您的位置: 专家智库 > >

傅玉娜

作品数:3 被引量:7H指数:1
供职机构:中国地质大学(北京)工程技术学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点实验室建设项目计划更多>>
相关领域:机械工程一般工业技术电气工程化学工程更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇机械工程
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇性能研究
  • 2篇摩擦学
  • 2篇摩擦学性能
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化铬
  • 1篇四面体
  • 1篇碳膜
  • 1篇无定型
  • 1篇力学性能
  • 1篇非晶
  • 1篇非晶碳
  • 1篇非晶碳膜
  • 1篇非平衡磁控溅...
  • 1篇TA
  • 1篇CRNX薄膜
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇力学性

机构

  • 3篇中国地质大学...
  • 1篇北京师范大学

作者

  • 3篇傅玉娜
  • 2篇王成彪
  • 2篇于翔
  • 1篇刘兴举
  • 1篇张旭

传媒

  • 1篇摩擦学学报
  • 1篇中国材料科技...

年份

  • 2篇2006
  • 1篇2005
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
四面体无定型无氢非晶碳膜的制备及其摩擦学性能研究被引量:6
2005年
采用磁过滤阴极真空弧系统分别在硅片[Si(100)]、W18Cr4V高速钢和Cr18Ni9不锈钢基体上沉积了一系列sp3键含量较高的四面体无定型无氢非晶碳膜(ta-C),研究了所合成薄膜的结构、硬度、附着强度和摩擦磨损性能,考察了基体和薄膜厚度对薄膜摩擦系数的影响,简要分析了相应ta-C膜的失效机理.结果表明,在高速钢基体上沉积的ta-C膜的显微硬度为76GPa,结合力Lc值达42N,具有优良的摩擦学性能,其摩擦系数为0.12,且摩擦系数可以在16000r范围内保持稳定.
于翔张旭王成彪刘兴举傅玉娜
关键词:摩擦学性能
脉冲磁控溅射氮化铬薄膜及其性能研究
2006年
采用新型脉冲磁控溅射技术制备了一系列氯化铬膜,对所制备的不同厚度薄膜进行了AFM和SEM形貌等分析.测定了薄膜的膜基结合强度和硬度,并对薄膜的摩擦学性能进行了研究。结果表明:通过使用铬过渡层可以提高膜基结合强度,镀层厚度对镀层摩擦学性能有影响,膜厚为1200nm的氯化铬膜试样显示出来高硬度、低摩擦系数和良好的抗磨性。
于翔王成彪傅玉娜
关键词:非平衡磁控溅射
氮化铬薄膜制备及其摩擦学性能研究
本论文系统研究了中频磁控溅射方法制备氮化铬硬质薄膜的技术、工艺及其摩擦学性能。采用北京实力源股份有限公司的 SP0806AS 型中频磁控溅射真空镀膜机,通过正交实验的方法优化工艺参数,在高速钢和不锈钢基体上沉积了氮化铬薄...
傅玉娜
关键词:CRNX薄膜力学性能摩擦学性能
文献传递
共1页<1>
聚类工具0