杨钰瑛
- 作品数：19 被引量：52H指数：4
- 供职机构：河北农业大学机电工程学院更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术机械工程自动化与计算机技术更多>>
- 采用中频反应磁控溅射技术沉积氮化锆薄膜被引量：9
- 2007年
- 采用中频反应磁控溅射技术沉积ZrN薄膜,在真空镀膜机内对称安装了3对矩形孪生靶。利用等离子体发射光谱和质谱仪QMS200分别实时监控真空炉内靶材表面的谱线变化和各种气氛的分压强,并通过控制系统氮气流量自动调控,从而消除了靶中毒和打火现象,确保了溅射镀膜的稳定进行。通过对氮化锆膜层的显微组织观察、X射线衍射和俄歇半定量分析,沉积的氮化锆薄膜膜层致密,与基体的结合牢固。结果表明:当炉内氮气分压强为45%,控制靶电压200V,靶电流为25A,逐步调节Ar与N2比例,可获得成分均匀,膜层致密,结合力较好的金黄色氮化锆薄膜。
- 杨钰瑛孙维连李新领王会强孙玉梅
- 混合动力城市客车运行工况参数的探讨被引量：1
- 2007年
- 采用自行研制的基于汽车电控系统数据流功能的检测系统对城市客车的实际运行工况进行了测试。测量发动机转速、节气门开度、车速以及载客量并进行数理统计,结果表明城市客车的停车时间、车速、加速度、减速度、载客量等参数均符合正态分布,怠速时间占运行总时间的25.3%,加速和减速时间占69.1%,匀速时间占5.6%。混合动力城市客车针对实际运行工况采用优化的控制策略,如限制发动机怠速、减小发动机功率、改善发动机的工作状态、采用再生制动,可以明显降低燃油消耗和排放。
- 赵树朋张世芳贾立斌杨钰瑛王会强白庆华
- 关键词：混合动力城市客车控制策略
- 金相研磨抛光机自动控制系统的研究被引量：2
- 2003年
- 金相检验是确定材料组织最可靠的方法。金相试样的质量最终是由抛光质量决定。根据制备金相试样的技术要求 ,在现有抛光机的基础上对其自动控制系统进行了技术改造 ,使其具有更高的精度。对显示面板重新设计提高可操作性和界面美观度。为金相试样制备提供一种更友好的操作界面。
- 陈文娟孙维连杨钰瑛贾亚雷李杰
- 关键词：金相检验金相试样研磨抛光机自动控制系统
- 快速偏心夹具的设计与应用被引量：13
- 2007年
- 工件的装夹速度是夹具设计研究中的一个重要课题。分析了现有生产过程中使用的传统夹具和新型夹具的结构和特点。设计了快速偏心夹具,由偏心机构和推拉杆组成,偏心机构对工件施加夹紧力,推拉杆为适应于不同尺寸工件的频繁更换而设计,满足了夹紧力技术要求,达到了快速夹紧工件的目的。此夹具结构简单、适用工件范围广、夹紧可靠、生产率高。
- 郭炜孙维连杨钰瑛高中彭李新领
- 关键词：夹具快速装夹
- 装饰薄膜ZrN的中频反应磁控溅射沉积工艺研究被引量：7
- 2007年
- 利用中频反应磁控溅射技术在1Cr18Ni9Ti不锈钢基底上沉积ZrN薄膜。通过控制N/Ar、溅射功率和基体偏压等参数,得到不同实验条件的ZrN膜层。通过对膜层颜色测量和AES分析,研究N分压强对ZrN膜层质量的影响。实验结果表明:工作气压0.3Pa,溅射功率5kW,基体偏压-150V、占空比50%等工艺参数一定的前提下,N分压强在不同的范围内,可以分别制备出视觉效果类似于18K、23K和纯金的氮化锆膜层。
- 李新领邢雅周杨钰瑛孙维连周智男
- 金相试样抛光机
- 一种金相试样抛光机，它由磨盘、试样夹持盘、压力调节器所组成。可以同时对多种形状、多种尺寸的多个试样抛光，对试样的压力可调，不偏磨，结构简单，使用方便，为金相试样的研磨与抛光提供了一种优良设备。
- 孙维廉杨钰瑛
- 文献传递
- 35CrMo钢显微组织与性能
- 介绍了35CrMo钢显微组织与性能的关系。研究了带状偏析、网状铁素体、粗大晶粒等组织状态对力学性能的影响。采用金相法分析了钢拉杆校直出现断裂的原因。鉴于原材料存在带状组织偏析,平镦加热组织粗大、铁素体网状分布等组织缺陷,...
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- 文献传递
- 采用中频反应磁控溅射技术沉积氮化锆薄膜
- 为了避免直流反应溅射出现的靶中毒和打火现象,采用中频反应磁控技术在不锈钢基体上沉积氮化锆薄膜.实验表明,当炉内氮分压为45％,控制靶电压200V,靶电流为25A,逐步调节Ar/N2比例达到要求的真空炉内气氛浓度,可获得成...
- 孙维连杨钰瑛李新领
- 关键词：磁控溅射不锈钢真空炉
- 文献传递
- 金相试样抛光机
- 一种金相试样抛光机，它由磨盘、试样夹持盘、压力调节器所组成。可以同时对多种形状、多种尺寸的多个试样抛光，对试样的压力可调，不偏磨，结构简单，使用方便，为金相试样的研磨与抛光提供了一种优良设备。
- 孙维廉杨钰瑛
- 文献传递
- 采用中频反应磁控溅射技术沉积氮化锆薄膜
- 为了沉积高质量的硬质薄膜,避免直流反应溅射出现的靶中毒和打火现象影响薄膜质量和色彩。采用中频反应磁控技术在不锈钢基体上沉积氮化锆薄膜。实验表明,当炉内氮分压为45％,控制靶电压200 V,靶电流为25 A,逐步调节Ar／...
- 孙维连杨钰瑛李新领
- 关键词：磁控溅射
- 文献传递
