孙知渊
- 作品数：2 被引量：4H指数：1
- 供职机构：中国科学院电工研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信理学机械工程更多>>
- 分辨力增强技术的频谱分析被引量：4
- 2007年
- 离轴照明和衰减型相移掩模作为重要的分辨力增强技术,不仅可以提高光刻的分辨力,同时还可以改善成像焦深,扩大光刻工艺窗口,实现65-32 nm分辨成像。从频谱的角度分析了离轴照明和衰减型相移掩模对成像系统交叉传递函数和像场空间频率分布的影响,研究这两种技术的物理光学本质,由此进一步优化光学成像系统设计、分辨力增强技术和确定设备使用的参量。对分辨力增强技术的频谱分析研究表明,分辨力增强技术通过调整像场频谱分布,改善了光学光刻的图形质量。对于65 nm密集图形,离轴照明和相移掩模结合后可以使成像衬比度最高达到0.948,工艺窗口在5%曝光范围内焦深达到0.51μm。
- 孙知渊李艳秋
- 关键词：成像系统光学光刻频谱分析
- 分辨率增强技术在ArF光刻中的应用
- 分辨率增强技术是光学光刻中用来实现高分辩光刻成像质量的重要手段，主要包括离轴照明、相移掩模、邻近效应校正、偏振照明四种技术。这四种技术从不同的方面影响传递信息的载体一光来达到提高光刻分辨率的目的。但各种技术在综合应用时，...
- 孙知渊
- 关键词：光学光刻信息光学分辨率增强技术
- 文献传递
