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张立超

作品数:59 被引量:138H指数:6
供职机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
发文基金:国家科技重大专项国家自然科学基金应用光学国家重点实验室开放基金更多>>
相关领域:理学机械工程一般工业技术电子电信更多>>

文献类型

  • 29篇期刊文章
  • 29篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 21篇理学
  • 6篇机械工程
  • 5篇一般工业技术
  • 4篇电子电信
  • 1篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇医药卫生
  • 1篇文化科学

主题

  • 30篇光学
  • 11篇多层膜
  • 11篇膜厚
  • 10篇极紫外
  • 9篇镀膜
  • 8篇溅射
  • 8篇光学镀膜
  • 6篇元件
  • 6篇深紫外
  • 6篇离子束
  • 6篇离子束溅射
  • 6篇膜厚均匀性
  • 6篇膜系
  • 6篇均匀性
  • 6篇激光
  • 6篇光刻
  • 6篇光学薄膜
  • 5篇热蒸发
  • 5篇面形
  • 5篇光学元件

机构

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作者

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  • 3篇曹健林
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  • 2篇金卫华
  • 2篇朱洪力
  • 1篇曹召良
  • 1篇何锋赟

传媒

  • 7篇中国光学
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  • 2篇光学学报
  • 2篇光电工程
  • 2篇微细加工技术
  • 1篇中国激光
  • 1篇光子学报
  • 1篇激光技术
  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇分析仪器
  • 1篇中国光学与应...

年份

  • 1篇2019
  • 4篇2018
  • 9篇2017
  • 10篇2016
  • 7篇2015
  • 3篇2014
  • 3篇2013
  • 1篇2012
  • 2篇2011
  • 5篇2010
  • 1篇2009
  • 3篇2008
  • 5篇2007
  • 2篇2006
  • 2篇2005
  • 1篇2004
59 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
极紫外多层膜残余应力初步研究被引量:3
2005年
针对极紫外多层膜在激光等离子体诊断、极紫外光刻等方面的应用,进行了Mo/Si多层膜残余应力的实验研究,讨论了多层膜残余应力的成因。实验结果表明:Mo单层膜表现为张应力, Si单层膜表现为压应力;通过传统方法制备的13.0 nm处高反射率的40对Mo/Si多层膜会产生-500 MPa左右的压应力,其压应力主要是由膜层之间的贯穿扩散引起的;通过改变膜层比率可以在一定程度上补偿因贯穿扩散产生的压应力,但是以牺牲多层膜反射率为代价。
向鹏金春水张立超金伟华刘颖敏曹健林
关键词:极紫外多层膜残余应力
利用斐索干涉仪检测大口径元件膜厚均匀性的方法
本发明涉及一种利用斐索干涉仪检测大口径元件膜厚均匀性的方法,包括以下步骤:对所述大口径元件进行预处理,消除大口径元件内部残余应力;静置第一预设时间后,利用斐索干涉仪对大口径元件进行面形测量,并标记为初始面形W1;为大口径...
才玺坤武潇野时光张立超隋永新杨怀江
文献传递
提高深紫外大口径球面光学元件膜系一致性的方法
提高深紫外大口径球面光学元件膜系一致性的方法,涉及深紫外薄膜制备领域,解决了在采用热蒸发方法为大口径、大口径/曲率半径球面光学元件镀制深紫外减反膜系时,由于元件表面不同位置沉积速率和沉积角不同,导致元件表面各处厚度及填充...
才玺坤武潇野时光张立超隋永新杨怀江
文献传递
用衍射仪测量等周期多层膜膜厚随机变化量的方法
本发明涉及多层膜参数测量技术。在X射线衍射仪上测量多层膜,得到记录有反射率或衍射光强及其入射角θ的数据文件;利用一个峰值反射率或两个峰值衍射光强及其入射角θ和衍射级m,再根据多层膜的比值γ、周期数N和单界面反射系数r<S...
杨雄姚志华张立超金卫华金春水
文献传递
一种纳米级多层膜结构的测量方法
本发明属于光学测量技术领域,是一种纳米级多层膜结构的测量方法。本发明首先建立周期内四层结构模型,然后测量多层膜的X射线掠入射反射率R’,根据多层膜的详细结构模型计算其X射线掠入射反射率R,以此建立评价函数FOM(d1,d...
金春水朱洪力张立超
文献传递
溅射法制备多层膜沉积速率的标定被引量:5
2010年
为消除溅射沉积多层膜过程中产生的膜厚随机误差,实现多层膜膜厚的精确控制,提出了一种精确标定薄膜沉积速率的方法。该方法通过对多次实验结果进行最小二乘拟合得到薄膜沉积速率。对随机误差基本特性的分析表明,随着实验次数的增加,沉积速率将逐渐逼近真值。基于这一原理,可以对薄膜的沉积速率进行精确标定,同时提取出膜厚随机误差,进而确定镀膜机的膜厚控制精度,获得精确控制多层膜膜厚所需要的完整信息。选用两种精度不同的沉积设备,采用提出的方法对所制备的多层膜进行了测试。结果表明,多层膜的膜厚控制精度随沉积设备而异:其中低成本的普通镀膜机只能实现0.1 nm的膜厚控制精度;而另一台性能较高的镀膜机的膜厚控制精度优于0.01 nm。
张立超
关键词:多层膜溅射法沉积速率控制精度
软X射线多层膜光栅被引量:1
2004年
详细介绍了软X射线多层膜光栅的国内外发展概况和广阔的应用领域,全面分析了它的制作工艺,并指出制作多层膜光栅的关键技术及解决方案。
曹召良张立超曹健林
关键词:软X射线多层膜光栅
可调节式光学镀膜夹具
可调节式光学镀膜夹具,涉及光学镀膜领域,解决了现有镀膜夹具存在的只针对单一尺寸和单一形状的待镀膜基片而当待镀膜基片的尺寸和形状发生改变时不再适用的问题。本发明包括连接构件;开有多个T型槽的固定导向构件;一一对应安装在T型...
时光张立超梅林才玺坤武潇野贺健康隋永新杨怀江
一种光度计变角度测试夹具
本发明一种光度计变角度测试夹具,属于光谱测量领域,解决了现有技术中测量不准确、误差大的技术问题;本发明包括支撑机构和两个相同的样品夹持机构,所述支撑机构包括连接单元和角度转换单元,所述连接单元包括一个U形槽和三个通孔,连...
时光张立超梅林武潇野才玺坤赵灵贺健康隋永新杨怀江
文献传递
球面元件表面AlF_3薄膜的光学特性和微观结构表征被引量:5
2013年
在模拟球面元件曲率半径的仿面形夹具上镀制了AlF3单层薄膜,并对不同口径位置上的薄膜进行了比较,以表征球面元件表面镀制薄膜的光学特性和微观结构。首先,采用紫外可见光分光光度计测量了不同口径位置上薄膜样品的透射和反射光谱,反演得出AlF3的折射率和消光系数。然后,使用原子力显微镜观察了样品的表面形貌和表面粗糙度。最后,使用X射线衍射仪对薄膜的内部结构进行了表征。实验结果表明:在球面不同位置镀制的AlF3单层薄膜样品的光学损耗随着所在位置口径的增大而增大。口径为280 mm处的消光系数是中心位置处消光系数的1.8倍,表面粗糙度是中心位置的17.7倍。因此,球面元件需要考虑由蒸汽入射角不同带来的光学损耗的差异。
时光梅林张立超
关键词:热蒸发
共6页<123456>
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