孙齐磊
- 作品数：62 被引量：18H指数：3
- 供职机构：山东建筑大学材料科学与工程学院更多>>
- 发文基金：山东省高等学校科技计划项目国家自然科学基金国家级大学生创新创业训练计划更多>>
- 相关领域：金属学及工艺化学工程一般工业技术文化科学更多>>
- 一种择优取向氯化铵薄膜
- 一种择优取向氯化铵薄膜，用于半导体薄膜技术领域。本发明通过如下步骤得到，首先清洗硅基片，然后将金属氯化物放入溶剂中溶解，用旋涂法在硅片上得到前驱体薄膜，烘干，放入有水合联氨的可密闭容器，使前驱体薄膜样品不与联氨接触，将装...
- 刘科高李静孙齐磊石磊许斌
- 文献传递
- 邦迪管镀锌无铬军绿色钝化剂 II
- 本发明涉及了邦迪管镀锌无铬军彩色钝化剂II，采用钼酸钠、柠檬酸钠、亚硫酸钠、乙二酸、硫酸镍等物品通过一定的比例溶解混合均匀而成，合成的钝化膜提高了镀层的耐蚀性能，同时赋予镀层军绿色的钝化膜。
- 孙齐磊石磊王胜楠刘科高徐勇
- 文献传递
- 材料电磁特性测试仪的改进
- 2014年
- 针对目前薄膜太阳能电池研究领域、材料电磁特性测试仪装置的缺点,文中对实验装置进行了结构改进。改进后的装置能够克服原有装置的不足,增加了实验样品角度的可调性,增大了材料测试仪的使用范围,提高了加热效率,保证了检测所需的温度范围,提高了实验的精确性。另外,该设备结构简单,成本低廉,实用性强。
- 孙齐磊
- 关键词：薄膜太阳能电池
- 一种用硫酸盐制备铜铁硒光电薄膜的方法
- 一种用硫酸盐制备铜铁硒光电薄膜的方法，属于光电薄膜制备技术领域，本发明通过如下步骤得到，首先清洗玻璃基片，然后将CuSO<Sub>4</Sub>·5H<Sub>2</Sub>O、FeSO<Sub>4</Sub>·7H<S...
- 刘科高孙齐磊荆明星姬明石磊
- 文献传递
- 添加剂和超声对阿哌沙班晶体形貌的影响
- 2023年
- 通过偏光显微镜观察了12种添加剂对阿哌沙班晶体形貌的影响,通过粉末X射线衍射对结晶产物的晶型进行鉴定,并借助于二维在线成像系统监测不同添加剂作用下阿哌沙班晶体形貌的变化。结果发现,12种添加剂中,羟丙基甲基纤维素、醋酸纤维素、木质素磺酸钠和聚丙烯酸4种添加剂对阿哌沙班溶析结晶产物的形貌产生影响,得到棒状晶体,并且超声也可以改变阿哌沙班形貌得到棒状晶体。同时通过粉末X射线衍射得到的阿哌沙班晶体图谱与文献中的XRD图谱做对比,发现本实验中的阿哌沙班晶型为N-1晶型。
- 吴凤瑛王子豪于帅程燕薛富民孙齐磊
- 关键词：阿哌沙班添加剂形貌
- 一种制备硫化锌光电薄膜的方法
- 一种硫化锌薄膜的制备方法，属于光电薄膜制备技术领域，本发明通过如下步骤得到，首先清洗基片，然后将ZnCl<Sub>2</Sub>放入溶剂中，采用旋涂法在基片上得到前驱体薄膜，烘干，放入有水合联氨和升华硫的可密闭容器中，使...
- 刘科高石璐丹李静孙齐磊许斌
- 文献传递
- 一种实验用环氧树脂镶嵌电化学试样固定装置
- 一种实验用环氧树脂镶嵌电化学试样固定装置，包括底座，垂直支柱，玻璃板，夹子。在进行金属研究电极镶嵌时，将底座水平放置于实验台上，将底面磨平的PVC套管放置于玻璃板上，焊好导线连接的金属电极试样放置于PVC套管的中间，将金...
- 陈思彤张开宇南洪友于丛洋李路鑫雷开超贺庆剑冀宏远孙齐磊
- 新型复配阻锈剂的电化学性能研究被引量：2
- 2019年
- 添加阻锈剂可以有效防止或减轻钢筋锈蚀,但目前使用的阻锈剂大多含有亚硝酸盐,不仅污染环境而且会使后期稳定性变差,开发高性能、低成本、环保无污染的新型阻锈剂可为钢筋防腐研究的发展提供新的途径。文章通过复配得到一种新型阻锈剂,利用电化学方法研究了加入氯化钠的混凝土模拟液中钢筋的阻锈性能,运用极化曲线和电化学阻抗谱等手段分析了阻锈剂的作用原理,并与钼酸盐和醇类阻锈剂进行对比。结果表明:当新型复配阻锈剂掺量为4wt%时,其对钢筋的阻锈效果最佳;新型复配阻锈剂能同时抑制钢筋表面的阴极和阳极反应,阻锈效果更加稳定;复配得到的新型阻锈剂具有良好的效果。
- 张开宇孙齐磊种溪英鲁军南洪友
- 关键词：阻锈剂自然电位法极化曲线电化学阻抗谱
- Cs-Pb-Br体系钙钛矿材料光学性能研究进展
- 2020年
- 主要探讨了在Cs-Pb-Br基三元体系全无机钙钛矿材料中稳定存在的3种不同化合物CsPbBr3、CsPb2Br5和Cs4PbBr6的光学性能,对材料的制备方法、结构特性以及发光机制研究进行了总结分析。其中CsPb2Br5和Cs4PbBr6能隙较大,却又存在优异的荧光特性。理论与实验结论的矛盾引起了较大的争议,期望未来能有更直接的实验数据确定材料的结构,从而得出Cs-Pb-Br基三元体系全无机钙钛矿材料的发光机制。
- 陈思彤尹艳艳尹敏薛富民孙齐磊
- 关键词：光致发光
- 一种铜锌锡硒薄膜的制备方法
- 一种铜锌锡硒薄膜的制备方法，属于光电薄膜制备技术领域，本发明通过如下步骤得到，首先清洗基片，然后将ZnCl<Sub>2</Sub>、SnCl<Sub>2</Sub>·2H<Sub>2</Sub>O、CuCl<Sub>2<...
- 刘科高纪念静孙齐磊石磊许斌
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