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陈小锰

作品数:4 被引量:15H指数:2
供职机构:大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性教育部重点实验室更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术核科学技术自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇理学
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇核科学技术

主题

  • 3篇等离子体
  • 2篇等离子体密度
  • 2篇金刚石膜
  • 2篇类金刚石
  • 2篇类金刚石膜
  • 2篇ECR
  • 1篇等离子体特性
  • 1篇等离子体诊断
  • 1篇电位变化
  • 1篇探针诊断
  • 1篇拉曼
  • 1篇拉曼光谱
  • 1篇工作气压
  • 1篇光谱
  • 1篇非平衡磁控溅...
  • 1篇PECVD
  • 1篇PVD
  • 1篇DLC
  • 1篇DLC膜
  • 1篇LANGMU...

机构

  • 4篇大连理工大学

作者

  • 4篇陈小锰
  • 3篇徐军
  • 2篇董闯
  • 2篇刘天伟
  • 2篇张治国
  • 2篇邓新绿
  • 1篇朴勇
  • 1篇邓新禄
  • 1篇高鹏
  • 1篇丁万昱

传媒

  • 2篇真空科学与技...

年份

  • 3篇2005
  • 1篇2004
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
微波ECR等离子体特性及其对DLC膜性能的影响被引量:3
2005年
为了解并优化在微波ECR等离子体增强化学气相沉积制备类金刚石膜工艺研究中的等离子体特性,利用朗缪尔探针法系统地测量了等离子体密度(Ne)、电子温度(Te)随工作气压(p)变化的关系。DLC膜的结构和性能依赖于沉积条件,提高等离子体密度有利于DLC膜的生长。本文示出了不同的CH4流量时,DLC膜的拉曼光谱和表面均方根粗糙度Rrms变化曲线,阐述了等离子体密度Ne、电子温度Te对DLC膜结构和性能的影响。
陈小锰邓新绿张治国刘天伟丁万昱徐军
关键词:等离子体特性ECR等离子体密度DLC膜类金刚石膜工作气压
硅掺杂-DLC硬盘保护膜的制备及等离子体诊断
微波-ECR等离子体增强化学气相沉积和等离子体增强非平衡磁控溅射两种工艺同步进行,可制备半导体、合金材料,而且能制备性能优异的掺杂类金刚石薄膜,从而越来越受到重视.本文首先介绍等离子增强溅射沉积的特点及应用.简要阐述了类...
陈小锰
关键词:类金刚石膜拉曼光谱
文献传递
Si掺杂对DLC薄膜结构和性能的影响
<正>类金刚石(diamond-like carbon)膜是含有sp3键的非晶碳膜,具有许多与金刚石膜类似的优点,如高硬度、低摩擦系数、高耐磨性、高电阻率、良好的化学稳定性和抗腐蚀能力以及红外透光性能,在机械、电子、光学...
陈小锰徐军邓新绿朴勇高鹏董闯
关键词:PECVDPVD
文献传递
Langmuir探针诊断微波ECR非平衡磁控溅射等离子体被引量:11
2005年
利用朗谬尔探针诊断了ECR非平衡磁控溅射等离子体,给出了微观等离子体参量随宏观工艺参量变化关系。实验测得基片架附近等离子体密度达到1010~1011数量级,电子温度在(5~10)eV之间。随溅射靶功率变化,等离子体密度在130W时取得最大值;同样随微波源功率变化,等离子体密度在功率为850W时也达到最大值。电子温度、等离子体空间电位变化与等离子体密度呈相同趋势。
张治国陈小锰刘天伟徐军邓新禄董闯
关键词:非平衡磁控溅射LANGMUIR探针诊断ECR等离子体密度电位变化
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