张炫
- 作品数：5 被引量：41H指数：4
- 供职机构：西安交通大学电气工程学院更多>>
- 发文基金：西安交通大学自然科学基金更多>>
- 相关领域：电气工程更多>>
- 三相三线制有功功率平衡与无功功率补偿并举方案研究
- 提出了三相电路可以分解为两类基本单元电路,每类有三种拓扑结构的理论。介绍了两类基本单元电路的特点,并应用该理论、运用“相间功率转移”的观点推导解释了无功功率补偿和有功功率平衡可以同时并举,并得出对同一电路综合补偿无功功率...
- 徐立平王仲奕宋雨杨广福顾沈卉张炫
- 关键词：功率因数三相不平衡综合补偿瞬时无功功率理论
- 文献传递
- 线圈式纵向磁场真空灭弧室磁场特性被引量：12
- 2007年
- 分析了1/2、1/3和1/4匝纵向磁场真空灭弧室触头设计参数对纵向磁感应强度分布、触头片上涡流分布、纵向磁场滞后时间以及导体电阻值的影响。研究表明:增加触头直径、线圈高度或触头开距会减弱纵向磁感应强度,线圈厚度及触头材料采用CuCr50或CuCr25对其影响不大;减小触头直径、增加开距可使纵向磁场滞后时间减小。触头片上开槽数以及触头材料会对滞后时间产生影响;增加触头直径、线圈高度、线圈厚度、都可以减小导体电阻,而触头片上开槽数以及触头材料也会对导体电阻产生影响。由于设计参数的变化对纵向磁感应强度分布、触头片上涡流分布、纵向磁场滞后时间以及导体电阻值会产生不同的影响,因此设计者应综合考虑各种参数的影响,得到综合性能优的结果。
- 刘志远王仲奕张炫王季梅
- 关键词：真空灭弧室触头纵向磁场真空电弧
- 五种纵向磁场真空灭弧室触头磁场特性分析比较被引量：23
- 2006年
- 用三维有限元法研究了线圈、杯状,两极和四极及双线圈五种纵磁真空灭弧室触头的纵向磁感应强度分布、触头片上涡流分布和纵向磁场滞后时间。研究表明:(1)电流峰值时纵向磁场由强到弱依次排列为:线圈式触头、两极式结构、双线圈式触头、杯状和四极式触头;(2)电流过零时剩余磁场由弱到强依次为:四极式触头、两极式触头、杯状触头、双线圈式触头和线圈式触头;(3)纵向磁场较强处滞后时间由小到大依次为:两极式触头、四极式触头、线圈式触头、双线圈式触头和杯状纵磁触头。
- 王仲奕刘志远张炫王季梅
- 关键词：真空灭弧室纵向磁场真空电弧
- 杯状纵磁真空灭弧室开断能力与触头直径和触头开距的关系被引量：10
- 2006年
- 研究了杯状纵磁真空灭弧室的极限电流开断能力与触头直径和触头开距间的规律,建立便于设计时应用的计算公式。从合成回路上开断能力的试验结果出发,将三维有限元法对杯状纵磁触头的纵向磁场的计算结果引入到开断能力与触头直径和触头开距的关系式中,初步得到极限电流开断能力与触头直径和触头开距的关系为I=k×D2×Bz0.4,式中k是系数。该式的物理意义是开断能力随触头直径的增加而增大,随触头开距的增加而减小。
- 刘志远王仲奕张炫王季梅
- 关键词：纵向磁场有限元法真空灭弧室
- 杯状纵磁真空灭弧室磁场特性分析被引量：7
- 2005年
- 用三维有限元法研究了7个设计参数对杯状纵磁触头的纵向磁感应强度、纵向磁场滞后时间、杯中和触头片中电流密度最大值以及导体电阻值的影响。研究表明:譹增加触头直径或开距会减弱纵向磁感应强度,增加杯指旋转角或杯指数目可使其增强,而杯指和水平面夹角、触头片上开槽数及触头材料采用CuCr50或CuCr25对其影响不大。譺设计参数在较大范围内变化时,纵向磁场滞后时间的变化很小。譻增加触头直径或触头片开槽数、减小杯指旋转角、合理选择杯指与水平面夹角和杯指数目或采用CuCr50触头材料可减少杯中或触头片中的电流集中。譼增加触头直径或杯指与水平面夹角,或减小杯指旋转角和杯指数目、减小触头片开槽数及采用CuCr25触头材料可减小导体电阻。
- 张炫刘志远王仲奕
- 关键词：真空灭弧室纵向磁场真空电弧
