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文献类型

  • 5篇中文专利

领域

  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇环境科学与工...

主题

  • 2篇电子束
  • 2篇电子束光刻
  • 2篇亚氯酸钠
  • 2篇圆形阵列
  • 2篇阵列
  • 2篇蚀刻
  • 2篇蚀刻液
  • 2篇数据量
  • 2篇碳酸氢铵
  • 2篇微机电系统
  • 2篇线条
  • 2篇氯酸
  • 2篇氯酸钠
  • 2篇纳米
  • 2篇纳米阵列
  • 2篇机电系统
  • 2篇光刻
  • 2篇
  • 2篇电系统
  • 1篇正投影

机构

  • 5篇中国科学院

作者

  • 5篇董艳
  • 5篇王逸群
  • 2篇曾春红
  • 2篇周健
  • 2篇钟飞
  • 2篇时文华
  • 2篇王洋洋
  • 1篇张宝顺
  • 1篇姜春宇

年份

  • 1篇2022
  • 1篇2018
  • 1篇2016
  • 1篇2012
  • 1篇2010
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
铜蚀刻液及其制备方法和应用、铜蚀刻方法
本发明公开了一种铜蚀刻液及其制备方法,所述铜蚀刻液是含有质量浓度10g/L~15g/L的亚氯酸钠、质量浓度50g/L~70g/L的碳酸氢铵和体积浓度10mL/L~60mL/L的氨水的水溶液;该铜蚀刻液的制备方法包括步骤:...
董艳王逸群王洋洋冯海通
文献传递
一种电子束光刻加工圆形阵列的方法
本发明涉及一种电子束光刻加工圆形阵列的方法。旨在减小加工弧形线条时的数据量,从而缩短数据处理的时间。本发明充分利用了高斯型束斑矢量扫描式电子束光刻机的工作模式特点,通过设置特定的扫描步长以及曝光剂量,得到不同直径,不同间...
时文华钟飞王逸群曾春红董艳周健
文献传递
一种用于多孔吸附装置上的样品承载结构
本发明公开了一种用于多孔吸附装置上的样品承载结构,包括载板,载板包括彼此相对的承载面和结合面,承载面上设置有第一凹槽,第一凹槽的外侧设置有第一吸孔,结合面上设置有第二凹槽,第二凹槽与第一吸孔相互连通;其中,第二凹槽用于覆...
姜春宇王逸群尹立航夏先海董艳翟豪张宝顺
一种电子束光刻加工圆形阵列的方法
本发明涉及一种电子束光刻加工圆形规则阵列的方法。旨在减小加工弧形线条时的数据量,从而缩短数据处理的时间。本发明充分利用了高斯型束斑矢量扫描式电子束光刻机的工作模式特点,通过设置特定的扫描步长以及曝光剂量,得到不同直径,不...
时文华钟飞王逸群曾春红董艳周健
铜蚀刻液及其制备方法和应用、铜蚀刻方法
本发明公开了一种铜蚀刻液及其制备方法,所述铜蚀刻液是含有质量浓度10g/L~15g/L的亚氯酸钠、质量浓度50g/L~70g/L的碳酸氢铵和体积浓度10mL/L~60mL/L的氨水的水溶液;该铜蚀刻液的制备方法包括步骤:...
董艳王逸群王洋洋冯海通
文献传递
共1页<1>
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