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王洪朝

作品数：5 被引量：2H指数：1
供职机构：华南师范大学光电子材料与技术研究所更多>>
发文基金：国家重点实验室开放基金国家自然科学基金广西壮族自治区自然科学基金更多>>
相关领域：理学机械工程轻工技术与工程电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇机械工程
  • 2篇理学
  • 1篇电子电信
  • 1篇轻工技术与工...

主题

  • 3篇拉曼
  • 2篇压印
  • 2篇印章
  • 2篇散射
  • 2篇碳化硅
  • 2篇拉曼散射
  • 2篇光谱
  • 2篇光学
  • 2篇光学结构
  • 2篇光学器件
  • 2篇硅酮
  • 2篇浮雕
  • 1篇英文
  • 1篇散射光
  • 1篇散射光谱
  • 1篇微观结构
  • 1篇温度特性
  • 1篇物理特性
  • 1篇拉曼光谱
  • 1篇拉曼散射光谱

机构

  • 5篇华南师范大学
  • 2篇中山大学
  • 1篇广西大学
  • 1篇台湾大学

作者

  • 5篇王洪朝
  • 4篇梅霆
  • 2篇朱凝
  • 2篇丘志仁
  • 2篇万磊
  • 2篇杜康
  • 2篇郭克芹
  • 1篇万玲玉
  • 1篇孙华阳
  • 1篇谢灯
  • 1篇陈帅

传媒

  • 2篇光散射学报

年份

  • 1篇2016
  • 2篇2014
  • 1篇2013
  • 1篇2012
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
运用拉曼光谱对SiC材料性质的研究
碳化硅(SiC)是一种宽禁带(2.3～3.3 eV)半导体材料，在约930℃的温度下仍能保持低的本征载流子浓度，具有高击穿电场(3×106V/cm)，较高的电子饱和漂移速度(2×107cm/s)和高热导率(4.9 W/(...
王洪朝
关键词：碳化硅微观结构物理特性拉曼光谱
一种应用压印技术制作硅酮微纳光学结构的方法
本发明公开了一种应用压印技术制作硅酮微纳光学结构的方法，首先要根据器件结构要求设计并加工模板，作为压印用的印章；其次，根据器件微纳光学结构的要求，选用合适衬底材料，并覆盖压印胶，之后，采用压印工艺，转移模板上的结构图案，...
梅霆万磊王洪朝郭克芹杜康朱凝
基于CVD方法生长在硅基底上立方碳化硅的拉曼散射研究（英文）被引量：1
2016年
立方碳化硅(3C-SiC)薄膜通过化学气相沉积(CVD)制备在Si(100)衬底上。本论文主要通过椭偏光谱仪(SE)和拉曼散射仪对3C-SiC薄膜的微观结构和光学性能进行进一步的研究。根据SE的分析获得3CSiC薄膜厚度;根据拉曼散射的分析:可从TO模式和LO模式的线形形状的拟合得到样品的相关长度和载流子浓度。结果表明:该碳化硅(3C-SiC)薄膜质量随膜厚度增加而得到提高,同时分析了外延层厚度对薄膜特性的影响。
陈帅谢灯丘志仁TIN Chin-che王洪朝梅霆万玲玉冯哲川
关键词：拉曼散射厚度
n型6H-SiC拉曼散射光谱的温度特性（英文）被引量：1
2014年
三片具有不同载流子浓度的n型6H-SiC体材料用于83K到673K的变温拉曼散射研究,能够得到变温的拉曼散射模。通过测量可以得到,随着温度的增长,不同的声子散射模的拉曼峰逐渐变小。运用声子频率的温度特性计算公式,对三片样品的三个声子模的峰位进行拟合能够得到很好的拟合结果。6H-SiC样品的纵光学声子模(LOPC)的拉曼位移像其他的拉曼模一样,随着温度的增加而变小。在较高的温度时所有的声子模明显展宽。
王洪朝孙华阳梅霆丘志仁冯哲川
关键词：6H-SIC拉曼散射温度特性N型掺杂
一种应用压印技术制作硅酮微纳光学结构的方法
本发明公开了一种应用压印技术制作硅酮微纳光学结构的方法，首先要根据器件结构要求设计并加工模板，作为压印用的印章；其次，根据器件微纳光学结构的要求，选用合适衬底材料，并覆盖压印胶，之后，采用压印工艺，转移模板上的结构图案，...
梅霆万磊王洪朝郭克芹杜康朱凝
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