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伍青青
作品数:
50
被引量:7
H指数:2
供职机构:
中国科学院上海微系统与信息技术研究所
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发文基金:
国家科技重大专项
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相关领域:
电子电信
医药卫生
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合作作者
陈静
中国科学院上海微系统与信息技术...
罗杰馨
中国科学院上海微系统与信息技术...
王曦
中国科学院上海微系统与信息技术...
柴展
中国科学院上海微系统与信息技术...
余涛
中国科学院上海微系统与信息技术...
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陈静
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2011
8篇
2010
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50
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提高部分耗尽型SOI器件射频性能的制备方法
本发明提供一种提高部分耗尽型SOI器件射频性能的制备方法。根据本发明的方法,先在绝缘体上材料结构上形成至少一个器件的源区、栅区、及漏区;随后,对所述源区再进行掺杂使所述源区的部分区域为N型、部分区域为P型;最后再在进行了...
罗杰馨
陈静
伍青青
柴展
余涛
吕凯
王曦
文献传递
一种基于SOI的SiGe-HBT晶体管的制备方法
本发明提供一种基于SOI的SiGe-HBT晶体管的制备方法,该方法通过在所述外基区注入杂质由硼改为氟化硼,并将注入能量和剂量限定在特定范围内,有效解决了薄膜SOI上(小于等于150nm)的SiGe-HBT器件的集电极电阻...
柴展
陈静
罗杰馨
伍青青
王曦
一种六晶体管静态随机存储器单元及其制作方法
本发明提供一种六晶体管静态随机存储器单元及其制作方法,属于存储器设计及制造技术领域,所述存储器单元包括两个反相器及传输门,所述反相器由一结构对称的NMOS晶体管及结构对称的PMOS晶体管互连组成,所述传输门由两个源漏结构...
陈静
伍青青
罗杰馨
柴展
余涛
王曦
文献传递
利用MOSFET输入输出特性确定MOSFET BSIM模型参数宽度偏移量的方法
本发明提供一种利用MOSFET输入输出特性确定MOSFET BSIM模型参数宽度偏移量的方法。首先利用半导体参数测试仪测量至少3个拥有相同沟道长度、不同沟道宽度的MOSFET器件的I<Sub>ds</Sub>-V<Sub...
陈静
伍青青
罗杰馨
肖德元
王曦
文献传递
实现源体欧姆接触的SOI MOS器件制作方法
本发明公开了一种实现源体欧姆接触的SOI MOS器件制作方法,先制作栅区,进行高剂量的源区和漏区轻掺杂,形成较高浓度的轻掺杂N型源区和轻掺杂N型漏区,之后在栅区周围制备侧墙隔离结构,进行源区和漏区离子注入,通过一道在源区...
陈静
伍青青
罗杰馨
肖德元
王曦
一种基于SOI的SiGe-HBT晶体管的制备方法
本发明提出了一种基于SOI的SiGe-HBT晶体管的制备方法,该制备方法通过在基于SOI的SiGe-HBT工艺流程中增加使用一个特定的光刻版,将外基区注入限定在指定的区域,有效解决了薄膜SOI上(小于等于150nm)的S...
柴展
陈静
罗杰馨
伍青青
王曦
BJT等效电路模型的发展
被引量:4
2010年
随着BJT尺寸的缩小以及BJT广泛应用于高速和RF电路,有效及准确的BJT电路设计要求更加精确的等效电路模型。通过介绍模型的基本原理及其对BJT器件关键物理效应的模拟,描述不同模型开发者采用的方式,结合仿真结果分析不同模型的特点。主要从以下几个方面展开:模型的大信号等效电路图;归一化电荷的计算,转移电流表达式;晶体管二阶效应模型,包括基区宽度调制效应(即Early效应)、大注入效应等;大电流条件下的Kirk效应,准饱和效应等。
罗杰馨
陈静
伍青青
肖德元
王曦
关键词:
等效电路模型
BJT
一种SOI双端口SRAM单元及其制作方法
本发明提供一种SOI双端口SRAM单元及其制作方法,所述单元包括:第一反相器,由第一PMOS晶体管及第一NMOS晶体管组成;第二反相器,由第二PMOS晶体管及第二NMOS晶体管组成;获取管,由第三、第四、第五及第六NMO...
陈静
何伟伟
伍青青
罗杰馨
王曦
文献传递
一种SOI纵向双极晶体管及其制作方法
本发明公开了一种SOI纵向双极晶体管及其制作方法,该双极晶体管包括SOI衬底,所述SOI衬底由下至上依次为SOI衬底体区,SOI衬底隐埋氧化层,顶层硅膜,所述SOI衬底上采用集成电路STI工艺在顶层硅膜位置处形成有有源区...
陈静
罗杰馨
伍青青
周建华
肖德元
王曦
文献传递
一种无电容动态随机存储单元及其制作方法与存储方法
本发明提供一种无电容动态随机存储单元及其制作方法与存储方法,所述存储单元采用两个金属-氧化物-半导体场效应管组合,其中一个具有P型掺杂源区的场效应管作为电荷的提供者和存储者,另一个场效应管则作为存储状态的感知者。本发明的...
陈静
伍青青
罗杰馨
余涛
柴展
王曦
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