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齐军

作品数:8 被引量:25H指数:3
供职机构:清华大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学金属学及工艺一般工业技术更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 2篇学位论文

领域

  • 4篇电子电信
  • 3篇金属学及工艺
  • 3篇理学
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 5篇激光
  • 4篇划片
  • 4篇激光划片
  • 2篇力学性能
  • 2篇摩擦学
  • 2篇摩擦学性能
  • 2篇激光打标
  • 2篇激光器
  • 2篇ND:YAG
  • 2篇INSB
  • 2篇力学性
  • 1篇氮化碳
  • 1篇氮化碳薄膜
  • 1篇调Q
  • 1篇对比度
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇声光
  • 1篇声光调Q
  • 1篇气相沉积

机构

  • 8篇清华大学
  • 4篇澳门大学
  • 1篇华北光电技术...

作者

  • 8篇齐军
  • 4篇朱允明
  • 3篇王昆林
  • 3篇梁绵长
  • 2篇温诗铸
  • 2篇雒建斌
  • 1篇李文治
  • 1篇王静
  • 1篇方鸣岗
  • 1篇虞孝舜

传媒

  • 2篇材料工程
  • 1篇应用激光
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇激光与红外
  • 1篇微细加工技术

年份

  • 1篇2001
  • 2篇2000
  • 4篇1999
  • 1篇1998
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
激光脉冲重复频率对InSb划片的影响被引量:2
1999年
激光划片是半导体工业中一种有效的划片方法。目前在半导体材料划片中多采用调 Q Nd: Y A G 激光器。脉冲重复频率是这种激光器的一个重要参数,它影响着激光器的平均输出功率、脉冲峰值功率以及脉冲宽度等特性。因此,脉冲重复频率对激光划片效果有重要影响。研究了利用调 Q Nd: Y A G 激光对 In Sb 的激光划片,得出了刻槽深度和宽度与脉冲重复频率之间的关系。还从理论上探讨了划片时激光束和材料的相互作用过程,分析了各种刻槽形成的原因。
齐军王昆林梁绵长朱允明
关键词:激光器脉冲重复频率激光划片INSB
离子辅助轰击能量对类金刚石薄膜性能的影响被引量:3
2000年
研究了利用IBAD方法沉积类金刚石薄膜时,离子的辅助轰击能量对薄膜的微观结构、表面粗糙度、弹性、硬度以及摩擦系数的影响,获得了机械和摩擦性能优异的类金刚石薄膜。讨论了薄膜微观结构和性能之间的关系,分析了不同硬度测试方法的差异。
齐军雒建斌王静李文治温诗铸
关键词:类金刚石薄膜IBAD离子轰击表面粗糙度
声光调Q Nd:YAG激光对硅划片的研究被引量:3
1999年
研究了利用调QNdYAG激光对硅片的激光划片,得出了刻槽深度和宽度与工艺参数之间的关系。还从理论上探讨了划片时激光束和材料的相互作用过程,推导了激光束使材料发生熔化和汽化时的能量密度阈值。
齐军王昆林梁绵长朱允明
关键词:激光划片硅片
激光打标的标记对比度的分析被引量:5
1999年
设计了一种能对标记对比度进行定量分析的装置,并对调QNd:YAG激光在45#钢上所打标记进行了分析.得出了标记对比度随各工艺参数的变化规律;标记处的能谱图表明了材料氧化程度和标记对比度的关系.
齐军王昆林梁绵长朱允明
关键词:激光打标对比度45钢
CN_x薄膜的结构、力学性能和摩擦学性能被引量:11
2000年
采用射频磁控溅射方法制备了非晶CNx薄膜。利用纳米硬度计研究了薄膜沉积过程中基体负偏压对薄膜硬度和弹性的影响。利用X光电子能谱分析了CNx薄膜的结构。另外 ,还研究了在微动摩擦实验中振动频率、振幅和载荷对摩擦系数的影响。
齐军雒建斌温诗铸
关键词:氮化碳薄膜射频磁控溅射
化学气相沉积碳基硬质薄膜的力学与摩擦学性能
该文利用化学气沉积(CVD)方法制备了不同种类的碳基硬质薄膜,工利用显微激光喇曼和XPS分析了它们的结构,利用球-盘摩擦试验机、纳米硬度计、AFM等设备研究了其力学与摩擦学性能.
齐军
关键词:化学气相沉积力学性能摩擦学性能XPS分析
文献传递
调Q Nd:YAG激光打标和激光划片的研究
该文系统地研究了调Q Nd:YAG激光打标与激光划片工艺,并通过理论分析得出了激光打标能量密度阈值及刻痕深度的表达式,此外还设计了标记的比度的分析装置.该文的目的在于了解各工艺参数对激光打标和激光划片结果的影响,促进激...
齐军
关键词:激光打标激光划片
InSb的激光划片研究被引量:1
1999年
研究了对InSb的激光划片过程,得出了刻槽深度和宽度随着脉冲重复频率、工作电流和刻划速度的变化规率。
齐军王昆林梁绵长朱允明方鸣岗虞孝舜
关键词:激光划片脉冲频率激光加工
共1页<1>
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