4篇金进生
  • 4篇徐小军
  • 4篇陈鑫
  • 3篇何军辉
  • 3篇夏阿根
  • 3篇叶全林
  • 3篇杨波
  • 3篇焦正宽
  • 3篇王芒芒
  • 3篇宁华

传媒

  • 19篇物理学报
  • 8篇物理化学学报
  • 5篇真空科学与技...
  • 4篇浙江大学学报...
  • 2篇原子与分子物...
  • 1篇低温与超导
  • 1篇Chines...
  • 1篇中国科学(A...
  • 1篇化学学报
  • 1篇光学学报
  • 1篇真空
  • 1篇光散射学报
  • 1篇上海工程技术...
  • 1篇中国科学:物...
  • 1篇中国物理学会...
  • 1篇2001年纳...

年份

  • 1篇2016
  • 1篇2013
  • 1篇2012
  • 4篇2011
  • 3篇2010
  • 3篇2009
  • 4篇2008
  • 2篇2007
  • 3篇2006
  • 3篇2005
  • 2篇2004
  • 3篇2003
  • 1篇2002
  • 5篇2001
  • 3篇2000
  • 1篇1999
  • 1篇1997
  • 3篇1996
  • 5篇1995
  • 1篇1994
50 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
c(2×2)O吸附Cu(001)表面结构、电子态与STM图像的研究被引量:8
2004年
用投影子缀加波和CP分子动力学方法研究了贵金属Cu(0 0 1)面的表面结构、弛豫以及O原子的c(2× 2 )吸附状态 .研究结果得出在这种吸附结构中 ,O原子与衬底Cu原子之间的垂直距离约为 0 0 6 9nm ,Cu—O键长为0 194nm ,功函数约为 5 2 9eV ;吸附O原子形成金属性能带结构 ,由于Cu—O的杂化作用 ,在费米能以下约 6 7eV处出现了局域的表面态 .用Tersoff_Hamann途径计算了该表面的扫描隧道显微镜图像 。
陶向明谭明秋徐小军蔡建秋陈文斌赵新新
关键词:电子态键长表面态CP
吸附O的Cu(110)c(2×1)表面原子结构和电子态被引量:5
2005年
采用第一性原理的密度泛函理论方法计算了清洁Cu(110)表面和吸附O原子的Cu(110)c(2×1)表面的原子结构,结构弛豫和电子结构,得到了各种表面结构参数.分别计算了O原子在Cu(110)表面三个可能吸附位置吸附后的能量,并给出了能量最低的吸附位置上各层原子的弛豫特性和态密度.结果表明O吸附后的Cu(110)表面有附加列(added-row)再构的特性,O原子吸附在最表层铜原子上方,与衬底Cu原子的垂直距离为0.016nm,以氧分子为能量基准的吸附能为-1.94eV;同时由于Cu3d-O2p态的杂化作用使得低于费米能级5.5 ̄6.0eV的范围内出现了局域的表面态.计算得到清洁的和氧吸附的Cu(110)表面的功函数分别为4.51eV和4.68eV.电子态密度的结果表明:在Cu(110)c(2×1)表面O吸附的结构下,吸附O原子和金属衬底之间的结合主要是由于最表层Cu原子3d态和O原子2p态的相互作用.
陈文斌陶向明赵新新蔡建秋谭明秋
关键词:结构弛豫
重电子化合物LiV_2O_4的电子结构
2001年
用第一性原理的FP-LMTO能带计算方法研究了重电子化合物LiV2O4的电子结构.结果表明,Fermi面附近的导带是由V原子的3d电子形成的宽度为2.5eV的窄能带,是3d态在立方晶体场中具有t2g对称性的子带;它与O的2p轨道构成的能带约有1.9eV的能隙.计算得出的Fermi能处电子态密度和线性电子比热系数分别是11.1(staes/eV·f-1·u-1.)和26.7mJ/mol·K2.Fermi面处的能带色散具有电子型和空穴型两种,呈现出一种复杂的Fermi面结构.LSDA以及GGA计算表明,LiV2O4有一个磁矩为1.13μB/钒原子,总能比LDA基态低约148meV/f·u.的铁磁性基态.由目前的能带结构计算的结果无法确定这一类Kondo体系的局域磁矩的来源,表明这一化合物中的重电子行为可能有别于在含有4f和5f稀土的重电子合金中观察到的局域磁矩与传导电子的交换作用机制,其中存在量子相变的可能.
谭明秋陶向明何军辉
关键词:电子结构过渡金属氧化物尖晶石结构
氢原子在Be(0001)表面吸附的密度泛函理论研究被引量:6
2010年
采用第一性原理的密度泛函理论研究单个氢原子和多个氢原子在Be(0001)表面吸附性质.给出了氢吸附Be(0001)薄膜表面的原子结构、吸附能、饱和度、功函数、偶极修正等特性参数.同时也讨论了相关吸附性质与氢原子覆盖度(0.06-1.33ML)的关系.计算结果表明:氢原子的吸附位置与覆盖度之间有强烈的依赖关系,覆盖度低于0.67ML时,氢原子能量上易于占据fcc或hcp的中空位置;覆盖度为0.78ML时,中空位与桥位为氢原子的最佳吸附位;覆盖度在0.89到1.00ML时,桥位是氢原子吸附能量最有利的位置;以上覆盖度中Be(0001)表面最外层铍原子的结构均没有发生明显变化.当覆盖度为1.11-1.33ML,高覆盖度下Be(0001)表面的最外层铍原子部分发生膨胀,近邻氢原子渗入到铍表面次层,氢原子易于占据在hcp和桥位.吸附结构中的氢原子比氢分子中的原子稳定.当覆盖度大1.33ML时,计算结果没有发现相对于氢分子更稳定的吸氢结构.同时从分析偶极修正和氢原子吸附垂直高度随覆盖度的变化关系判断氢覆盖度为1.33ML时,在Be(0001)表面吸附达到饱和.
宁华陶向明王芒芒蔡建秋谭明秋
关键词:密度泛函理论吸附能
沉积在硅油表面上的Ag原子分形凝聚体被引量:13
1999年
研究了沉积在硅油表面上的 Ag 原子团簇,经过随机扩散和转动,最终形成大尺度分形凝聚体的凝聚过程.研究结果表明: Ag 原子团簇在这种液体基底上的转动为随机转动,转动角位移的方均值< (Δθ)2 > 和测量时间间隔Δt 满足广义爱因斯坦关系< (Δθ)2 > = 4 DθΔt .随机转动系数 Dθ与凝聚体面积 S 满足指数关系 Dθ∝ S- γθ,其中指数γθ= 24 ±03 .此外,还研究了 Ag 原子凝聚体的分形维数与沉积速率以及凝聚时间的关系.
杨波罗孟波陶向明冯春木叶高翔
关键词:原子团簇银原子
3d过渡金属原子单层在Pd(001)表面磁性的第一性原理研究被引量:4
2005年
用第一性原理基础上的超软赝势方法的总能计算,研究了3d过渡金属(Sc,Ti,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Zn)在Pd(001)表面的单层p(1×1)和c(2×2)结构的表面磁性和总能.所得结果表明对于Sc,Ti,V和Cr只存在p(1×1)的铁磁性结构,而Mn只有c(2×2)的反铁磁结构存在.Fe,Co和Ni这三种元素上述两种结构都存在,但是总能上p(1×1)的铁磁结构要低些,因此是比较稳定的结构.而Cu和Zn在该表面上的单层中不存在上述两种结构.对于V的p(1×1)铁磁结构,计算得到的每个V原子磁矩为2.41μB,大于用全电子方法得到的0.51μB.两种计算方法得到其他金属原子(Cr,Mn,Fe,Co,Ni)的表面磁矩比较相近,都比孤立原子磁矩略小.
赵新新陶向明陈文彬蔡建秋谭明秋
沉积在α-Al_2O_3分形基底上Ag薄膜的特性
1994年
报道了采用磁控溅射法在α-Al_2O_3分形基底上沉积Ag薄膜表面的形貌、结晶状态以及其V-I特性.结果表明:分形的Al_2O_3基底导致Ag薄膜具有起伏不平的结构、较差的结晶状态并且存在大量的孔洞,它们同样受基底温度和薄膜厚度的影响.在一定的厚度范围内,Ag薄膜呈现反常的非线性I(V)特性,其行为也受薄膜厚度、基底温度和测试环境的强烈影响.
许宇庆叶高翔王劲松陶向明张其瑞
关键词:磁控溅射
氯原子在Cu(111)表面的吸附结构和电子态被引量:2
2009年
密度泛函理论(DFT)总能计算研究了不同覆盖度下氯原子在Cu(111)表面的吸附结构和表面电子态.计算结果表明,清洁Cu(111)表面自由能σ_为15.72 eV/nm^2,表面功函数φ为4.753 eV.在1/4ML和1/3ML覆盖度下,每个氯原子在Cu(111)表面fcc谷位的吸附能分别等于3.278 eV和3.284 eV.在1/2ML覆盖度下,两个紧邻氯原子分别吸附于fcc和hcp谷住,氯原子的平均吸附能为2.631 eV.在1/3ML覆盖度下,fcc和hcp两个位置氯原子的吸附能差值约为2 meV,与正入射X光驻波实验结合蒙特卡罗方法得到结果(<10 meV)基本一致.在1/4ML、1/3ML和1/2ML覆盖度下,吸附后Cu(111)表面的功函数依次为5.263 eV、5.275 eV和5.851 eV.吸附原子和衬底价轨道杂化形成的局域表面电子态位于费米能级以下约1.2 eV、3.6 eV和4.5 eV等处.吸附能和电子结构的计算结果表明,氯原子间的直接作用和表面铜原子紧邻氯原子数目是决定表面结构的两个重要因素.
赵新新陶向明宓一鸣谭明秋
关键词:吸附能电子态密度功函数
铁电多层膜的制备和特性
1996年
本文首次对铁电多层膜的制备和其特性进行研究。实验结果表明,铁电多层膜中各子层厚度和制膜时工艺条件的改变对其相结构和铁电特性有明显的影响。铁电多层膜由钙钛矿相和焦绿石相所组成。当多层膜中第一、第三层的厚度为0.15μm时,改变第二层的厚度,当其为0.15μm时,多层膜的铁电特性为最好并且膜中钙钛矿相的含量增大。当第一、二、三层的厚度相同时,改变其厚度到0.1μm时,此时多层膜的铁电特性为最好并且钙钛矿相的含量增大。沉积第二层Pb(Zr0.48Ti0.52)O3膜时衬底温度较低时有利于其铁电特性提高,但气体压强对其影响不大。
许宇庆张其瑞陶向明陶向明
关键词:多层膜磁控溅射铁电材料
液相基底表面一维晶体生长机理的计算机模拟
在过去几十年里,各种纳米结构的研究及制备受到了极大的关注,如纳米线、纳米管、纳米环、分枝状原子凝聚体等。在实验领域,通过精确控制生长条件(如沉积速率、基底温度、沉积厚度等),一维纳米结构可以在晶体表面、分子模板等固相基底...
程毅卢晨曦杨波陶向明王剑峰叶高翔
关键词:晶体生长
共5页<12345>
聚类工具0