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刘义彬

作品数:9 被引量:32H指数:3
供职机构:成都精密光学工程研究中心更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:金属学及工艺化学工程电子电信机械工程更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 1篇会议论文

领域

  • 4篇金属学及工艺
  • 2篇化学工程
  • 2篇电子电信
  • 1篇机械工程

主题

  • 3篇抛光
  • 3篇光学
  • 3篇大口径
  • 2篇套圈
  • 2篇抛光工艺
  • 2篇偏心
  • 2篇偏心轮
  • 2篇口径
  • 2篇光学元件
  • 2篇反射波
  • 2篇分离器
  • 1篇电离
  • 1篇优化控制
  • 1篇水解
  • 1篇抛光液
  • 1篇去除函数
  • 1篇转速
  • 1篇离轴
  • 1篇离轴非球面
  • 1篇面粗糙度

机构

  • 9篇成都精密光学...
  • 2篇四川大学

作者

  • 9篇刘义彬
  • 6篇杨李茗
  • 6篇鄢定尧
  • 4篇刘民才
  • 3篇何曼泽
  • 3篇谢磊
  • 3篇马平
  • 3篇欧光亮
  • 3篇游云峰
  • 3篇王琳
  • 3篇刘夏来
  • 2篇冯国英
  • 2篇赵春茁
  • 2篇邱服民
  • 2篇胡江川
  • 2篇姜莉
  • 2篇周佩璠
  • 2篇韩敬华
  • 2篇朱海波
  • 2篇戴红岭

传媒

  • 3篇强激光与粒子...
  • 2篇光学技术
  • 1篇激光杂志
  • 1篇2011年第...

年份

  • 1篇2013
  • 2篇2012
  • 3篇2011
  • 1篇2007
  • 1篇2006
  • 1篇2005
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
抛光液的pH值对抛光元件表面粗糙度的影响被引量:19
2006年
减小大孔径超光滑玻璃表面的粗糙度是提高抛光质量的关键。实验研究了抛光过程中pH值对抛光元件表面粗糙度的影响。结果表明:抛光液的pH值对抛光元件表面粗糙度有较明显的影响;抛光过程中抛光液的pH值会随抛光时间而变化;抛光过程中,当保持抛光液处于微碱状态,且离抛光粉的等电离点较远时,抛光元件表面具有较小的粗糙度。
韩敬华冯国英杨李茗刘义彬朱海波刘民才王绍鹏
关键词:抛光PH值表面粗糙度水解
大口径方形离轴非球面的非球面度计算与应用研究被引量:5
2007年
采用不同的数值计算方法求解了大口径(340mm×340mm)方形离轴非球面的最接近球面曲率半径和非球面度,得出了各种不同的磨削量及其对应的分布结构。对不同的最接近球面及非球面度所适用的加工工艺和检测方法进行了分析和评价。这对离轴非球面的加工和检测具有一定的指导意义。
鄢定尧刘民才刘义彬刘夏来李瑞洁杨李茗
关键词:离轴非球面
环摆抛双面抛光机
本发明公开了一种环摆抛双面抛光机,属于光学元件加工技术领域。它包括下盘、套圈、分离器、上盘和主臂,套圈与主动轮、限位轮外切,还包括辅机座和偏心轮,上盘的上端经主臂与辅机座连接,上盘上设有辅臂,辅臂外端与偏心轮连接,偏心轮...
杨李茗鄢定尧何曼泽刘民才王琳欧光亮周佩璠刘义彬刘夏来蔡红梅胡江川张宁姜莉戴红岭邱服民赵春茁
方形工件的数控抛光模拟计算与分析被引量:1
2005年
利用Preston方程,对实际中的磨头运动方式(平转动)进行了讨论,并用此运动方式的去除函数对一工件进行了模拟计算,同时用目前大口径光学元件的评价参数P -V值,RMS值,以及波前梯度对模拟结果进行了分析。通过数控抛光的模拟分析可以全面的了解光学元件的面形情况,为实际的数控加工提供一定的参考。
朱海波冯国英杨李茗刘义彬应娉邢德财韩敬华
关键词:去除函数
大口径反射元件环形抛光工艺
本文根据环形抛光的加工特点,研究了大口径反射元件的环形抛光加工工艺。在4m环抛机上进行了610mm×440 mm×85mm的大口径反射元件加工工艺实验,研究了修正盘及工件盘转速与元件面形的关系、修正盘及工件盘位置与元件面...
谢磊马平刘义彬游云峰鄢定尧
关键词:参数修正优化控制
文献传递
大型环抛面形实时监测与控制被引量:3
2012年
为解决大型激光驱动器建设中的关键工艺大型精密环形抛光技术一直存在着的控制困难、精度收敛不稳定的难题,分析了环形抛光加工中面形调整控制机理和本质,找到了传统调节控制和判断方法中的缺陷,提出了一种对环抛机面形变化基本实时的离线监测方法。这种监测方法具有结构简单、检测判断时间短和面形变化反应直观的优点。通过建立实验监测装置和实际加工验证,获得了较好的面形趋势判断和实时控制效果。
欧光亮杨李茗王琳何曼泽刘义彬
关键词:光学制造关键参数
环摆抛双面抛光机
本发明公开了一种环摆抛双面抛光机,属于光学元件加工技术领域。它包括下盘、套圈、分离器、上盘和主臂,套圈与主动轮、限位轮外切,还包括辅机座和偏心轮,上盘的上端经主臂与辅机座连接,上盘上设有辅臂,辅臂外端与偏心轮连接,偏心轮...
杨李茗鄢定尧何曼泽刘民才王琳欧光亮周佩璠刘义彬刘夏来蔡红梅胡江川张宁姜莉戴红岭邱服民赵春茁
文献传递
环形抛光中频误差的计算模拟
2013年
通过建立环形抛光的去除模型,从理论上分析了转速比、槽形、元件摆动对于抛光结果的影响,并分析了中频误差产生的原因。模拟结果表明:转速比的差异会产生较大的低频误差,而中频误差会随着低频误差的降低而降低;槽形是中频误差的主要来源,复杂的非对称不规律槽形使抛光路径复杂化,降低中频误差;同时元件的小幅度摆动能够使抛光更加均匀,减小定心式抛光造成的元件表面规则状纹路结构,从而有效减小元件的中频误差。
谢磊张云帆游云峰马平刘义彬鄢定尧
大口径反射元件环形抛光工艺被引量:6
2012年
根据环形抛光的加工特点,研究了大口径反射元件的环形抛光加工工艺。在4m环抛机上进行了610mm×440mm×85mm的大口径反射元件加工工艺实验,研究了修正盘及工件盘转速与元件面形的关系、修正盘及工件盘位置与元件面形的关系、沥青盘槽形与元件面形的关系。研究结果表明,通过对修正盘及工件盘转速、修正盘及工件盘位置、沥青盘槽形等工艺参数的优化控制,能够得到大口径反射元件面形的高效收敛,元件最高面形精度优于λ/6(λ=632.8nm),验证了加工工艺的有效性。
谢磊马平刘义彬游云峰鄢定尧
关键词:转速
共1页<1>
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