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刘望

作品数:3 被引量:1H指数:1
供职机构:四川大学更多>>
发文基金:教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家自然科学基金四川省科技支撑计划更多>>
相关领域:一般工业技术电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇多层膜
  • 2篇纳米
  • 2篇纳米多层膜
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化铝
  • 1篇射频反应磁控...
  • 1篇溅射
  • 1篇固氦
  • 1篇反应磁控溅射
  • 1篇TAN
  • 1篇ZRN
  • 1篇
  • 1篇
  • 1篇
  • 1篇
  • 1篇AIN薄膜
  • 1篇CU
  • 1篇常温
  • 1篇沉积速率
  • 1篇磁控

机构

  • 3篇四川大学

作者

  • 3篇汪渊
  • 3篇刘望
  • 2篇朱敬军
  • 2篇安竹
  • 1篇邬琦琦
  • 1篇王飞
  • 1篇邓爱红
  • 1篇陈顺礼
  • 1篇张立东
  • 1篇张伟
  • 1篇孙化冬

传媒

  • 2篇物理学报
  • 1篇四川大学学报...

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2012
  • 1篇2011
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
氦对铜钨纳米多层膜界面稳定性的影响被引量:1
2012年
采用射频磁控溅射方法,分别在纯Ar和Ar,He混合气氛下制备了多个不同调制周期的Cu/W纳米多层膜.利用增强质子背散射(EPBS)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)分别对Cu/W多层膜中He含量、截面形貌和相结构进行了分析.结果表明:多层膜的界面稳定性是耐氦损伤的前提和保证.在适当的调制周期下,纳米多层膜能有抑制氦泡成核及长大的能力.
刘望邬琦琦陈顺礼朱敬军安竹汪渊
关键词:纳米多层膜
界面对ZrN/TaN纳米多层膜固氦性能的影响
2013年
采用射频磁控溅射方法,在混合气氛下制备了ZrN/TaN多层膜.利用X射线衍射、慢正电子束分析、增强质子背散射、扫描电子显微镜,分别对ZrN/TaN多层膜中相结构、氦相关缺陷、氦含量、截面形貌等进行了分析.结果表明,调制周期为30 nm的ZrN/TaN多层膜在600°C退火后,氦的保持率仍能达到45.6%.在适当的调制周期下,ZrN/TaN多层膜能够耐氦损伤并且其界面具有一定的固氦性能.
王飞刘望邓爱红朱敬军安竹汪渊
关键词:ZRNTAN纳米多层膜固氦
常温低氮氩比下(002)择优取向氮化铝薄膜的制备
2011年
常温下采用反应射频磁控溅射方法在玻璃基底上制备出(002)单一择优取向柱状结构的氮化铝薄膜,通过XRD分析发现溅射功率为80W、溅射气压为0.20 Pa、氮气与氩气比为5%时,氮化铝(002)晶体衍射峰最强,通过FESEM表面及截面分析表明在此条件下得到的氮化铝薄膜表面较平整、致密性较好.
孙化冬彭冬香张伟张立东刘望汪渊
关键词:AIN薄膜射频反应磁控溅射沉积速率
共1页<1>
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