朱京涛
- 作品数：99 被引量：172H指数：8
- 供职机构：同济大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划教育部“新世纪优秀人才支持计划”更多>>
- 相关领域：理学机械工程一般工业技术电子电信更多>>
- 等离子体诊断用18.2nm Schwarzschild显微镜被引量：5
- 2011年
- 研制了用于超快激光等离子体诊断的Schwarzschild型正入射显微镜,该显微镜工作波长为18.2 nm,数值孔径为0.1,放大倍数为10。根据诊断要求设计了Schwarzschild物镜的光学结构,计算了物镜的光学传递函数,结果显示,设计的物镜在±1 mm视场范围内像方空间分辨力可达125 lp/mm。根据系统工作波长和光线在镜面的入射角度设计了Mo/Si周期多层膜反射镜,制作了Schwarzschild显微镜光学元件,镀制的膜系周期厚度为9.509 nm,周期数为30,对18.2 nm波长的反射率约31.1%。利用激光等离子体光源对24 lp/mm网格进行了成像实验,实验结果表明:系统在中心视场的分辨力为3μm,600μm内视场的分辨力为5μm。
- 王新穆宝忠黄怡翟梓融伊圣振蒋励朱京涛王占山刘红杰曹磊峰谷渝秋
- 关键词：激光等离子体MO/SI多层膜
- 14nm低原子序数材料多层膜的设计和制备被引量：1
- 2011年
- 为了减小常规多层膜的带宽,提高其光谱分辨率,对采用低原子序数材料组成的适用于极紫外和软X射线波段的多层膜进行了研究。首先,在14nm波长处选取3种低原子序数材料对Si/B4C,Si/C和Si/SiC组成多层膜,用随机搜索的方法优化设计了这3种多层膜以及在此波段常用的Mo/Si多层膜。然后,用直流磁控溅射的方法制备Si/B4C,Si/C,Si/SiC和Mo/Si多层膜,并用X射线衍射仪测量拟合多层膜的周期厚度。最后,用同步辐射测试多层膜的反射率。同步辐射测试结果显示,Mo/Si多层膜的带宽最大,为0.57nm;Si/SiC多层膜的带宽最小,为0.18nm,结果与理论基本一致。实验结果表明,低原子序数材料多层膜的带宽要比常规Mo/Si多层膜窄,使用低原子序数材料组成多层膜可以提高多层膜的光谱分辨率。
- 吴文娟张众朱京涛王风丽陈玲燕周洪军霍同林
- 关键词：多层膜磁控溅射光谱分辨率
- 不同本底真空度下SiC/Mg极紫外多层膜的制备和测试被引量：8
- 2009年
- 为研究不同本底真空度对SiC/Mg极紫外多层膜光学性能的影响,利用直流磁控溅射方法在不同本底真空度条件下制备了峰值反射波长在30.4nm的SiC/Mg周期膜。X射线掠入射反射测试结果表明,不同本底真空度条件下制备的SiC/Mg周期多层膜膜层质量有明显差异。用同步辐射测试了SiC/Mg多层膜在工作波长处的反射率,结果表明,本底真空度为6.0×10-5Pa时,SiC/Mg周期膜反射率为43%,而本底真空度在5.0×10-4Pa时,SiC/Mg多层膜反射率仅为30%。同步辐射反射曲线拟合结果表明,反射率随着本底真空度降低是由多层膜Mg膜层中的Mg氧化物含量增多造成的。
- 朱京涛黄秋实白亮蒋晖徐敬王晓强周洪军霍同林王占山陈玲燕
- 关键词：多层膜反射率磁控溅射
- 磁控共溅射制备Si掺杂Al薄膜的应力研究被引量：2
- 2020年
- 为研制真空紫外与极紫外波段Al基薄膜光学元件,详细研究了Al基薄膜的应力特性及其优化方法。利用应力实时测量装置对共溅射技术制备的5种不同Si掺杂质量分数(0、8.97%、16.49%、28.46%、45.73%)的Al-Si复合薄膜进行应力测试,并采用X射线衍射法表征薄膜的结晶状态。结果表明:Al薄膜中的应力表现为压应力,随着Si在Al中掺杂量的增加,Al中的压应力减小,并且Al的结晶度降低,Al(111)晶向的晶粒尺寸也减小,Al的结晶被抑制;当Si的掺杂质量分数从18.63%增大到31.57%时,Al中的压应力转变为张应力,且张应力随Si掺杂量的增加而进一步增大。本研究为制备Al基滤片、单层膜和多层膜元件提供了技术支撑,在极紫外光刻、同步辐射和天文观测领域具有重要的应用价值。
- 朱京涛周涛朱杰赵娇玲朱航宇
- 关键词：真空紫外应力
- 周期多层膜Kirkpatrick-Baez显微镜成像性质分析被引量：12
- 2009年
- 分析了Kirkpatrick-Baez(KB)显微镜的成像性质与周期多层膜元件间的关系。基于分辨力和集光效率要求,设计了KB显微镜的光学结构,模拟了KB系统的成像质量,用W/B4C周期多层膜反射镜进行了X射线成像实验,在±100μm视场内得到优于5μm的空间分辨力结果。实验与模拟结果的对比表明,加工精度和球差是影响中心视场分辨力的关键因素,有效视场的大小受多层膜角度带宽的限制。
- 伊圣振穆宝忠王新黄圣铃朱京涛王占山丁永坤缪文勇董建军
- 关键词：周期多层膜像质
- Schwarzschild物镜装卡应力对光学元件面形的影响被引量：3
- 2013年
- 为了实现接近衍射极限的分辨率,工作在极紫外波段的Schwarzschild物镜要求其光学元件的面形精度达到约1nm(RMS值);而在物镜的装配过程中,装卡产生的应力会影响光学元件的面形精度,定量计算装卡应力对元件面形的影响是获得高分辨率成像的关键。在光学设计、公差分析的基础上,采用有限元模型系统地分析了应力对Schwarzschild物镜光学元件面形精度的影响。结果表明:采用自行设计的物镜结构,应力对主镜面形的影响可以达到0.7nm,而对副镜的影响可以忽略;应力所产生的光学元件面形变化会使系统的几何传递函数(5000lp/mm)从0.76下降到0.61。
- 王玲王新穆宝忠伊圣振朱京涛王占山
- 关键词：有限元面形误差应力
- 4．75keV能点四通道Kirkpatrick-Baez显微镜被引量：8
- 2013年
- 基于CH柱形靶压缩实验的时间分幅诊断需求,研制了4.75keV能点四通道Kirkpatrick-Baez(KB)显微镜。进行了四通道KB系统的光学设计、像质模拟和分析。采用支撑锥芯的方式解决了四通道KB物镜的集成装配问题,并通过"4.75keV+8keV"双能点多层膜完成了实验室内的KB系统装调。该套系统在神光Ⅱ装置成功进行了像质考核实验,获得了高分辨的四象限网格图像,成像间距符合设计要求,具备了开展时间分幅惯性约束聚变物理实验的条件。
- 穆宝忠吴雯靓伊圣振王新蒋励朱京涛王占山方智恒王伟傅思祖
- 关键词：惯性约束聚变等离子体诊断分幅相机
- 亚飞秒啁啾Mo/Si多层膜反射镜的设计、制作与性能检测被引量：1
- 2009年
- 针对利用高次谐波获取亚飞秒脉冲的实验需求,设计制备了啁啾为-2 800 as2的啁啾Mo/Si多层膜反射镜.数值计算表明,采用所设计的啁啾多层膜反射镜可以获得86 as的脉冲.通过直流磁控溅射方法实现了Mo/Si多层膜样品的制备.在合肥同步辐射上进行了多层膜反射率的测量,在所设计的工作波长内,多层膜的平均反射率为5.6±2.3%.在考虑最上层Si的氧化作用后,对测量曲线进行拟合,得到的反射率曲线和膜层厚度分布分别与测试曲线和设计结果相吻合.
- 王风丽陈锐王占山徐敬朱京涛张众
- 关键词：高次谐波磁控溅射反射率
- 一种时间分辨的多色单能X射线成像谱仪
- 本发明涉及一种时间分辨的多色单能X射线成像谱仪，该谱仪包括子午方向上的一块球面物镜和弧矢方向上依次排列的n块球面物镜，n为大于1的整数；n个通道均基于Kirkpatrick-Baez(KB)结构成像，物点发出的X射线经过...
- 穆宝忠章逸舟伊圣振王新朱京涛王占山
- 文献传递
- 极紫外宽带Mo/Si非周期多层膜偏振光学元件
- 研究了极紫外宽带多层膜偏振光学元件,包括反射式检偏器与透射式相移片.基于Mo/Si非周期多层膜结构,采用解析与数值优化相结合的方法进行了多层膜的设计;采用磁控溅射技术制备了多层膜.利用X射线衍射仪对非周期多层膜的结构进行...
- 朱京涛孙丽娟周洪军霍同林王占山王洪昌张众王风丽秦树基陈玲燕崔明启赵屹东
- 关键词：多层膜极紫外
- 文献传递
