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洪亮亮

作品数:6 被引量:17H指数:2
供职机构:华侨大学材料科学与工程学院应用化学系更多>>
发文基金:福建省自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺理学化学工程一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 2篇化学工程
  • 2篇一般工业技术
  • 2篇理学

主题

  • 4篇电沉积
  • 3篇镀层
  • 2篇
  • 2篇磁性能
  • 1篇电结晶
  • 1篇射线衍射
  • 1篇添加剂
  • 1篇镍镀层
  • 1篇柠檬酸钠
  • 1篇钴基
  • 1篇钴基合金
  • 1篇硫酸
  • 1篇硫酸盐体系
  • 1篇锰合金
  • 1篇基合金
  • 1篇合金
  • 1篇XRD
  • 1篇X射线衍射
  • 1篇辨析
  • 1篇表面磁场

机构

  • 6篇华侨大学

作者

  • 6篇洪亮亮
  • 5篇王森林
  • 1篇涂满钰

传媒

  • 1篇华侨大学学报...
  • 1篇材料保护
  • 1篇应用化学
  • 1篇稀有金属

年份

  • 1篇2009
  • 1篇2008
  • 2篇2007
  • 1篇2006
  • 1篇2005
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
柠檬酸钠对硫酸盐体系钴-镍合金电沉积的影响被引量:4
2007年
分别在硫酸盐镀液和添加柠檬酸钠的硫酸盐镀液中电沉积钴-镍合金。采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)和X射线衍射仪(XRD)研究了镀层组成、表面形貌和结构。结果表明,柠檬酸钠有利于钴的沉积,易于获得晶粒细小的镀层;而且镀层的结构主要为面心立方(fcc)相,而在硫酸盐镀液中所得镀层结构主要为六方(hcp)相。采用电化学线性扫描技术研究钴-镍合金的沉积过程,发现添加柠檬酸钠使该合金的沉积电位负移。
洪亮亮王森林
关键词:电沉积柠檬酸钠表面形貌
平行电极表面磁场对电沉积钴-镍镀层的影响被引量:10
2007年
在硫酸盐体系中电沉积钴-镍合金,采用X射线能谱分析和扫描电镜研究pH值、阴极电流密度以及外加平行于阴极表面磁场对镀层组成、表面形貌的影响。发现增大电流密度或者pH,钴-镍合金的沉积速率增大、所得镀层中的钴含量减少,镀层表面的晶粒粒径增大。外加平行于电极表面的磁场可以略微提高沉积速率和电流效率以及使所得镀层表面均匀,晶粒细小。采用X射线衍射研究在镀液pH 3.0下阴极电流密度和外加磁场对所得镀层结构的影响。结果表明,电沉积钴-镍合金镀层呈六方密堆积(hcp)的(100)和(110)晶面择优取向;外加平行于电极表面的磁场可以促进(110)晶面择优生长和抑制(002)晶面择优生长。
王森林洪亮亮
关键词:电沉积磁场
Co-Ni合金的电结晶机理
<正>在硫酸盐铰液中,采用循环伏安法、线性极化法、恒电压阶跃法研究了钴镍合金在玻碳电极上的电沉积特性和电结晶行为。结果表明,该合金的电结晶行为遵循扩散控制下的连续成核三维生长模式;合金在玻碳电极上的起始沉积电位约-0.6...
王森林洪亮亮
文献传递
关于XRD计算镀层织构公式的辨析被引量:2
2008年
通过分析电沉积金属镀层的织构,探讨3种常见的织构公式的应用.分析表明,织构式Mhkl=[ΣIIhhk′lk′l′]/[ΣII0hh0′kkl′l′]采用峰加和的办法是其无法解决的缺陷,因此不宜采用;而式TC=[II0hhkkll]/[(1n)Σ(II0hhkkll)]在研究单相镀层织构不但可以研究织构变化趋势,还可以半定量地估算镀层是否实现择优;而计算多相物质的织构采用织构式p=RR0,R=II((θθ12))则较为简便.最后,通过实例进行验证.
王森林洪亮亮
关键词:X射线衍射镀层
添加剂对电沉积钴基合金的结构及性能的影响研究
采用控制电流法在硼酸为缓冲剂的硫酸盐镀液中电沉积钴基合金。着重研究了添加剂及外加磁场对电沉积钴-镍合金结构的影响,以期改善镀层的微结构从而提高镀层的性能。使用循环伏安,恒电位阶跃技术研究了钴-镍合金的电沉积行为和电结晶机...
洪亮亮
关键词:电沉积钴基合金添加剂磁性能电结晶
文献传递
电沉积条件对钴-锰合金结构和磁性能的影响被引量:1
2009年
以柠檬酸钠为络合剂、以硼酸为缓冲剂的酸性硫酸盐镀液中电沉积Co-Mn合金,循环伏安曲线表明,Co-Mn的起始共沉积电位约-1.282V(vs.Hg-Hg2SO4,Sat.K2SO4)。采用扫描电子显微镜(SEM)、能谱分析(EDS)、X射线衍射(XRD)和振动样品磁强计(VSM)研究了沉积条件对镀层结构和磁性能的影响。结果表明,Co-Mn镀层的组成受沉积条件影响较大;在镀液pH=4.0时,随着阴极电流密度从10×10-3A/cm2增加至40×10-3A/cm2,镀层中锰摩尔分数从0.3%增大至6.6%;镀层结构由hcp的固溶体转为fcc的固溶体;随着镀层中锰含量增加,膜的饱和磁化强度开始增大,然后降低,最大饱和磁化强度为1926.0kA/m,膜的矫顽力在31.6~33.9kA/m范围。
王森林洪亮亮涂满钰
关键词:电沉积磁性能镀层
共1页<1>
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