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魏文忠

作品数：1 被引量：6H指数：1
供职机构：武汉大学物理科学与技术学院物理系更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇膜厚
  • 1篇膜厚均匀性
  • 1篇均匀性
  • 1篇溅射

机构

  • 1篇武汉大学

作者

  • 1篇魏文忠
  • 1篇张苏淮

传媒

  • 1篇武汉大学学报...

年份

  • 1篇1992
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
靶形对溅射薄膜厚度均匀性影响的研究被引量：6
1992年
本文提出了一种提高溅射镀膜膜厚均匀性的方法。通过计算得到对于多晶和非晶材料制成的阴极靶在强电场气体离子轰击下,若在靶中央开孔并适当选取靶与基板的距离,可以明显改善膜厚均匀性和均匀范围。采用10cm×10cm的阴极靶,中央开5cm×5cm的孔,所得薄膜厚度不均匀性小于3%的范围是11cm×11cm.
张苏淮魏文忠杨晖
关键词：溅射膜厚均匀性
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共1页<1>
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