田庆涛
- 作品数：4 被引量：16H指数：3
- 供职机构：兰州理工大学材料科学与工程学院甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室更多>>
- 发文基金：甘肃省科技重大专项计划更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术更多>>
- 不同电压下镁合金的微弧氧化行为被引量：7
- 2011年
- 为了解电压在镁合金微弧氧化中的作用,本工作在双极性脉冲电源的恒流加载方式下,通过考察电压对氧化时间、膜层厚度及表面形貌的影响,研究电压对微弧氧化机理的影响。结果发现,当负电压为零,占空比20%和30%时,电压低于380V时所需的氧化时间要短于电压高于380V时的氧化时间。当占空比30%,负电压为零和40V时,电压低于340V的氧化时间和膜层增长速率都小于电压高于340V的;电压低于340V时的膜层表面形貌优于340V以上膜层。可见,微弧氧化过程中存在一个临界电压,微弧氧化过程分成两种情况,两种情况的微弧氧化机理不尽相同。
- 王蕊马跃洲陈明田庆涛
- 关键词：镁合金微弧氧化脉冲电源临界电压
- AZ91D镁合金微弧氧化中电源脉冲宽度的影响研究被引量：7
- 2011年
- 为研究带放电回路的微弧氧化电源脉冲宽度对镁合金微弧氧化的影响,设计了在恒电压增幅和频率为667 Hz的条件下,占空比在10%～90%之间的镁合金微弧氧化实验。研究发现,随着脉冲宽度的增加,起弧电压逐渐降低,大弧倾向增大;膜表面孔洞数量减少且孔径尺寸略有增大;微弧氧化的成膜效率随着脉冲宽度的增加先增大后减小;在占空比30%左右时成膜效率最高,并且膜层的耐蚀性最好。对于频率为667 Hz的镁合金微弧氧化,脉冲宽度控制在300～600μs时成膜效率最高且膜层质量较好。
- 贾金龙马跃洲田庆涛王蕊
- 关键词：镁合金微弧氧化脉冲宽度
- 基于神经网络的镁合金微弧氧化膜厚动态监测被引量：3
- 2011年
- 选择三层结构的BP神经网络,建立镁合金微弧氧化膜厚的映射模型。基于采用带放电回路的脉冲电源进行的镁合金微弧氧化的实验结果,讨论了微弧氧化的几个主要参数对膜层生长的影响关系,从而确定了神经网络的输入参数。通过工艺试验构造了训练与测试样本集。训练得到的BP神经网络的测试结果表明,利用神经网络的方法来实现对膜厚的动态监测是可行的。
- 田庆涛马跃洲贾金龙王蕊
- 关键词：镁合金微弧氧化神经网络
- 镁合金微弧氧化膜厚的神经网络预测模型
- 镁合金微弧氧化是一个在热化学、等离子体化学和电化学的共同作用下，生成陶瓷层的复杂过程。各参数对镁合金微弧氧化膜层的影响不明确。膜厚作为衡量微弧氧化膜层性能的一个最直观且重要的指标，它直接影响着微弧氧化膜层的硬度、耐磨、耐...
- 田庆涛
- 关键词：镁合金微弧氧化神经网络
