吴振辉
- 作品数：15 被引量：16H指数：3
- 供职机构：武汉工程大学材料科学与工程学院等离子体化学与新材料湖北省重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金湖北省高等学校优秀中青年科技创新团队计划项目湖北省自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术化学工程电子电信更多>>
- 非对称磁镜场ECR氧等离子体刻蚀CVD金刚石膜
- <正>超光滑表面CVD金刚石膜器件的应用在现代社会中日益广泛,而生产出的CVD金刚石膜表面往往是粗糙不平的,需进行刻蚀、抛光等后序加工后,才能达到应用要求。本文提出一种新的CVD金刚石膜刻蚀方法——非对称磁镜场ECR氧等...
- 谭必松马志斌吴振辉
- 文献传递
- CVD金刚石膜的抛光研究进展被引量：6
- 2008年
- 化学气相沉积的金刚石膜表面一般比较粗糙,需要经过抛光才能实现其具体的工业应用。本文介绍了各种抛光CVD金刚石膜的方法及近来研究进展,分析了各种技术的优缺点,并结合工业应用对CVD金刚石膜的抛光前景作了展望。
- 吴振辉马志斌谭必松张磊吴利峰
- 关键词：CVD金刚石膜抛光
- 低气压直流辉光等离子体实验装置被引量：1
- 2009年
- 介绍了低气压下直流辉光放电等离子体的实验装置,该装置具有结构合理、调节方便、测量参数多等特点,可在其上开展等离子体参数测量、等离子体激发机理研究等多项教学实验。
- 龙珏吴振辉周旋夏明荣马志斌
- 电子回旋共振等离子体源及其刻蚀金刚石膜的研究
- 本文在自主设计的ECR等离子体装置上开展了等离子体电子、离子参数的测量研究，并利用ECR等离子体对等离子体化学气相沉积（PCVD）金刚石膜进行了刻蚀，主要工作如下：
（1）设计并组装了一台磁场位形可调的微波EC...
- 吴振辉
- 关键词：ECR等离子体化学气相沉积金刚石膜刻蚀机械抛光电子密度
- 文献传递
- 一种从工业有机废气中回收微细碳粉的方法和装置
- 本发明提供的从工业有机废气中回收微细碳粉的方法是：利用微波激励工业有机废气放电产生常压微波等离子体射流，该射流经高频感应加热后与冷却罩接触后，使射流中含有的处于活性状态的碳离子或碳原子迅速失去活性而形成微细碳粉，同时有机...
- 马志斌何艾华汪建华吴利峰张磊吴振辉
- 文献传递
- 一种从工业有机废气中回收微细碳粉的方法和装置
- 本发明提供的从工业有机废气中回收微细碳粉的方法是：利用微波激励工业有机废气放电产生常压微波等离子体射流，该射流经高频感应加热后与冷却罩接触后，使射流中含有的处于活性状态的碳离子或碳原子迅速失去活性而形成微细碳粉，同时有机...
- 马志斌何艾华汪建华吴利峰张磊吴振辉
- 文献传递
- 非对称磁镜场ECR氧等离子体刻蚀CVD金刚石膜
- 超光滑表面CVD金刚石膜器件的应用在现代社会中日益广泛,而生产出的CVD金刚石膜表面往往是粗糙不平的,需进行刻蚀、抛光等后序加工后,才能达到应用要求。本文提出一种新的CVD金刚石膜刻蚀方法——非对称磁镜场ECR氧等离子体...
- 谭必松马志斌吴振辉
- 氧等离子体刻蚀CVD金刚石膜被引量：2
- 2009年
- 分别采用直流辉光、微波和电子回旋共振3种氧等离子体对CVD金刚石膜表面进行了刻蚀.利用扫描电子显微镜对三种等离子体刻蚀后金刚石膜表面的形貌进行了观察分析.通过对刻蚀后形貌差异的比较,探讨了它们各自的刻蚀机理,并从等离子体鞘层理论出发建立了刻蚀模型.
- 吴振辉马志斌谭必松郑先锋汪建华
- 关键词：CVD金刚石膜
- 一种从工业废气中回收微细硅粉或微细硫粉的方法
- 本发明提供了从工业废气中回收微细硅粉或微细硫粉的方法。该方法是：首先利用微波激励含硅或含硫的工业废气放电产生常压微波等离子体射流，该常压微波等离子体射流经高频感应加热后与收集器的冷却罩接触作用后，使射流中含有的处于活性状...
- 马志斌何艾华汪建华吴利峰张磊吴振辉
- 文献传递
- 微波ECR氧等离子体参数测量被引量：3
- 2009年
- 利用双探针对微波ECR氧离子体参数进行了诊断研究,测量了等离子体的双探针伏安曲线并计算出电子温度和离子密度,分析了气压、微波功率、氧气流量等参数对等离子体参数的影响.结果表明:a.随着气压的升高,等离子体密度先增大后减小,电子温度逐渐减小.b.等离子密度随微波功率的增加先增加后达到饱和,电子温度受微波功率影响很小.c.随着氧气流量的增加,等离子体密度和电子温度都减小.
- 谭必松马志斌吴振辉
- 关键词：ECR等离子体电子温度等离子体密度
