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庞道林

作品数:2 被引量:5H指数:1
供职机构:四川大学化学工程学院更多>>
发文基金:国家科技重大专项国家杰出青年科学基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 1篇印迹聚合物
  • 1篇有机蒙脱土
  • 1篇头孢
  • 1篇头孢氨苄
  • 1篇谱表
  • 1篇微生物
  • 1篇微生物环境
  • 1篇蒙脱土
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米复合材料
  • 1篇聚对二氧环己...
  • 1篇类分子
  • 1篇降解
  • 1篇降解行为
  • 1篇光谱
  • 1篇光谱表征
  • 1篇分子
  • 1篇分子印迹
  • 1篇分子印迹技术
  • 1篇分子印迹聚合...

机构

  • 2篇四川大学
  • 1篇重庆大学

作者

  • 2篇赖承钺
  • 2篇庞道林
  • 2篇李方
  • 1篇郑怀礼
  • 1篇何强
  • 1篇李辉章
  • 1篇王玉忠
  • 1篇汪秀丽
  • 1篇蒋宇翔

传媒

  • 1篇高分子学报
  • 1篇光谱学与光谱...

年份

  • 2篇2011
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
PPDO/OMMT纳米复合材料在微生物环境下的降解行为被引量:1
2011年
采用微生物水性培养液降解实验法对聚对二氧环己酮/有机蒙脱土(PPDO/OMMT)纳米复合材料的生物降解性能进行了研究.通过质量、特性黏数、pH、热分析和电子扫描显微镜(SEM)研究了试样的降解过程.结果表明,在本实验条件下,PPDO/OMMT纳米复合材料降解性随着OMMT含量的增加而增加.降解90天,在微生物水性培养液中PPDO和含有5%OMMT的纳米复合材料的质量损失率分别为17.9%和28.4%,而在无菌培养液中它们的质量损失率分别为12.9%和18.0%.在微生物培养液中PPDO和PPDO/OMMT的特性黏数都随着降解时间的延长而下降,并且在30天内特性黏数下降的幅度最大.研究表明PPDO和PPDO/OMMT降解过程中水解占主导作用,而微生物产生的酶对降解有促进作用;降解优先发生在非晶区,结晶度随之增加,随后结晶区被降解,结晶度下降;降解后的试样表面有明显被微生物侵蚀的痕迹.
李辉章庞道林赖承钺李方汪秀丽王玉忠
分子印迹技术特异性识别头孢类分子的光谱研究被引量:4
2011年
以头孢氨苄(CFL)为特异性分析识别对象,采用本体聚合和悬浮聚合两种聚合方法,制备了头孢氨苄分子印迹聚合物。紫外光谱研究证实模板分子CFL与丙烯酰胺之间形成氢键型配合物。用红外光谱法分析了CFL分子印迹聚合物的聚合程度及聚合物表面上存在的功能基团。紫外光谱分析表明,用AM-EGD-MA体系和本体聚合法制备的印迹聚合物对CFL具有高吸附容量。静态吸附实验和选择性吸附研究表明,所合成的分子印迹聚合物通过氢键作用形成了有效的识别官能团,该分子印迹聚合物对头孢氨苄有很好的选择性识别能力。将这种材料作为固相萃取吸附剂用于极性环境样品中头孢氨苄的萃取富集,回收率达到了99.3%~99.7%。
蒋宇翔庞道林何强赖承钺郑怀礼李方
关键词:分子印迹聚合物头孢氨苄光谱表征
共1页<1>
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