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曾志锋
作品数:
1
被引量:1
H指数:1
供职机构:
武汉大学物理科学与技术学院
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发文基金:
国家自然科学基金
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相关领域:
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合作作者
何永华
武汉大学物理科学与技术学院
魏正和
武汉大学物理科学与技术学院
于国萍
武汉大学物理科学与技术学院
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2004
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射频溅射法制备掺铂TiO_2薄膜的基本性质
被引量:1
2004年
用射频反应溅射法制备了掺铂的TiO2薄膜.用X射线衍射仪(XRD),紫外 可见(UV vis)光谱仪,电子扫描显微电镜(SEM)和X光电子能谱分析仪(XPS)对薄膜的基本性质进行了表征.研究结果表明:掺铂可以显著促进锐钛矿相的生长;TiO2薄膜在紫外的吸收边发生红移,其光谱响应范围得到了提高;铂氧化物的分解,促使薄膜表面出现了分散分布的微米尺寸岛状突出物,同时导致单质铂在薄膜表面发生富集.
何永华
于国萍
魏正和
曾志锋
关键词:
射频溅射法
二氧化钛薄膜
富积
表面形貌
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