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刘晓莉

作品数：3 被引量：9H指数：1
供职机构：长春工业大学更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇电子电信

主题

  • 3篇电路
  • 3篇集成电路
  • 2篇光刻
  • 2篇光刻技术
  • 1篇微米
  • 1篇线宽
  • 1篇芯片
  • 1篇芯片制造
  • 1篇逻辑集成电路
  • 1篇光刻工艺

机构

  • 3篇长春工业大学

作者

  • 3篇刘晓莉
  • 2篇李霄燕
  • 2篇邵敏权

传媒

  • 1篇光机电信息
  • 1篇2006年二...

年份

  • 2篇2006
  • 1篇2005
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
光刻技术及其新进展被引量：9
2005年
介绍了用于制作半导体集成电路的光刻工艺的概念、分类及发展过程,阐述了当前光刻工艺的主流,并重点介绍了极紫外光刻、X射线光刻、电子束光刻、离子束光刻、纳米图形转印等下一代光刻技术的特点及其面临的挑战。
刘晓莉李霄燕邵敏权
关键词：光刻集成电路线宽
光刻技术及其新进展
本文介绍了用于制作半导体集成电路的光刻工艺的概念、分类及发展过程，阐述了当前光刻工艺的主流，并介绍了极紫外光刻、X射线光刻、电子束光刻、离子束光刻、纳米图形转印等下一代光刻技术的特点及其面临的挑战。
刘晓莉李霄燕邵敏权
关键词：集成电路芯片制造光刻工艺
文献传递
0.15微米逻辑集成电路的测试及分析
硅片测试是为了检验规格的一致性而在硅片级集成电路上进行的电学参数测量。在不断变化的产品环境中，硅片测试对于检验芯片的功能性来说是一项非常重要的工作。基本的一点是，硅片测试必须能够分辨一个好的芯片和一个有缺陷的芯片。带有合...
刘晓莉
关键词：集成电路
文献传递
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