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白辰东

作品数:12 被引量:64H指数:4
供职机构:中国科学院化工冶金研究所过程工程研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:化学工程金属学及工艺理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 8篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 1篇学位论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 5篇化学工程
  • 4篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 4篇磁粉
  • 3篇化学气相
  • 3篇化学气相沉积
  • 2篇等离子体化学...
  • 2篇金属
  • 2篇Α-FE
  • 2篇薄膜应力
  • 2篇
  • 2篇磁记录
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化钛
  • 1篇镀层
  • 1篇镀膜
  • 1篇氧化锆
  • 1篇氧化锆陶瓷
  • 1篇应力测定
  • 1篇硬膜
  • 1篇真空度
  • 1篇制备金属
  • 1篇碳化钛

机构

  • 7篇西安交通大学
  • 4篇中国科学院化...
  • 1篇中国科学院

作者

  • 12篇白辰东
  • 4篇何家文
  • 4篇徐可为
  • 4篇宋宝珍
  • 3篇陈华
  • 3篇甘耀昆
  • 3篇司新文
  • 2篇刘京玲
  • 1篇梁焕珍
  • 1篇张健
  • 1篇李锐星
  • 1篇喻克宁
  • 1篇陈岚
  • 1篇于利根
  • 1篇李敏
  • 1篇欧阳藩
  • 1篇贺守华
  • 1篇胡奈赛

传媒

  • 2篇金属学报
  • 2篇化工冶金
  • 1篇功能材料
  • 1篇中国表面工程
  • 1篇磁记录材料
  • 1篇表面工程
  • 1篇第四届全国固...
  • 1篇中国有色金属...

年份

  • 1篇2002
  • 1篇1998
  • 1篇1997
  • 2篇1996
  • 2篇1995
  • 3篇1994
  • 2篇1993
12 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
TiCN薄膜的复合硬度与本征硬度的研究
徐可为白辰东
加Si提高PCVD TiN基镀层的耐蚀性和力学性能被引量:1
1996年
在直流PCVDTiN镀膜过程中,加入Si形成(Ti,Si)N镀层。用SiH4作为气源,代替一部分金属卤化物,可降低镀层中的氯含量。含16%Si的(Ti,St)N比二元TiN镀层有较高的硬度。用划痕法和对滚法评定了二者的结合强度。三元镀层在界面上用TiN作底层,则TiN和(Ti,Si)N的界面疲劳强度是相同的。(Ti,Si)N比TiN在高温下有较高的抗氧化性能。用电化学腐蚀方法测定在3.5%NaCl溶液中的耐腐蚀性表明,(Ti,Si)N镀层优于TiN。
陈华白辰东胡奈赛何家文
关键词:耐蚀性力学性能PCVD
ZrO_2陶瓷的制备及应用研究进展被引量:21
2002年
对ZrO2 陶瓷粉末制备工艺和ZrO2 陶瓷烧结技术进行了较为全面的总结 ,并对其在实际中的应用及今后的研究方向作了简要的概括和说明。
陈岚李锐星梁焕珍喻克宁白辰东
关键词:陶瓷粉末氧化锆陶瓷
流态化法制备金属α-Fe磁记录粉的研究被引量:2
1995年
本文采用流态化床反应器,对铁黄(α-FeOOH)进行脱水、煅烧、还原和表面钝化处理,制备出:Hc=80~104KA/m、1~1.3kOe、σ=100~140A·m2/kg(emu/g)的金属磁记录粉。由于流态化床反应器特定的内部结构,使α-FeOOH在热处理及还原过程中,微粉颗粒的流动性好,颗粒间的烧结明显改善,且反应效率高。
白辰东宋宝珍甘耀焜司新文张健刘京玲
关键词:金属磁粉磁粉
等离子体化学气相沉积TiN基硬质镀层膜基结合强度及腐蚀行为的研究
白辰东
关键词:金属腐蚀等离子体化学气相沉积
复印机用显影剂磁粉-墨粉的研制和国产化
宋宝珍甘耀昆欧阳藩刘京玲贺守华司新文白辰东李敏
成果的SF(MG-WB)型,HCF型显影剂超细磁粉是制备激光印字机,CANONNP500,1215,2020,3050等复印机用墨粉的主要原料。NOB-Ⅱ型显影剂(佳腾牌墨粉)是用HCF型磁粉制成的用于上述机型的产品。该...
关键词:
关键词:显影剂墨粉复印机
Seemann—Bohlin薄膜应力测试方法的修正被引量:4
1993年
本文讨论了Seemann-Bohlin(S-B)法应力测定中点阵参数的分散性在Kroner模型的基础上发展了用弹性常数各向异性进行修正的理论,并用它修正了实验数据,结果表明,这种归一化修正是可行的然而与Bragg-Brentano衍射几何应力测试法相比,S-B法由于使用了低角衍射峰。
于利根白辰东陈华徐可为何家文
关键词:应力测定
Ti(C,N)薄膜的复合硬度与本征硬度的研究被引量:22
1995年
本文对不同性质的膜─基体系通过确定C的具体取值对Joensson-Hogmark模型予以修正,研究厂等离子体增强化学气相沉积Ti(C,N)薄膜的硬度及其随成分组织的变化。Ti(C、N)薄膜具有较小的晶粒尺寸和较高的残余压应力,其硬度远高于一般的整体材料,在确定的。工艺条件下,其值上要取决于膜的含碳量,大体成线性增加关系。
徐可为白辰东何家文
关键词:化学气相沉积
等离子体化学气相沉积设备改进及其效果被引量:1
1993年
本文分析了原直流等离子体化学气相沉积设备在镀膜中存在的问题,提出了相应的改进措施和方法,通过一定量的工艺调试及分析检测,发现提高预真空度,降低残留气体压力,附加外热源,可以有效地提高TiN镀层的质量。
白辰东陈华何家文
关键词:等离子体化学气相沉积镀膜镀层真空度热源
TiCN薄膜的残余应力与显微组织
徐可为白辰东
关键词:氮化钛薄膜应力碳化钛残余应力显微组织(金相学)
共2页<12>
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