赵利
- 作品数：6 被引量：96H指数：5
- 供职机构：武汉理工大学材料科学与工程学院更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术更多>>
- 新型光学薄膜研究及发展现状被引量：39
- 2002年
- 综述了近年来国内外在新型光学薄膜如高强度激光膜、金刚石及类金刚石膜、软 X射线多层膜、太阳能选择性吸收膜和光通信用光学膜的制备及其在器件方面的研究和应用情况 ,并对光学薄膜的研究进行了展望。
- 王学华薛亦渝赵利张幼陵
- 关键词：光学薄膜
- 电子束蒸发沉积TiO_2薄膜结构及光学性能的研究被引量：18
- 2002年
- 研究了工艺条件对电子束蒸发沉积在 K9玻璃上 Ti O2 薄膜的结构和光学性能的影响。正交试验结果表明 ,基片温度是影响薄膜光学常数的主要因素 ,制备 Ti O2 薄膜的最佳工艺参数为 :基片温度 30 0℃ ,工作真空 2× 10 - 2 Pa,沉积速率 0 .2 nm/ s。采用最佳工艺沉积在透明基片上的 Ti O2 薄膜在可见光区具有良好的透过特性 ,同时也得出了薄膜的光学带隙能 Eg=3.77e V。 SEM观察结果表明薄膜为柱状纤维结构 ,柱状纤维的直径在 10 0～ 15 0
- 王学华薛亦渝赵利张幼陵
- 关键词：光学性能TIO2薄膜光学薄膜二氧化钛薄膜
- 电子束蒸发制备TiO/_2薄膜及光学性能的研究
- TiO/_2具有高折射率，在可见光波段透明以及良好的化学稳定性，是非常重要的光学薄膜材料，近年来得到了非常广泛的应用。研究TiO/_2薄膜的制备具有较大的科学和应用价值。
本文用电子束反应蒸...
- 赵利
- 关键词：光学性能膜系设计
- 文献传递
- 基于包络线法的薄膜光学常数分析被引量：16
- 2003年
- 用电子束反应蒸发法制备了TiO2薄膜,以折射率和消光系数为主要性能指标,通过正交实验法确定了得到较优光学性能的工艺搭配。分析了基片温度、沉积速率和真空度对TiO2薄膜光学性能的影响。并通过所开发的膜系设计软件分析了在最佳工艺条件下制备的TiO2薄膜的透射率,用包络线法计算出了薄膜的折射率、厚度以及消光系数,与实测值有很小的差别,可以证明实测结果的正确性。
- 夏志林薛亦渝赵利张幼陵
- 关键词：TIO2薄膜光学性能光学常数
- 膜系自动设计中的几种新型评价函数被引量：18
- 2002年
- 综述了不同膜系设计中特殊的建立评价函数的方法。阐明在用计算机进行自动膜系设计过程中 ,如何确定哪些指标参与薄膜性能的评价 ,用什么方式构成评价函数。
- 赵利薛亦渝王学华张幼陵
- 关键词：膜系设计评价函数光学薄膜
- 单纯形调优法在多层膜系优化设计中的应用被引量：7
- 2002年
- 采用单纯形调优法对多层光学膜系进行了优化设计 ,并开发了相应的优化设计程序。用该优化程序已经成功地设计出了可见光区高增透膜系。与其他光学薄膜自动设计方法得到的结果相比 ,在膜系层数相同甚至更少的情况下 ,用该方法可以得到很好的优化效果 。
- 王学华薛亦渝赵利张幼陵
- 关键词：优化设计膜系设计光学薄膜
