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蔡明哲

作品数:5 被引量:3H指数:1
供职机构:哈尔滨工业大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:核科学技术一般工业技术电子电信金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇核科学技术
  • 1篇石油与天然气...
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇仿真
  • 2篇MATLAB...
  • 2篇磁控
  • 1篇等离子体
  • 1篇等离子体密度
  • 1篇电流
  • 1篇电特性
  • 1篇电源
  • 1篇电子发射
  • 1篇直流
  • 1篇数值仿真
  • 1篇离子注入
  • 1篇脉冲电流
  • 1篇矩形管
  • 1篇溅射
  • 1篇功率
  • 1篇放电
  • 1篇放电特性
  • 1篇PIC
  • 1篇长轴

机构

  • 5篇哈尔滨工业大...

作者

  • 5篇蔡明哲
  • 4篇田修波
  • 4篇巩春志
  • 3篇马英鹤
  • 1篇吴明忠
  • 1篇孔营
  • 1篇张春雨
  • 1篇胡健
  • 1篇张新宇
  • 1篇寇睿
  • 1篇孙伟龙

传媒

  • 2篇真空科学与技...
  • 1篇真空
  • 1篇TFC’15...

年份

  • 2篇2015
  • 3篇2014
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
复合脉冲磁控溅射放电特性及数值仿真研究
高功率磁控溅射技术是一种优质的镀膜方法,具有离化率高、瞬时功率大以及膜层性能良好等优点,受到科研及工业领域的广泛关注。然而由于高功率磁控溅射平均功率小,膜层沉积速率低,在工业应用中受到了限制。  针对高功率磁控溅射沉积速...
蔡明哲
关键词:磁控溅射放电特性数值仿真
长轴零件直流等离子体离子注入轨迹数值仿真研究被引量:1
2014年
直流等离子体离子注入是一种新的离子注入手段。本文基于particle-in-cell模型使用MATLAB软件对长轴零件直流等离子体离子注入进行数值仿真研究,主要考察工件到等离子体边界栅网距离、工件半径、工件电势以及离子种类对于离子注入范围和角度的影响。结果表明,工件到栅网的距离对注入结果的影响较大,距离增加导致离子注入相对范围缩小,注入倾斜角度减小。工件尺寸也会影响注入结果,当工件半径较小时,离子注入相对范围较大,注入角度波动也较大;也讨论了离子种类、工件电压不会对离子运动轨迹、注入位置和注入角度造成影响。
蔡明哲张春雨巩春志田修波
关键词:MATLAB软件长轴
新型高功率复合脉冲磁控放电技术
高功率脉冲磁控溅射是一种最近发展起来的技术,其利用脉冲瞬间施加的高电压形成高高密度的等离子体,脉冲功率达到千瓦至兆瓦,有效提高了膜层均匀性、致密性以及膜基结合力。然而由于高功率脉冲产生极大的瞬时电压,在得到高离化率等离子...
张新宇蔡明哲吴明忠胡健马英鹤巩春志田修波
文献传递
新型阴极弧电源研制及脉冲增强电子发射(P3e)效应研究被引量:2
2014年
本文研制了新型脉冲阴极弧电源,并实现了脉冲增强电子发射(P3e)以提高真空室内等离子体密度。该电源核心由脉冲发射和维持电流系统构成,由单片机和触摸屏系统协同控制和管理。对P3e电源进行放电特性和脉冲增强电子发射效应进行了研究。结果表明,在相同平均电弧电流条件下,与直流相比,P3e技术能够显著提高工件(基体)脉冲电流与平均电流。在电弧平均电流90 A时,基体脉冲电流由5 A提高到19.6 A,基体平均电流由2.2 A最大提高到4.6 A,表明脉冲增强了电子发射,进而获得高的等离子体密度,这将有助于增加膜层致密性、降低膜层应力。该新型电源对于阴极弧靶中毒抑制、膜层结构改善、膜层颗粒污染控制具有重要的意义。
马英鹤田修波蔡明哲孙伟龙孔营寇睿巩春志
关键词:脉冲电流
电极形状对矩形管内壁等离子体注入剂量分布的影响
2014年
矩形管由于自身形状的原因会造成等离子体注入的不均匀性,给内表面改性带来困难。本文基于particle-in-cell(PIC)模型采用Matlab软件对矩形管内壁等离子体离子注入进行数值仿真,主要考察了内电极形状(圆电极、三角电极、矩形电极)对管筒内壁注入剂量分布的影响。结果表明,中心圆电极、三角电极诱导的离子注入剂量呈现"M"型分布,象形矩形电极会导致长短边离子注入剂量密度产生较大差异,小尺寸矩形电极和半圆矩形组合电极会诱导离子注入剂量分布产生三个峰值和两个谷值。对不同电极注入剂量进行统计,长短边整体注入剂量均匀性最高的是小尺寸矩形电极,局部注入剂量均匀性最高的是矩形半圆组合电极。通过比较不同形状内电极离子注入过程和结果得到适用于一般形状电极的结论。
蔡明哲马英鹤巩春志田修波
关键词:MATLAB软件矩形管
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