刘柱方
- 作品数：5 被引量：12H指数：3
- 供职机构：厦门大学化学系更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：金属学及工艺电子电信理学更多>>
- 金属Cu表面三维齿状微图形的复制加工--约束刻蚀剂层技术(CELT)的应用
- 主要介绍了一种Cu的CELT加工的化学刻蚀体系和捕捉体系,并通过控制刻蚀时间、刻蚀电流、刻蚀剂浓度、捕捉剂浓度等实验参数和优化电化学模板的制作工艺, 以规整的齿状结构为模板, 在Cu的表面实现了三维微结构的复制加工,得到...
- 刘柱方周兆英田中群蒋利民汤儆张力田昭武刘品宽曲东升孙立宁叶雄英
- 文献传递
- 金属的电化学微区刻蚀方法被引量：5
- 2002年
- 本文概述了现行的金属微区刻蚀方法并详细地介绍几种电化学刻蚀方法 ,比较了掩膜法、扫描电化学显微镜法、约束刻蚀剂层法、电化学扫描遂道显微镜法和超短电位脉冲法各自的特点 .从加工精度 (能否进行微米和纳米级加工 )、加工效率 (工序复杂程度 ,能否批量制造或复制 )、可用范围 (主要是能否加工复杂三维立体结构 )等各项因素进行了综合分析 ,结果表明 ,各种加工方法各有其优缺点 ,从总的效果来看 。
- 蒋利民田中群刘柱方毛秉伟黄海苟孙建军
- 关键词：金属电化学刻蚀约束刻蚀剂层技术微加工
- 金属铜表面的三维齿状图形的化学微加工被引量：9
- 2004年
- 运用约束刻蚀剂层技术 (CELT)在金属铜 (Cu)表面实现了三维微图形加工 ,取得成功的关键因素在于寻找到能对Cu进行有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系。采用规整的三维齿状结构为模板 ,在Cu表面得到了与齿状结构模板互补的三维微结构。采用扫描电子显微镜 (SEM )和原子力显微镜 (AFM )对所刻蚀图案进行表征 ,证实CELT可用于金属表面三维微图形的刻蚀加工。
- 刘柱方蒋利民汤儆刘品宽孙立宁田中群田昭武
- 关键词：金属铜
- 镍表面三维微图形的复制加工被引量：3
- 2004年
- 运用约束刻蚀剂层技术(CELT)在金属镍(Ni)表面实现三维微图形加工,以规整的三维齿状微结构作模板,获得可有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系,在Ni表面得到了与齿状结构互补的三维微结构并应用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)表征刻蚀图案,证实CELT可用于金属表面Ni的三维微图形刻蚀加工.
- 刘柱方蒋利民汤儆张力田中群田昭武刘品宽孙立宁
- 关键词：镍约束刻蚀剂层技术微系统技术
- 金属Cu表面三维齿状微图形的复制加工——约束刻蚀剂层技术 (CELT)的应用被引量：1
- 2003年
- 主要介绍了一种Cu的CELT加工的化学刻蚀体系和捕捉体系 ,并通过控制刻蚀时间、刻蚀电流、刻蚀剂浓度、捕捉剂浓度等实验参数和优化电化学模板的制作工艺 ,以规整的齿状结构为模板 ,在Cu的表面实现了三维微结构的复制加工 ,得到了与齿状结构模板互补的三维微结构 ,用SEM和AFM对实验结果进行了表征 ,表征结果证明约束刻蚀剂层技术在金属三维加工方面的可行性和潜在优势。金属Cu由于具有优良的导热导电性能以及很好的延展性 ,在微系统 (也称微机电系统 )中应用广泛 ,因此对Cu的刻蚀加工对微系统技术的发展具有重要的意义。约束刻蚀剂层技术 (ConfinedEtch antLayerTechnique简称CELT)作为一种新型的微加工技术[1] ,能够加工复制出复杂三维结构 ,到目前为止 ,该技术已成功应用于Si、GaAs等材料微结构的复制加工[2 ,3] 。
- 刘柱方蒋利民汤儆张力田昭武刘品宽曲东升孙立宁叶雄英周兆英田中群
- 关键词：CU铜约束刻蚀剂层技术微加工技术
