您的位置： 专家智库 > >

吴高军

作品数：2 被引量：1H指数：1
供职机构：西安工业大学光电工程学院更多>>
发文基金：陕西省教育厅科研计划项目更多>>
相关领域：化学工程理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇化学工程
  • 1篇理学

主题

  • 2篇石英玻璃
  • 2篇抛光
  • 2篇面粗糙度
  • 2篇表面粗糙度
  • 2篇磁流变
  • 2篇磁流变抛光
  • 2篇粗糙度
  • 1篇正交
  • 1篇正交实验
  • 1篇石英
  • 1篇去除率
  • 1篇光学零件
  • 1篇场强
  • 1篇磁场
  • 1篇磁场强度

机构

  • 2篇西安工业大学

作者

  • 2篇吴高军
  • 1篇阳志强
  • 1篇杭凌侠
  • 1篇郭忠达
  • 1篇刘卫国

传媒

  • 1篇西安工业大学...

年份

  • 2篇2009
共 2 条 记 录，以下是 1-2
全选 清除 导出
排序方式：
基于环形磁流变抛光技术的超光滑抛光研究
石英玻璃在国防、化工、医疗、机械等各个领域发挥着极为重要的作用。石英玻璃的磁流变抛光技术的超光滑抛光工艺的研究，目前国内这方面的报道较少。本论文对石英玻璃的磁流变抛光的研究工作在国内是较早进行的。 磁流变抛光技...
吴高军
关键词：磁流变抛光石英玻璃去除率磁场强度表面粗糙度
文献传递
环带式磁流变抛光加工石英光学零件实验分析被引量：1
2009年
针对磁流变抛光工艺参数对加工石英光学零件表面粗糙度的影响规律,进行了平面石英玻璃光学零件的工艺实验.应用正交实验方法分析了磁流变抛光中主要工艺参数:磁场强度、工件轴转速、平摆速度、抛光盘与工件间的间隙对石英玻璃表面粗糙度的影响规律,确定了石英玻璃磁流变抛光最优工艺因素.并分阶段采用不同工艺参数进行磁流变抛光,抛光后石英玻璃光学零件的表面粗糙度值达到0.6 nm.
郭忠达吴高军阳志强刘卫国杭凌侠
关键词：磁流变抛光表面粗糙度正交实验石英玻璃
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0