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高松

作品数：4 被引量：5H指数：1
供职机构：东北微电子研究所更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术电气工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 1篇电磁
  • 1篇电磁脉冲
  • 1篇电路
  • 1篇齐纳二极管
  • 1篇转换器
  • 1篇离子注入
  • 1篇离子注入工艺
  • 1篇模拟开关
  • 1篇集成电路
  • 1篇二极管
  • 1篇A/D
  • 1篇A/D转换
  • 1篇A/D转换器
  • 1篇CMOS
  • 1篇CPU
  • 1篇EMP
  • 1篇超大规模集成
  • 1篇超大规模集成...
  • 1篇大规模集成电...
  • 1篇BEAM

机构

  • 4篇东北微电子研...

作者

  • 4篇高松
  • 2篇田松
  • 2篇袁凯
  • 1篇张丽
  • 1篇王东梅
  • 1篇王笑然
  • 1篇姚达
  • 1篇许仲德
  • 1篇陈东石
  • 1篇王卫民
  • 1篇李志辉
  • 1篇陈桂梅
  • 1篇蔡振
  • 1篇郭玉璞

传媒

  • 3篇微处理机
  • 1篇第11届全国...

年份

  • 1篇2004
  • 2篇2002
  • 1篇2000
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
CMOS专用定时电路(LC4767)工艺研究
2000年
主要介绍了专用ＣＭＯＳ电路中采用齐纳二极管降低并稳定电压，保证电路的正常工作并降低功耗，拓宽了 ＣＭＯＳ混合电路的应用范围。
王卫民郭玉璞龙凯风田松高松王金良
关键词：CMOS齐纳二极管
CPU-80C86电路对EMP的敏感性研究
介绍了首次对CPU类超大规模集成电路(VLSI)所进行的EMP效应的敏感性模拟试验,并简单描述了电磁脉冲方波注入对80C86CPU电路产生的干扰情况.
许仲德高松姚达蔡振陈桂梅袁凯张丽
关键词：CPU电磁脉冲超大规模集成电路
文献传递
Bi-CMOS工艺的高精度单向模拟开关研究
2002年
分析了一种以 Bi- CMOS工艺实现的高精度单向隔离模拟开关 ,这种开关用在高速A/D转换器中使电路结构大为简化。通过对开关特性的理论分析、电路模拟及工艺验证 ,证明了这种模拟开关所具有的高速可控性和传输信号的精度均优于双极工艺所实现的单向隔离模拟开关。
袁凯李志辉高松陈东石王东梅田松
关键词：A/D转换器
离子注入工艺各个参数的调整被引量：5
2004年
本文以美国 EATON公司的中束流注入机为例 ,阐述了 IC芯片生产过程中离子注入工艺如何实现高质量注入 ;标准注入参数的调整 ,以及实现高速注入所应采取的各种手段 ,尽量发挥离子注入机的潜能 ,使中束流注入机也可以注入大束流 ,在生产上实现高速机动 ,加快了工艺流程。
王笑然高松
关键词：BEAM
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