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刘登益

作品数：1 被引量：12H指数：1
供职机构：西安交通大学材料科学与工程学院金属材料强度国家重点实验室更多>>
发文基金：西安交通大学自然科学基金更多>>
相关领域：理学一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 1篇离子束
  • 1篇离子束辅助
  • 1篇离子束辅助沉...
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射制备
  • 1篇IBAD
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁控溅射制备

机构

  • 1篇西安交通大学

作者

  • 1篇何家文
  • 1篇刘登益
  • 1篇朱晓东
  • 1篇赵蕾
  • 1篇付永辉

传媒

  • 1篇无机材料学报

年份

  • 1篇2005
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
离子束辅助磁控溅射制备类石墨碳膜的结构与性能研究被引量：12
2005年
采用离子束辅助磁控溅射技术(IBMSD)制备了高硬度、低电阻率的类石墨碳膜(GLC),用TEM和XRD考察其组成相,用XPS、FTIR和电阻率间接确定其碳键结构,并测定了不同气体和离子能量辅助轰击下制备的几组薄膜的沉积速率、成分、硬度和粗糙度等.结果表明:采用IBMSD制备的GLC是一种以sp2键为主的非晶硬质碳膜.CH4辅助轰击较Ar有利于提高沉积速率.辅助轰击能量的增大使薄膜表面粗糙度先减小后增大,硬度的变化一定程度上与粗糙度相关.
赵蕾付永辉刘登益朱晓东何家文
关键词：磁控溅射
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共1页<1>
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