赵洋
- 作品数：4 被引量：7H指数：2
- 供职机构：吉林大学电子科学与工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学更多>>
- 基于MOCVD法制备的NiO薄膜结构与光学特性被引量：3
- 2011年
- 用金属有机化学气相沉积法在Si衬底上制备了NiO薄膜。分别采用X光电子能谱、电子显微镜、X射线衍射以及紫外-可见分光光度计对样品的结构和光学特性进行测试。X光电子能谱测试结果表明:薄膜中Ni元素以二价态存在,Ni与O比值接近1∶1,表明制备的样品为NiO薄膜;电子显微镜和X射线衍射分析显示NiO薄膜呈现多晶态;紫外-可见分光光度计测试结果显示:NiO薄膜具有高透过率,400 nm附近最高透过率为96%,通过线性外推法作图得到NiO薄膜的禁带宽度在3.7 eV左右。
- 赵洋赵龙王辉王辉汤正新王瑾
- 关键词：透射率
- MOCVD法制备NiO薄膜的结构和光学特性研究
- 采用双卤钨灯金属有机化学气相沉积法(PA-MOCVD)在Si衬底上制备了NiO薄膜。XPS测试结果显示(图2),薄膜中Ni与O的化学元素比接近1:1。扫描电子显微镜(SEM)(图1)和X射线衍射(XRD)测试结果显示,随...
- 王辉张仕凯殷伟王瑾史志锋赵洋董鑫张宝林杜国同
- Nixzn1-xO薄膜材料的表征
- 王瑾杜国同王辉赵洋张仕凯赵龙史志锋李万程董鑫张宝林
- 金属有机化学气相沉积法制备ZnO和ZnO：Ni薄膜及其特性分析被引量：4
- 2011年
- 采用金属有机化学气相沉积法制备了ZnO和ZnO∶Ni薄膜,并对它们的结构、光学和电学特性进行了对比研究.通过扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射(XRD)对薄膜的表面形貌和晶体结构进行了分析,结果表明,Ni元素的掺杂虽然降低了薄膜的晶体质量,但并未改变ZnO的纤锌矿结构.通过紫外-可见分光光度计对薄膜的光学特性进行了测试与分析,结果表明,ZnO∶Ni薄膜在可见光区的平均透过率可达90%,优于ZnO薄膜在可见光区的平均透过率(85%).霍尔(Hall)测试显示ZnO∶Ni薄膜的导电类型仍为n型,但其电阻率已经明显增加,载流子浓度也远低于未掺杂ZnO薄膜的载流子浓度,说明Ni元素的掺杂对ZnO薄膜的特性产生了很大影响.
- 王辉王辉王瑾赵洋赵龙赵旺史志锋夏晓川马艳杜国同
- 关键词：ZNO薄膜金属有机化学气相沉积透过率
