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陈根华

作品数：3 被引量：1H指数：1
供职机构：苏州大学更多>>
相关领域：电子电信理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 3篇等离子体
  • 3篇光刻
  • 3篇光刻技术
  • 3篇表面等离子体
  • 2篇双光束
  • 2篇纳米光刻
  • 2篇金属光栅
  • 2篇可见度
  • 2篇光束
  • 2篇光栅
  • 1篇等离子体激元
  • 1篇纳米
  • 1篇工艺参
  • 1篇工艺参数
  • 1篇表面等离子体...

机构

  • 3篇苏州大学

作者

  • 3篇陈根华
  • 2篇曹冰
  • 2篇许富洋
  • 2篇楼益民
  • 2篇王钦华

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2013
  • 1篇2012
共 3 条 记 录，以下是 1-3
全选 清除 导出
排序方式：
基于表面等离子体激元的纳米结构产生和光刻技术
随着微加工技术以及集成光学的迅速发展，对纳米结构和紫外光刻技术的分辨率要求越来越高，但是传统光刻技术的分辨率会受到光学衍射极限的限制。表面等离子体激元具有近场局域增强和纳米聚焦等特性，为突破光学衍射极限的高分辨光刻技术提...
陈根华
关键词：表面等离子体激元光刻技术工艺参数
文献传递
表面等离子体纳米光刻结构及方法
本发明公开了一种表面等离子体纳米光刻结构，包括上基底层、下基底层、共振腔和金属光栅层，所述共振腔和金属光栅层设于所述上基底层和下基底层之间，所述共振腔包括第一金属层、第二金属层和光刻胶层，所述光刻胶层设于所述第一金属层和...
王钦华陈根华楼益民曹冰许富洋
表面等离子体纳米光刻结构及方法
本发明公开了一种表面等离子体纳米光刻结构，包括上基底层、下基底层、共振腔和金属光栅层，所述共振腔和金属光栅层设于所述上基底层和下基底层之间，所述共振腔包括第一金属层、第二金属层和光刻胶层，所述光刻胶层设于所述第一金属层和...
王钦华陈根华楼益民曹冰许富洋
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