蒋美萍
- 作品数：82 被引量：265H指数：10
- 供职机构：常州大学更多>>
- 发文基金：江苏省高校自然科学研究项目江苏省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程电子电信一般工业技术更多>>
- 尖端集电效应在薄膜沉积中的应用
- 2015年
- 本文利用尖端集电原理,在射频平衡磁控溅射过程中通过施加衬底偏压沉积了Cu2O薄膜。然后用原子力显微镜和掠入射X射线衍射仪对薄膜样品的形貌和结构进行表征。研究结果表明,不管施加的是正偏压还是负偏压,所制备Cu2O薄膜的形貌和结构相差不大,均呈现出疏松多孔和(111)择优取向的特点。进一步地,从尖端集电的角度对平衡磁控溅射沉积过程中的偏压效应进行了合理解释。
- 苏江滨刘阳蒋美萍周磊
- 关键词：偏压多孔薄膜磁控溅射
- 含负折射率介质布拉格微腔的缺陷模被引量：4
- 2006年
- 研究了由正和负两种折射率介质交替排列构成的一维光子晶体布拉格微腔的透射谱和缺陷模性质,并将传输矩阵各矩阵元在中心频率附近采用泰勒展开并取一级近似,得到了中心频率附近缺陷模的透射率公式和品质因子公式。研究结果表明:一级近似法能很好地解释由于缺陷层厚度变化而引起的中心频率附近缺陷模频率变化的规律,缺陷模品质因子公式与数值计算结果十分吻合;处于中心频率处的缺陷模具有较高的品质因子,增大缺陷层厚度和布拉格镜周期数可提高缺陷模的品质因子。
- 蒋美萍陈光陈宪锋沈小明王旭东是度芳
- 关键词：物理光学缺陷模负折射率介质品质因子
- 金属氧化物多孔纳米结构薄膜的制备方法
- 本发明公开了金属氧化物多孔纳米结构薄膜（MO-PNFs）的制备方法，涉及多孔薄膜的制备技术领域。本发明首先利用磁控共溅射镀膜技术在室温下沉积了不锈钢基金属-铝合金薄膜，然后在高真空下进行退火处理，最后置于NaOH溶液中进...
- 苏江滨蒋美萍王红红刘阳
- 含负折射率介质非线性Bragg腔的双稳态特性被引量：10
- 2006年
- 研究了含负折射率介质一维光子晶体非线性Bragg腔的透射特性、光学增强和双稳态特性·对负折射率介质无色散和有色散非线性Bragg腔及由两种正折射率介质构成的非线性Bragg腔的透射谱、光学增强、缺陷模的线宽、入射光的红移量、双稳态开关阈值进行了比较.含负折射率介质的非线性Bragg腔可显著增大腔内光学增强效应,降低缺陷模的线宽、入射光的红移量和双稳态开关阈值·
- 蒋美萍陈光陈宪锋沈小明巢小刚是度芳
- 关键词：光子晶体负折射率介质双稳态透射特性
- 一种铜纳米线/铜膜复合结构及其制备方法
- 本发明公开了一种铜纳米线/铜膜复合结构及其制备方法，目的是提供一种铜纳米线/铜膜复合结构及其磁控溅射制备方法。本发明采用小沉积角度的直流磁控溅射掠射沉积技术，通过适当调节薄膜厚度、衬底温度和衬底偏压，在玻璃衬底上制备了一...
- 苏江滨蒋美萍李星星潘丁娟
- 文献传递
- 含负折射率介质光子晶体的斜角禁带被引量：1
- 2008年
- 研究了由正负折射率介质交替排列构成的光子晶体的传输特性,负折射率材料(NIM)是有损耗的Drude色散媒质。研究发现,这类光子晶体具有零折射率带和传统的Bragg带,此外在NIM的折射率接近于零的频域还出现了一个新型的禁带——斜角带。该斜角带的位置与晶格参数无关,其带宽较小;在电磁波垂直入射时禁带消失,但随着入射角的增大禁带逐渐展宽,且TM模的带宽大于TE模。
- 陈宪锋蒋美萍沈小明金铱
- 关键词：光子晶体负折射率
- 一种表面具有六角密堆排列的三维纳米凸起的多孔阳极氧化铝模板的制备方法
- 本发明涉及一种多孔阳极氧化铝模板的制备方法。解决了传统多孔阳极氧化铝的孔洞排列方式单一和非传统多孔阳极氧化铝制备成本高昂，制备复杂而不适于大面积生产的技术问题。该制备方法包括：清洗铝箔并进行电化学抛光处理；将传统多孔阳极...
- 郎咸忠马骥苏江滨蒋美萍王旭东史雅莉
- 负折射率缺陷层光子晶体的缺陷模和光学增强被引量：2
- 2005年
- 研究了缺陷层为负折射率材料的一维光子晶体的带隙结构。研究结果表明:与缺陷层为正折射率材料的同类型结构相比,负折射率材料缺陷模的宽度变宽,且随着缺陷层厚度的增加,缺陷模向高频(短波)方向移动,缺陷模的移动速度也大。同时研究了负折射率缺陷层位置的不同对光子晶体透射特性的影响以及光学增强效应。
- 陈宪锋沈小明蒋美萍是度芳
- 关键词：光子晶体负折射率缺陷模
- 一个张弛振荡电路的特征动力学行为
- 2010年
- 报道了一个带耗散性元件和过电压保护的张弛振荡电路模型,它由一个保守映象和一个耗散映象不可逆耦合而成的分段光滑映象描述。在这样一个半耗散系统中,我们的数值计算表明在一定参数范围内,系统的动力学行为完全由类耗散性支配,并且发现了"类激变",所得结果与实验一致,这是首次在半耗散系统中发现类激变。
- 巢小刚蒋美萍倪重文陈宪锋
- 一种绒面化CuO复合结构薄膜及其制备方法
- 本发明公开了一种绒面化CuO复合结构薄膜及其制备方法，选取表面具有绒面结构的Si片作为衬底放入磁控溅射镀膜设备，并将Si片衬底为绒面结构的一侧对准铜靶放置，同时施加直流衬底偏压，在真空腔室中进行溅射，在Si片表面沉积一层...
- 苏江滨王智伟马骥何祖明郎咸忠唐斌蒋美萍
- 文献传递
