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潘有胜
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天津大学
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常力峰
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白天
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张之圣
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邹强
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潘有胜
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2010
1篇
2009
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高稳定高精度高阻值金属膜电阻器及其溅射镀膜工艺方法
本发明涉及一种高稳定高精度高阻值金属膜电阻器及其溅射镀膜工艺方法。该金属膜电阻器的阻值100MΩ,精度0.5%,过载0.5%,电阻温度系数TCR50PPm/℃,它是在高阻溅射靶材上通过磁控溅射方法制备而成。具体工艺参数:...
张之圣
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高稳定高精度高阻值金属膜电阻器及其溅射镀膜工艺方法
本发明涉及一种高稳定高精度高阻值金属膜电阻器及其溅射镀膜工艺方法。该金属膜电阻器的阻值100MΩ,精度0.5%,过载0.5%,电阻温度系数TCR50PPm/℃,它是在高阻溅射靶材上通过磁控溅射方法制备而成。具体工艺参数:...
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