谢万峰
- 作品数：4 被引量：5H指数：1
- 供职机构：鲁东大学物理与电子工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金山东省高等学校科技计划项目山东省自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术更多>>
- 深紫外非晶透明导电膜及其制备方法
- 本发明涉及一种深紫外非晶透明导电膜及其制备方法，属于电子材料技术领域。该深紫外非晶透明导电膜在远紫外光学石英玻璃衬底上依次设有Ga<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>层、金属Al导电层和Ga<Sub>2</...
- 闫金良刘建军石亮张易军谢万峰
- 文献传递
- 深紫外非晶透明导电膜及其制备方法
- 本发明涉及一种深紫外非晶透明导电膜及其制备方法，属于电子材料技术领域。该深紫外非晶透明导电膜在远紫外光学石英玻璃衬底上依次设有Ga<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>层、金属Al导电层和Ga<Sub>2</...
- 闫金良刘建军石亮张易军谢万峰
- 文献传递
- 基底及HMVF层厚度变化对NbSiN/NbSiNO/Si_3N_4涂层光学性能的影响被引量：1
- 2014年
- 采用多靶磁控溅射镀膜机,以在Si靶上加Nb片的方法分别在Cu和单面抛光不锈钢(SS)基底上制备NbSiN/NbSiNO/Si3N4和Mo/NbSiN/NbSiNO/Si3N4多层膜。用α-step台阶仪(DEKTAK IIA)测量膜层厚度,UVPC3100分光光度计和傅里叶红外光谱仪(EXCALIBUR FTS 3000)对样品的光学性质进行表征。实验表明:在Cu基底上制备的涂层吸收率α=0.90,发射率ε=0.12;以SS为基底,红外反射层Mo的厚度约为230nm时,在λ>2.5μm范围内反射率最高,达到90%以上。高金属体积分数吸收层(HMVF)厚度约为80nm时吸收率α=0.95,发射率ε=0.33;真空下500℃和600℃各20h退火后吸收率、发射率变化不大。
- 谢万峰闫金良刘宇薛亚飞张易军张放放王聪
- 关键词：光学特性吸收率发射率磁控溅射
- Si掺杂β-Ga_2O_3的第一性原理计算与实验研究被引量：4
- 2011年
- 采用基于密度泛函理论(DFT)的第一性原理平面波超软赝势(USPP)法,在广义梯度近似(GGA)下计算了本征β-Ga2O3和Si掺杂β-Ga2O3的能带结构、电子态密度、差分电荷密度和光学特性.在蓝宝石衬底(0001)晶面上用脉冲激光沉积(PLD)法制备了本征β-Ga2O3和Si掺杂β-Ga2O3薄膜,测量了其吸收光谱和反射光谱.Si掺杂后β-Ga2O3的整个能带向低能端移动,呈现n型导电性,光学带隙增大,吸收带边蓝移,反射率降低.计算结果与相关实验结果完全符合.
- 张易军闫金良赵刚谢万峰
- 关键词：第一性原理密度泛函理论
