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曾志锋

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：武汉大学物理科学与技术学院更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇氧化钛薄膜
  • 1篇射频溅射
  • 1篇射频溅射法
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射法
  • 1篇溅射法制备
  • 1篇二氧化钛薄膜
  • 1篇富积
  • 1篇TIO_2薄...
  • 1篇表面形貌

机构

  • 1篇武汉大学

作者

  • 1篇曾志锋
  • 1篇于国萍
  • 1篇魏正和
  • 1篇何永华

传媒

  • 1篇武汉大学学报...

年份

  • 1篇2004
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
射频溅射法制备掺铂TiO_2薄膜的基本性质被引量：1
2004年
用射频反应溅射法制备了掺铂的TiO2薄膜.用X射线衍射仪(XRD),紫外 可见(UV vis)光谱仪,电子扫描显微电镜(SEM)和X光电子能谱分析仪(XPS)对薄膜的基本性质进行了表征.研究结果表明:掺铂可以显著促进锐钛矿相的生长;TiO2薄膜在紫外的吸收边发生红移,其光谱响应范围得到了提高;铂氧化物的分解,促使薄膜表面出现了分散分布的微米尺寸岛状突出物,同时导致单质铂在薄膜表面发生富集.
何永华于国萍魏正和曾志锋
关键词：射频溅射法二氧化钛薄膜富积表面形貌
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共1页<1>
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