刘传胜
- 作品数：63 被引量：119H指数：6
- 供职机构：武汉大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家科技重大专项国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学金属学及工艺核科学技术一般工业技术更多>>
- 高速钢镀氮化碳超硬涂层及其应用研究被引量：22
- 2003年
- 本文采用DC 反应磁控溅射和电弧离子镀相结合的方法在高速钢上沉积氮化碳-氮化钛复合膜,经X射线衍射分析,复合膜中存在a-C3N4和b-C3N4的硬质相。复合膜的显微硬度 HK=50.5—54.1GPa,它与高速钢基体的附着力,用划痕试验测得临界载荷Lc=40—80N。多种刀具试用证实,该涂层具有很高的耐磨性,与未涂层和镀TiN的刀具相比,大幅度提高了刀具的耐用度。
- 吴大维曾昭元刘传胜张友珍彭友贵范湘军
- 关键词：氮化碳超硬薄膜高速工具钢涂层刀具电弧离子镀
- 加速器-电镜联机项目进展
- 加速器-电镜联机是原位获取离子轰击材料表面微结构变化及短寿命中间过程动态信息的重要手段,本项目旨在建立我国自己的加速器-电镜联机装置,原位研究固体物质非平衡态和远离平衡态微结构的形成和演变过程,包括离子注入纳米结构的形成...
- 付德君郭立平刘传胜任峰蒋昌忠叶明生彭友贵范湘军
- 文献传递
- 可在线研究核材料辐照损伤动态过程的加速器—电镜联机装置的建立
- 建立了由2×1.7MV 串列加速器、200kV 离子注入机、H800型透射电子显微镜和联机传输系统构成的我国第一套串列加速器-电镜联机装置,可在线研究核材料辐照损伤的形成和演化的动态过程, 使我国成为继日美法之后拥有这种...
- 郭立平刘传胜黎明宋搏叶明生付德君范湘军
- 文献传递
- 加速器-电镜联机的离子光路及其调整方案
- 离子辐照引起的材料微结构变化是一个复杂的过程,用加速器-电镜联机装置可原位观察载能离子束辐照引起的材料微结构演变。武汉大学加速器-电镜联机装置由1台2×1.7 MV串列加速器、1台200 kV离子注入机和1台200 kV...
- 叶小舟杨铮周霖欧阳中亮黎明刘传胜郭立平任峰蒋昌忠付德君
- 关键词：加速器离子注入机透射电镜
- 文献传递
- 二元超晶格弹性应力的能带理论计算
- 2000年
- 根据量子能带理论 ,采用经验赝势方法 ,对 (Pb) n/ (Bi) n,(Al) n/ (As) n 的假想简立方二元超晶格结构的弹性应力进行了计算 .结果表明弹性应力随超晶格周期λ的增加而迅速升高至一定大小后趋于稳定 ,且只有在周期较小时才同过渡金属氮化物超晶格硬度随周期的变化的趋势定性一致 。
- 曹中伟刘传胜刘福庆范湘军
- 氮化碳超硬涂层材料在高速钢刀具上的应用
- 采用dc反应磁控溅射法在高速钢直柄麻花钻上沉积氮化碳超硬涂层,其显微硬度Hv=72.04GPa,附着力达到JB/T8365-96标准的规定.金属切削试验表明,麻花钻的耐用度比TiN涂层和未涂层麻花钻有大幅度提高.
- 吴大维刘传胜高鹏叶明生彭友贵范湘军
- 关键词：显微硬度氮化碳薄膜超硬材料高速钢刀具
- 文献传递
- 在线低能气体离子源被引量：1
- 2010年
- 材料中氦和氢积累可引起材料性能的恶化甚至失效。为研究材料内氦和氢的存在形式、氦与氢及缺陷的相互作用、气泡的形成和演变过程以及各种因素的影响,建立一套离子束能量最高20keV的潘宁型气体离子源引出和聚焦系统,与200kV透射电镜联机,在离子注入现场原位观察氦和氢不同注入浓度下材料内部的微观结构及变化过程。对离子源进行氦离子的起弧、引出和聚焦测试。离子源在15–60mA放电电流范围内稳定地工作。在5×10–3Pa和1.5×10–2Pa工作气压下,放电电压约380V和320V。低气压下引出离子束流比高气压下大,且引出束流随放电电流和吸极电压的增加而增加。等径三圆筒透镜有显著聚焦作用,在距透镜出口150cm处,离子束流密度提高一个量级以上。能量10keV左右的氦离子获得束流密度约200nA·cm–2的离子束,可满足多种材料进行在线离子注入和原位电镜观测的需要。
- 靳硕学郭立平彭国良张蛟龙杨铮黎明刘传胜巨新刘实
- 关键词：离子源辐照损伤原位透射电镜氦
- 刀具涂层技术的新进展被引量：30
- 2000年
- :概述了一些具有应用前景的刀具硬质涂层新材料和多元、复合多层超硬薄膜的应用 ;介绍了超高硬度涂层材料 :低压气相合成金刚石、立方氮化硼和β-C3N4的研究进展 。
- 吴大维刘传胜傅德君彭友贵范湘军
- 关键词：涂层刀具超硬薄膜
- 离化团簇束法制备c轴取向的ZnO薄膜
- 2007年
- 为了探索低温可调控ZnO薄膜沉积技术,提出了一种新的ZnO薄膜制备方法,即离化团簇束(ICB)法,并自行设计研制了应用该方法制备ZnO薄膜的专门装置.采用超音速喷嘴获得高速锌原子团簇束,用Hall等离子体源产生氧离子束离化锌原子团簇,获得了较高的离化率.在沉积过程中,可以通过调节衬底偏压、氩氧比、衬底加热温度等参数,来控制成膜的质量;应用这个装置成功地在硅衬底上制备的ZnO薄膜,经XRD和EDS检测,薄膜的c轴取向一致,Zn、O原子百分比接近于1∶1,成膜质量好.
- 杨种田柯贤文刘传胜郭立平付德君
- 关键词：ZNO薄膜
- 等离子体沉积CrN和CrTiAlN薄膜
- 设计了一套电子源辅助中频孪生非平衡磁控溅射装置,在单晶硅、高速钢、硬质合金衬底上制备了CrN和CrTiAlN薄膜,研究了气体流量、衬底偏压、溅射功率对薄膜结构和性能的影响。(1)X射线衍射表明,在N/(N+Ar)比例低于...
- 邓建伟田灿鑫黎明何俊刘传胜付德君
- 关键词：CRN中频磁控溅射显微硬度
- 文献传递
