朱立强
- 作品数：2 被引量：1H指数：1
- 供职机构：大连民族学院理学院光电子技术研究所更多>>
- 相关领域：理学电子电信更多>>
- ICP-PECVD法制备类金刚石膜
- 2009年
- 以CH4为放电气体,利用电感耦合等离子体化学气相沉积(ICP-PECVD)法制备了类金刚石薄膜,使用FTIR、AFM、台阶仪对薄膜进行了表征,并对薄膜的沉积过程进行了光谱诊断(OES).研究了射频功率和基底在放电腔体中的位置对薄膜表面粗糙度、沉积速率和硬度的影响.实验结果表明:A位置处薄膜粗糙度随着功率的增加先减小后增大,随着射频功率的升高,薄膜的硬度逐渐增大,沉积速率先增大后减小,而薄膜硬度和沉积速率都随着与线圈中心距离的增加而减小.光谱诊断结果显示,随着功率的升高,Iβ/Iα和CH的强度呈增大趋势.结合上述研究结果,分析了影响薄膜生长的多种因素.
- 孙丽白杰朱立强刘东平
- 关键词：类金刚石膜粗糙度沉积速率光谱诊断
- 等离子体增强化学气相沉积类金刚石薄膜的研究
- 类金刚石（DLC）薄膜具有优异的物理、化学性能，如高硬度、低摩擦系数、优良的耐磨性、在红外波段的透过性、化学惰性和生物相容性等，使它们在诸如真空微电子学、摩擦学、光电子学、声学、医学材料，直至工业包装、装潢装饰业等领域有...
- 朱立强
- 关键词：类金刚石薄膜化学气相沉积电感耦合
- 文献传递
