樊明哲
- 作品数：2 被引量：0H指数：0
- 供职机构：中国科学院电工研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信更多>>
- 浸没式ArF曝光过程中液体热性能分析
- 2007年
- 浸没式ArF曝光系统在最后一面物镜和晶圆之间引入液体作为成像介质。曝光过程中,液体存在热分布变化,并引起液体折射率的改变,导致光刻性能下降,因此,有必要确定液体热分布变化的情况。应用有限元方法,建立二维模型,分析液体在不同进口压强下的温度分布,同时分析液体流入方向与晶圆移动方向异同情况下的液体温度分布。在此基础上,分析了晶圆上残留热量对液体热分布变化的影响。结果表明,不考虑晶圆残留热量,温度升高的最大值在0.15 K左右,温升厚度最大可达到0.4 mm;考虑晶圆残留热量的影响,温度升高最大值增加0.02 K左右,温升厚度最大可达到0.45 mm。
- 樊明哲李艳秋
- 关键词：浸没式ARF光刻热分布有限元
- 液体热效应对浸没式ArF光刻性能影响的研究
- 根据下一代光刻技术发展趋势和2006年国际半导体技术路线图(ITRS2006)，浸没式ArF光刻技术是实现65nm及其以下技术节点最有潜力的候选技术之一。但是，在曝光过程中，浸没液体(去离子水)与硅片间存在热传导使液体温...
- 樊明哲
- 关键词：浸没式ARF光刻有限元
- 文献传递
