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韩文

作品数:9 被引量:6H指数:2
供职机构:陕西科技大学更多>>
发文基金:教育部“新世纪优秀人才支持计划”深圳市水务发展中长期战略研究项目陕西省自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学交通运输工程机械工程更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 4篇电子电信
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 6篇电沉积
  • 4篇光学
  • 4篇光学性
  • 4篇光学性能
  • 4篇PBS
  • 2篇乙二胺四乙酸
  • 2篇蒸馏水
  • 2篇致密
  • 2篇晶面
  • 2篇法制
  • 2篇沉积电压
  • 1篇电沉积法
  • 1篇电沉积法制备
  • 1篇电化学
  • 1篇电化学沉积
  • 1篇电压
  • 1篇性能研究
  • 1篇英文
  • 1篇光学薄膜
  • 1篇PH值

机构

  • 8篇陕西科技大学
  • 1篇深圳市特种功...

作者

  • 8篇韩文
  • 7篇曹丽云
  • 7篇黄剑锋
  • 2篇刘星
  • 2篇殷立雄
  • 2篇李嘉胤
  • 2篇吴建鹏
  • 2篇董海锋
  • 1篇曾燮榕

传媒

  • 2篇人工晶体学报
  • 1篇硅酸盐通报
  • 1篇武汉理工大学...
  • 1篇陕西科技大学...

年份

  • 1篇2011
  • 4篇2009
  • 3篇2008
9 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
PbS薄膜的研究进展被引量:1
2008年
通过对PbS薄膜的结构特征、制备方法、应用领域的综述,提出并设计了水热法、溶胶凝胶法和水热电沉积法等几种简单的制备PbS薄膜的新方法,展望了PbS薄膜的发展前景,PbS薄膜将向制备简单化、功能完善化、应用多样化的方向发展。
韩文曹丽云黄剑锋
一种纳米PbS薄膜的制备方法
一种纳米PbS薄膜的制备方法,将分析纯的Pb(NO<Sub>3</Sub>)<Sub>2</Sub>加入蒸馏水中,得A溶液;将分析纯的Na<Sub>2</Sub>S<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>·5H...
曹丽云韩文黄剑锋殷立雄李嘉胤刘星董海锋
文献传递
沉积温度对电沉积PbS薄膜结构和性能的影响
2009年
采用电沉积法在ITO导电玻璃表面沉积了PbS薄膜,并用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及傅立叶变换红外光谱仪(FT-IR)对薄膜的结构和光学性能进行了表征,研究了沉积温度对薄膜的相组成、显微形貌以及光学性质的影响。结果表明:在U=3 V,pH=2.5,T=60℃,沉积时间为20 min,加入EDTA作络合剂的情况下,可制备出沿(111)和(200)晶面取向生长的立方相PbS薄膜。薄膜显微结构均匀而致密,随着反应温度从20℃增加到60℃,薄膜内的压应力逐渐减小,禁带宽度也随着变小。所制备的微晶PbS薄膜的禁带宽度约为0.39 eV。
韩文曹丽云黄剑锋王吉富
关键词:电沉积沉积温度光学性能
pH值对电沉积PbS薄膜结构和性能的影响被引量:3
2009年
采用阴极恒电压法在ITO导电玻璃表面沉积了PbS薄膜,并用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及傅立叶变换红外光谱仪(FT-IR)对薄膜的结构和光学性能进行了表征,研究了沉积液pH值对薄膜的相组成、显微形貌以及光学性质的影响。结果表明:在U=3 V,pH=2.4,沉积时间为20 min,加入EDTA作络合剂的情况下,可制备出沿(111)和(200)晶面取向生长的立方相PbS薄膜。薄膜均匀而致密,随pH值增加,薄膜的压应力及禁带宽度呈现先减小后增大的变化趋势。所制备的微晶PbS薄膜的禁带宽度约为0.38~0.39 eV。
韩文曹丽云黄剑锋
关键词:电沉积PH值光学性能
电化学沉积PbS光学薄膜的制备及性能研究
作为Ⅳ族~Ⅵ族半导体中的重要一员,硫化铅(PbS)纳米晶由于具有小的直接带隙能(0.41eV,300K)和较大的激子玻尔半径(18nm),已被广泛应用于发光二极管(LED)、生物荧光探针、摄影、红外探测、Pb2+离子选择...
韩文
关键词:光学薄膜电化学沉积光学性能
文献传递
电压对电沉积PbS薄膜结构和性能的影响
2008年
采用阴极恒电压法在ITO导电玻璃表面沉积了PbS薄膜,并用X-射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及紫外/可见/近红外光谱仪对薄膜的结构和光学性能进行了表征,研究了沉积电压对薄膜的相组成、显微形貌以及光学性质的影响。结果表明:在U=18 V,pH=2.5,沉积时间为20 min,加入EDTA作络合剂的情况下,可制备出沿(111)和(200)晶面取向生长的立方相PbS薄膜。薄膜组成均匀而致密,对紫外线有较强的吸收作用,而对可见光有较好的透过作用。随沉积电压增加,薄膜的结晶性变好,光吸收性能明显增强。
韩文曹丽云黄剑锋吴建鹏曾燮榕
关键词:电沉积沉积电压光学性能
一种纳米PbS薄膜的制备方法
一种纳米PbS薄膜的制备方法,将分析纯的Pb(NO<Sub>3</Sub>)<Sub>2</Sub>加入蒸馏水中,得A溶液;将分析纯的Na<Sub>2</Sub>S<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>·5H...
曹丽云韩文黄剑锋殷立雄李嘉胤刘星董海锋
文献传递
电沉积法制备PbS薄膜的XRD分析(英文)
2008年
采用阴极恒电压法在ITO导电玻璃表面沉积了PbS薄膜,并用X-射线衍射仪(XRD)对薄膜的结构进行了表征,研究了沉积电压对薄膜的晶相组成的影响.结果表明:在U=3.0 V时,可制备出沿(111)晶面取向生长的立方相PbS薄膜;随沉积电压从3.0 V增加到4.5 V,薄膜的生长取向从(111)晶面变为(200)晶面,且PbS衍射峰的强度越来越强,到18 V时达到最强.
韩文曹丽云黄剑锋吴建鹏
关键词:沉积电压XRD
共1页<1>
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