戴达煌 作品数:32 被引量:71 H指数:6 供职机构: 广州有色金属研究院 更多>> 发文基金: 广东省自然科学基金 广东省技术创新 更多>> 相关领域: 金属学及工艺 一般工业技术 理学 电子电信 更多>>
金刚石和类金刚石膜研究及其在电声领域中的应用 被引量:8 1995年 金刚石和类金刚石膜是当今材料界的研究热点之一,有着极其诱人的应用前景。本文简要综述了该膜系的发展过程和现在水平。并结合作者自己的研究工作,对膜系应用于扬声器振膜上以提高其高频响应范围的研究和应用工作进行较全面的调研,综述了国内外在该领域的最新进展。 罗广南 谢致薇 郑健红 袁镇海 邓其森 戴达煌关键词:金刚石膜 类金刚石膜 液晶显示器用氧化铟锡透明导电玻璃国家标准研究与制订 袁镇海 戴达煌 赵小伟 王志洁 付志强等 该标准主要规定了液晶显示器用氧化铟锡(IT0)透明导电玻璃的技术要求(包括玻璃基片规格、SiO<,2>阻挡层规格、IT0导电膜层规格、膜层缺陷、检查和测试方法、检验规则)、标志、包装、运输及贮存。中国ITO透明导电玻璃经...关键词:关键词:液晶显示器用 氧化铟锡 透明导电玻璃 真空阴极电弧沉积TiN超硬膜的研究 被引量:5 1993年 研究了真空阴极电弧法沉积 TiN 超硬膜的工艺和应用.结果表明,氮气分压强和负偏压对膜层的结构和性能有很大影响,在氮气分压强为1.30Pa,负偏压为—300V 时沉积的膜层表面"钛滴"少,膜层致密,为细柱状晶和粒状晶结构,具有(220)和(111)织构,硬度可达到 Hv2100以上,涂层钻头寿命达到了未涂覆涂层钻头的6.7倍. 袁镇海 罗广南 谢致薇 戴达煌关键词:氮化钛 高保真类金刚石/钛复合球顶高频扬声器振膜的研制 1995年 本文采用真空阴极电弧沉积方法在纯钛球顶扬声器振膜基体上沉积类金刚石(DLC)薄膜。研制成DLC/Ti复合球顶振膜。着重讨论了钛基体的材质、厚度、振膜形状尺寸、DLC镀膜工艺参数对复合振膜性能的影响,并讨论了在镀膜过程中采用辅助工夹具以及合理的遮挡技术,保证振膜不变形和最佳的DLC膜层厚度与分布,使DLC/Ti球顶复合振膜频响达30kHz。 袁镇海 谢致薇 罗广南 邓其霖 戴达煌 郑建红关键词:扬声器振膜 类金刚石 镀膜工艺 CrTiAlCN多元多层梯度膜的制备及其结构 被引量:6 2009年 采用中频反应磁控溅射、离子束辅助方法沉积CrTiAlCN多元硬质薄膜,利用扫描电镜、俄歇电子谱、透射电镜及X射线衍射等技术对膜层的过渡层、界面及微观结构进行研究。结果表明:沉积制备的膜层为多层梯度过渡结构,成分深度分布及相结构分析证实,所制备的多元多层梯度膜与所设计的基体/Cr/CrN/CrTiAlN/CrTiAlCN结构相吻合;在梯度过渡中,不同层之间界面体现为渐变过渡过程;沉积制备的多元多层梯度膜硬度高达26.31GPa,膜/基结合力大于80N,摩擦因数低至0.113,力学性能优良。 林松盛 代明江 朱霞高 李洪武 侯惠君 林凯生 况敏 戴达煌关键词:磁控溅射 离子束辅助 甲烷浓度对金刚石膜表面形貌及其热导率的影响 被引量:1 2002年 以甲烷为碳源气体 ,用直流等离子射流法制备了金刚石膜 .研究了不同甲烷浓度对金刚石膜的表面形貌和热导率的影响 .结果表明 ,在甲烷浓度φ(CH4)为 1.5 %时 ,可以获得较高热导率的金刚石膜 . 代明江 宋进兵 周克崧 戴达煌 刘正义 瞿全炎关键词:甲烷 金刚石膜 表面形貌 热导率 等离子体化学气相沉积的布气装置之设计 被引量:1 2002年 推导了在设计真空镀膜设备时 ,计算镀膜室内布气管的直径和出气孔孔径的公式 ,di =[d-41- D-4L∑im=2(n + 1- m) /(h + 10 -6Bq) ]-1/4 ,以达到均匀布气的目的 .给出了在等离子体化学气相沉积设备中的计算实例及应用情况 ,实践证明 ,用此公式设计真空镀膜均匀布气装置是可行的 . 黄绍江 谢红希 侯惠君 戴达煌关键词:等离子体化学气相沉积 真空沉积 真空阴极电弧沉积碳氮膜的研究 被引量:2 2001年 以氮气为反应气体 ,用真空阴极电弧沉积法沉积了CNx膜 ,并利用金相显微镜、Auger电子谱仪、FTIR及XRD对其进了分析。结果表明 :真空阴极电弧沉积法可以制备含N量高。 袁镇海 付志强 邓其森 林松盛 郑健红 戴达煌关键词:氮气 化学成分 RF-PCVD制备无色透明类金刚石保护膜的研究 本文在传统RF-PCVD的设备上采用磁约束增强技术,在玻璃上低温沉积(<150℃)出优质无色透明类金刚石保护膜(Diamond-like Carbon,DLC)。膜/基可见光透光率高(>90%),有相当高的硬度(Hv9-... 朱霞高 林松盛 侯惠君 袁镇海 戴达煌关键词:无色透明 类金刚石膜 VCAD法沉积氮化钛膜的X-射线研究 被引量:2 1992年 用 VCAD 法在不锈钢和工模具钢基体上沉积均匀、致密的 TiN 膜时,TiN 膜的色泽、结晶取向和点阵常数均可能随着工艺参数的改变而改变,论文作者用 XRD 法研究了不同条件下该 TiN 膜的结构和点阵常数的变化,以及择优取向度,并对膜的行为差异作了分析,结果表明:随着涂层中氮含量的增加,点阵常数值增大;TiN_x 的色泽与氮含量有关;择优取向主要取决于偏压。 刘兴诚 袁镇海 戴达煌 罗广南 谢致薇关键词:X-射线