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邹赫麟

作品数:68 被引量:18H指数:2
供职机构:大连理工大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点实验室开放基金国家科技攻关计划更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术自动化与计算机技术理学更多>>

文献类型

  • 47篇专利
  • 21篇期刊文章

领域

  • 13篇电子电信
  • 9篇一般工业技术
  • 6篇自动化与计算...
  • 4篇理学
  • 3篇天文地球
  • 2篇金属学及工艺
  • 2篇轻工技术与工...
  • 1篇动力工程及工...
  • 1篇文化科学

主题

  • 16篇光刻
  • 12篇键合
  • 9篇喷孔
  • 9篇喷墨
  • 8篇刻蚀
  • 7篇热压印
  • 7篇光刻胶
  • 7篇反应离子
  • 7篇打印头
  • 6篇乙酰
  • 6篇乙酰丙酮
  • 6篇喷头
  • 6篇钛酸
  • 6篇钛酸四丁酯
  • 6篇酰胺
  • 6篇甲酰胺
  • 6篇光刻工艺
  • 6篇电系统
  • 5篇掩蔽层
  • 5篇振动板

机构

  • 68篇大连理工大学
  • 5篇珠海纳思达企...
  • 3篇珠海赛纳三维...
  • 1篇大连海事大学
  • 1篇北京大学
  • 1篇北京航空航天...

作者

  • 68篇邹赫麟
  • 7篇殷志富
  • 5篇魏希文
  • 4篇李建军
  • 4篇孙蕾
  • 3篇李克洪
  • 3篇程娥
  • 3篇张帅
  • 3篇杨志峰
  • 2篇王兴
  • 2篇何敬志
  • 2篇张爱丽
  • 2篇许文才
  • 2篇安志奇
  • 2篇何宇亮
  • 2篇高帅
  • 2篇陈达
  • 2篇韩梅
  • 2篇程文堂
  • 2篇伊茂聪

传媒

  • 8篇机电技术
  • 3篇大连理工大学...
  • 2篇Journa...
  • 2篇材料科学
  • 1篇现代科学仪器
  • 1篇光谱实验室
  • 1篇高等学校化学...
  • 1篇仪表技术与传...
  • 1篇机电工程技术
  • 1篇固体电子学研...

年份

  • 3篇2023
  • 5篇2022
  • 5篇2021
  • 5篇2020
  • 3篇2019
  • 8篇2018
  • 2篇2017
  • 7篇2016
  • 9篇2015
  • 6篇2014
  • 3篇2013
  • 3篇2012
  • 1篇2011
  • 1篇2001
  • 1篇2000
  • 1篇1998
  • 1篇1996
  • 1篇1995
  • 1篇1993
  • 2篇1992
68 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
纳米硅薄膜低温光致发光被引量:1
1998年
以高氢稀释硅烷为反应气源,用PECVD方法淀积了nc-Si:H薄膜。未经任何后处理过程,在低温77K下观察到光致发光,并对薄膜样品进行了Raman散射,红外吸收谱,氢氧含量以及光学吸收系数分析测试。还对nc-Si:H薄膜低温光致发光的机理进行了讨论。
窦红飞李建军魏希文邹赫麟何宇亮刘明
关键词:纳米硅薄膜光致发光等离子体
液体喷头制造方法、液体喷头和打印装置
本发明提供一种液体喷头制造方法、液体喷头和打印装置,其中方法包括在基板上表面依次层叠振动板、下电极和压电陶瓷薄膜层,以形成衬底;通过光刻工艺在所述压电陶瓷薄膜层上表面形成多个间隔的光刻胶层,该光刻胶层的纵向截面的上部宽且...
邹赫麟陈晓坤佟鑫李越
文献传递
一种用于MEMS器件制作的对准键合装置
本发明属于对准键合技术领域,涉及一种用于MEMS器件制作的对准键合装置。该装置包括底座、主二维式移动平台、支撑架、副三维式移动平台、调平组件、旋转组件和CCD观测组件;底座上设有支架,支架可拆卸安装CCD观测组件;主二维...
邹赫麟豆姣伊茂聪王上飞陈达
一种带有纳米尺度通道的SU-8胶电液动力射流喷针制造方法
一种制备带有纳米尺度通道的SU-8胶电液动力射流喷针的热压印-紫外曝光制造方法,采用两次PDMS浇注和氧等离子体处理方法,制造出镶嵌掩膜胶片的微纳复合尺度PDMS模具。然后在硅片上光刻出BP212牺牲层,蒸镀一层Al作为...
邹赫麟殷志富孙蕾
压电振动板弯曲振动特性研究被引量:1
2022年
压电振动板是压电喷墨打印头的核心结构之一,压电振动板的弯曲振动特性将直接影响压电式喷墨打印头的各项性能。文章基于MEMS工艺设计制作了一种压电振动板结构,该结构通过释放PZT压电层部分固定约束来达到增加振动幅度的目的。建立了压电振动板弯曲振动理论模型;利用激光多普勒测振装置对不同结构参数的压电振动板振动幅度进行测量,研究分析了压电振动板不同结构参数对压电振动板振动幅度的影响。
杨志峰李克洪张帅邹赫麟
关键词:MEMS
利用双层胶方法去除负性光刻胶残胶效果研究
2018年
提出了一种双层胶工艺去除表面残胶的新方法,即以正性光刻胶为底层胶膜、负性光刻胶为顶层胶膜,能有效地去除基底残胶。研究了正性光刻胶粘度和厚度对平均残胶量的影响,实验表明:转速为3000 r/min、厚度为1.36μm旋涂的低粘度正胶AZ703对去胶有明显效果;研究了底层胶膜缩进距离d和图形完整性的关系,实验表明:当底层胶膜缩进距离d达到8μm时,图案完整,且使顶层胶膜与基底接触面积最小化,达到进一步减少残胶的效果。
黎晨王秋森王兴王上飞邹赫麟
关键词:粘度厚度
液体喷射方法、液体喷射装置及喷墨设备
本发明提供一种液体喷射方法、液体喷射装置及喷墨设备。本发明的液体喷射方法,应用于喷墨设备上,所述方法包括:每个喷墨周期中,在所述压力腔室的体积产生变化前,通过向所述变限流部件施加电压而改变所述限流通道的截面面积,其中,所...
邹赫麟肖晓蕾豆姣陈达韩梅周毅
文献传递
一种微纳跨尺度聚合物喷针的制造方法
本发明属于微机电研究领域,涉及一种微纳跨尺度聚合物喷针的制造方法。本发明采用侧蚀剥离法和反应离子深刻蚀技术,制备硅纳米模具;通过PDMS浇注技术将硅纳米模具的图形转移到PDMS上,制备带有纳米沟道图形的PDMS纳米模具。...
邹赫麟郭冉徐良
一种具有(100)取向的掺钆锆钛酸铅薄膜及其制备方法
本发明提供一种具有(100)取向的掺钆锆钛酸铅薄膜及其制备方法。本发明的具有(100)取向的掺钆锆钛酸铅薄膜的制备方法,包括如下顺序进行的步骤:1)以乙酸铅、硝酸钆、硝酸锆和钛酸四丁酯为原料,乙二醇甲醚为溶剂,乙酰丙酮和...
邹赫麟许文才李奇周毅王文强韩梅
MEMS空气放大器离子聚集装置的制作方法
本发明属于微机电系统(MEMS)领域,涉及一种MEMS空气放大器离子聚集装置的制作方法。其特征是利用微加工方法制作双层结构的SU-8模具,再用浇注方法制作基于聚二甲基硅氧烷(PDMS)的空气放大器,然后通过PDMS-PD...
邹赫麟高帅
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