孙瑶
- 作品数：15 被引量：15H指数：3
- 供职机构：中国建筑材料科学研究总院更多>>
- 发文基金：国家科技支撑计划国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：化学工程一般工业技术理学电子电信更多>>
- 一种玻璃基板及其制备方法
- 本发明公开了一种玻璃基板及其制备方法，其中玻璃基板的表面沉积有一层透明、耐摩擦、抗划伤和硬质的类金刚石薄膜。本发明的玻璃基板具有高的可见光透射比与太阳光谱透射比，耐摩性较未镀膜玻璃基板大幅度提高。
- 孙瑶黄星烨张保军汪洪
- 文献传递
- 基于椭圆偏振光谱法对“D/M/D”结构中的衬底层作用研究
- 具有“三明治”结构的D/M/D(dielectric/metal/dielectric)透明导电多层膜,基于其中金属功能Ag 膜中自由电子的导电性以及自由电子与电磁辐射的相互作用,具有低电阻,对可见光透明,但对红外光谱强...
- 孙瑶汪洪
- 关键词：椭偏仪氧化锌银迁移率
- 线性离子源对玻璃基片的表面改性被引量：4
- 2015年
- 采用阳极层线性离子源分别解离Ar气与O2气,对玻璃基片表面进行清洗处理,分析离子束清洗前后玻璃表面的变化,以及气体种类与电源电压对玻璃表面改性的影响。结果表明,离子束对玻璃表面产生显著的刻蚀作用,其中O离子束的刻蚀速率小于Ar,且刻蚀速率随电源电压的升高而增大。椭偏测试结果表明,离子束轰击增大了玻璃的Brewster角,并改变了Brewster角附近的椭圆偏振光谱形貌。通过建模分析发现,这是由于离子束使玻璃表面生成光密介质层,使表面折射率增大所致。
- 孙瑶汪洪
- 关键词：表面改性折射率
- 溅射工艺对D/M/D结构中SiN_x介质膜光学常数的影响被引量：3
- 2015年
- 采用射频反应溅射制备SiNx薄膜,作为以Ag膜为功能层的D/M/D结构透明导电膜中的电介质膜,并研究射频功率、气压以及N2流量对SiNx薄膜光学常数的影响。结果表明,SiNx薄膜具有非晶态结构,光学常数在300-2500nm波长范围内符合正常色散关系。椭偏测试及Cauchy模型拟合结果表明,折射率随功率、气压以及N2流量升高而降低,SiNx光学常数最佳的工艺条件为功率300W,气压0.16Pa,N2与Ar流量比例1∶1,此时薄膜折射率为2.02,消光系数为0,最接近具有化学计量比的Si3N4薄膜的光学常数。按此工艺制备的Si Nx膜在优化厚度为44nm的条件下作为20nm厚度Ag膜的电介质膜,当只有表面SiNx膜时,Ag膜透光率由29.17%提高至55.01%,当Ag膜上下均制备SiNx膜时,透光率进一步提高至66.12%。
- 孙瑶汪洪
- 关键词：折射率椭偏仪透光率
- 一种玻璃基板及其制备方法
- 本发明公开了一种玻璃基板及其制备方法，其中玻璃基板的表面沉积有一层透明、耐摩擦、抗划伤和硬质的类金刚石薄膜。本发明的玻璃基板具有高的可见光透射比与太阳光谱透射比，耐摩性较未镀膜玻璃基板大幅度提高。
- 孙瑶黄星烨张保军汪洪
- 文献传递
- 低辐射银膜的团聚形貌与成分偏聚
- 针对磁控溅射法制备的离线低辐射(Low-E)银基多层膜,采用场发射扫描电镜的背散射电子像(BSE)结合能谱面扫描分布研究银膜受热产生的团聚形貌与团聚生长导致的成分再分布。结果表明,BSE形貌中的自亮区域为银原子聚集的富银...
- 孙瑶王永斌汪洪
- 关键词：低辐射银膜团聚方块电阻
- 文献传递
- 钛掺杂对低辐射银膜的团聚抑制作用
- 2016年
- 以金属Ag作为红外反射功能层的低辐射多层膜受热易产生团聚,严重损害导电性与低辐射性能。本文提出在金属Ag膜层中掺杂Ti元素,研究Ti掺杂对Ag基低辐射多层膜的团聚抑制作用以及对热处理后性能的影响。采用磁控溅射制备SiN_x/Ag/Si Nx与Si Nx/Ag-Ti(1.1 at%)/Si Nx多层膜,其中Ag(Ti)层厚度为20 nm,并进行真空与非真空热处理(大气环境)。通过对比有无Ti掺杂的Ag基多层膜热处理前后的背散射电子形貌、面电阻、辐射率与透光率,发现无论真空还是非真空热处理,Ti掺杂均显著提高Ag膜的热稳定性,抑制团聚的生成。热处理后的面电阻、辐射率与透光率均显著优于未掺杂Ag基多层膜。进一步,观察背散射电子形貌随热处理温度的变化,分析了无掺杂Ag膜团聚的形成过程,并推测了Ti掺杂对Ag膜团聚的抑制机理。
- 孙瑶汪洪
- 关键词：低辐射银膜团聚热稳定性掺杂
- 可钢化低辐射镀膜玻璃、低辐射镀膜玻璃及其制备方法
- 本发明公开了一种可钢化低辐射镀膜玻璃、低辐射镀膜玻璃及其制备方法，涉及低辐射镀膜玻璃领域，解决了可钢化低辐射镀膜玻璃在热处理时银膜层被破坏而导致可钢化低辐射镀膜玻璃性能变差的技术问题。本发明的可钢化低辐射镀膜玻璃包括玻璃...
- 孙瑶汪洪
- 文献传递
- 触摸屏用玻璃盖板及其制备方法
- 本发明公开了一种触摸屏用玻璃盖板及其制备方法，其中触摸屏用玻璃盖板采用超薄玻璃先经过化学钢化再镀一层类金刚石薄膜而制成。本发明在保证高可视性的同时提高强度与耐划伤性，而无需消费者后续贴膜处理。
- 孙瑶黄星烨张保军汪洪
- 文献传递
- 不同镀膜方式制备非晶碳膜的结构与性能比较
- 本文采用离子源辅助磁控溅射法(IBAD)、离子束沉积法(IBD)与等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)分别在平板玻璃表面沉积了非晶碳膜。测试分析了不同制备方法获得的非晶碳膜的拉曼光谱结构、透射光谱、消光系数、摩擦系数...
- 孙瑶黄星烨王箭汪洪
- 关键词：非晶碳膜平板玻璃等离子体增强化学气相沉积
- 文献传递
