戴风伟
- 作品数：14 被引量：22H指数：3
- 供职机构：北京科技大学材料科学与工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划北京市科技新星计划更多>>
- 相关领域：理学电子电信一般工业技术化学工程更多>>
- 沉积参数对CVD金刚石晶粒尺寸的影响被引量：2
- 2007年
- 采用DC Arc Plasma Jet CVD方法制备了金刚石自支撑膜体,考察了温度分布、沉积腔压和CH4/H2等沉积参数对所制备金刚石膜体中的晶粒尺寸的影响.实验发现沿温度降低的方向和增加腔压会使晶粒尺寸变大,当CH4/H2超过15%后,有带刻面的晶粒出现.本次实验最大的晶粒对角线长度超过1mm.
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- 关键词：金刚石晶粒尺寸
- 甲烷/氢气大比率条件下金刚石膜沉积特性的研究
- 戴风伟
- 关键词：金刚石膜表面形貌
- 一种金刚石膜剪切器
- 一种金刚石膜剪切器，属于金刚石膜加工技术领域。包括：刀杆、刀头、压块和垫块四部分；其中，刀头和刀杆采用钎焊连接，压块和垫块具有同轴螺纹，彼此间采用螺栓连接。刀头和刀杆构成装置的滑动部件，可在压块的特定滑道上高速滑动，起高...
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- 文献传递
- 直流电弧等离子喷射CVD中控制生长(111)晶面占优的金刚石膜被引量：4
- 2006年
- 运用光发射谱(OES)技术对大功率直流电弧等离子喷射CVD金刚石膜的气相沉积环境进行了原位诊断,研究了气相环境中主要含碳基团的浓度及分布与沉积参数的关系,发现了C2基元比其他基元对沉积参数更加敏感。利用光发射谱对C2基元发射强度的监测,实时调控沉积各参数,在大功率直流电弧等离子喷射CVD中实现了(111)晶面占优的金刚石膜的可控生长,I(111)/I(220)XRD衍射峰强度的比值达48。
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- 关键词：金刚石膜
- 微/纳米多层金刚石自支撑膜的制备及生长特性的研究被引量：5
- 2007年
- 在30kW级直流电弧等离子喷射化学气相沉积装置下,采用Ar-H2-CH4混合气体,通过控制工艺参数,在钼衬底上分别制备了普通微米自支撑膜及多层金刚石自支撑膜并对其进行研究。结果显示,同普通微米膜相比,多层膜体是由微米晶金刚石层和纳米晶金刚石层组成,表面光滑,微米层与纳米层间具有相互嵌套式的界面;多层膜中各层膜体的内应力沿生长方向有明显变化,出现一个从压应力到拉应力变化的过程;在沉积过程中,随着层数变化,膜体的生长速率也发生相应的变化。
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- 关键词：多层结构内应力生长速率
- 微/纳米复合多层金刚石自支撑膜的制备及应力研究被引量：1
- 2007年
- 利用大功率DC Arc Plasma Jet CVD装置,采用Ar-H2-CH4混合气体为气源,通过优化工艺参数,在多晶钼衬底上制备出了多层复合金刚石自支撑膜。利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、激光拉曼谱(Raman)对膜体进行表征,结果显示,多层膜体的组织结构体现了微米金刚石与纳米金刚石的典型特征;复合金刚石自支撑膜具有光滑的表面,微米层与纳米层间呈相互嵌套式的界面;此外,利用激光拉曼谱分析了多层膜中的内应力状态,研究发现,多层膜中各层膜体具有不同的内应力状态,内应力沿膜体生长方向有明显变化,呈现出从压应力到拉应力的变化过程。
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- 关键词：多层结构内应力
- 大功率DC Arc Plasma Jet CVD制备微／纳米复合金刚石自支撑膜的研究
- 在30kW级DC Arc Plasma Jet CVD装置下,采用Ar-H2-CH4混合气体, 在钼衬底上制备出了复合金刚石自支撑膜,并对其表面和侧面分别进行了扫描电镜 （SEM）、X射线衍射（XRD）、激光拉曼光谱（R...
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- 文献传递
- DC Arc Plasma Jet CVD自支撑金刚石膜表面形貌的研究被引量：1
- 2007年
- 本文采用30kW级直流电弧等离子体喷射法沉积自支撑金刚石膜,研究了大进气量条件下不同的甲烷浓度对金刚石膜的表面形貌及晶面取向的影响,当甲烷浓度达到一定程度时,出现纳米二次晶的形核,晶粒细化,微米金刚石转变成为纳米金刚石。同时不同的氩氢配比对金刚石膜的表面形貌也产生一定的影响。在高甲烷浓度的情况下,可以得到一种具有(111)取向的微米级金刚石膜。结果表明,随着甲烷浓度和氩氢比(Ar/H2)的增加,金刚石膜表面晶粒尺寸是呈逐渐减小趋势的,此外,通过控制甲烷浓度可以得到(111)晶面的高取向金刚石膜,当甲烷浓度为20%时,金刚石膜表面晶粒的(111)晶面可以达到高取向。
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- 关键词：表面形貌
- DC Arc Plasma Jet CVD法沉积纳米金刚石自支撑膜的研究
- 在30kW级DC Arc Plasma Jet CVD(直流电弧等离子体喷射化学气相沉积)设备上,采用Ar-H2-CH4混合气体,在Mo的衬底上沉积出纳米金刚石自支撑膜.实验表明,随着甲烷浓度的增加,金刚石膜表面的晶粒大...
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- 关键词：化学气相沉积
- 文献传递
- 直流等离子体喷射CVD技术制备自支撑金刚石膜的新结构和新形貌(英文)被引量：8
- 2007年
- 采用30kW高功率直流等离子体喷射CVD技术制备了自支撑金刚石膜的新型结构,通过使甲烷与氢气的浓度比随沉积时间变化的方法,制备了两层、三层和四层结构。扫描电镜结果显示所制备的层结构是由柱状晶和非常细晶粒组成的,而拉曼谱结果表明这层细晶粒具有纳米金刚石的激光散射特征。在甲烷与氢气的浓度比超过15%的沉积条件下,我们发现一种新形貌,这种形貌是由具有非常好的刻面的晶粒构成的。
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- 关键词：金刚石膜层结构刻面
