吴宇峰
- 作品数：5 被引量：14H指数：2
- 供职机构：东北大学机械工程与自动化学院更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：一般工业技术金属学及工艺更多>>
- 非平衡磁控溅射制备Ti-N-C薄膜性能研究
- 采用霍尔离子源辅助中频非平衡磁控溅射技术,通过改变工作气氛,偏压模式,溅射电流以及辅助离子束电流,在不锈钢、高速钢等不同材料的基体上制备了Ti/TiN、Ti／TiN／Ti(C,N)膜系的硬质抗磨损膜层。利用分光分度计、扫...
- 张以忱吴宇峰巴德纯
- 关键词：非平衡磁控溅射晶体结构
- 文献传递
- 非平衡磁控溅射制备Ti-N-C薄膜性能研究(英文)
- 采用霍尔离子源辅助中频非平衡磁控溅射技术,通过改变工作气氛,偏压模式,溅射电流以及辅助离子束电流,在不锈钢、高速钢等不同材料的基体上制备了Ti／TiN、Ti／TiN／Ti(C,N) 膜系的硬质抗磨损膜层。利用分光分度计、...
- 张以忱吴宇峰巴德纯
- 关键词：非平衡磁控溅射晶体结构
- 文献传递
- 工艺参数对非平衡磁控溅射Ti/TiN/Ti(C,N)薄膜硬度的影响被引量：6
- 2007年
- 采用中频非平衡磁控溅射工艺,在316L不锈钢、高速钢和硬质合金3种基体材料上制备Ti/TiN/Ti(C,N)膜系的硬质薄膜。通过改变工作气氛、基体负偏压等工艺参数,对制备薄膜的硬度进行检测分析,结果表明:在Ti(C,N)薄膜的制备中,工作气氛和基体负偏压是影响薄膜硬度的主要因素。当工作气体的通入比例C2H2/(N2+Ar)<1/9时,薄膜硬度较高。当通入的乙炔(C2H2)流量增加时,会明显降低薄膜硬度。当基体负偏压在一定范围内增加时,薄膜硬度随之逐渐提高;当负偏压增加到200 V时,薄膜硬度最大;负偏压超过200 V,薄膜硬度明显下降。基体材料对薄膜硬度的影响较大,在不同基体材料上镀制同一种硬质薄膜时,薄膜硬度不同;3种基体材料上沉积薄膜的硬度数316L不锈钢基体上的薄膜硬度最低。
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- 关键词：非平衡磁控溅射
- 工艺参数对中频非平衡磁控溅射制备TiN膜性能的影响
- 本文采用中频非平衡磁控溅射工艺,在316L不锈钢基体上制备氮化钛膜层.通过改变工作气氛、偏压模式以及溅射功率制备了一系列试样.分别利用分光光度计、扫描电子显微镜、X射线衍射仪和纳米力学综合测试仪等分析仪器对制备的试样进行...
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- 关键词：磁控溅射氮化钛脉冲偏压
- 中频孪生靶非平衡磁控溅射制备Ti/TiN/Ti(N,C)黑色硬质膜被引量：9
- 2006年
- 利用自制的等离子体增强型渗注镀复合处理设备上的非平衡磁控溅射功能,在不同硬度基底上制备了Ti/TiN/Ti(N,C)多层复合膜。膜呈深黑色,表面光滑平整,可见光区反射率在8.2%～10.2%之间,亮度L=38.01,沉积速率约为1.21μmh。膜的硬度测试结果受基底影响较大,YW2硬质合金基底上制备0.85μm厚的黑色硬质膜显微硬度Hv(25g)=2936。膜的结合力不高,有待进一步优化工艺加以解决。
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- 关键词：非平衡磁控溅射
