程春玉
- 作品数：8 被引量：7H指数：2
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- 相关领域：一般工业技术金属学及工艺医药卫生机械工程更多>>
- 含氢碳膜的制备及其摩擦学性能研究
- 本文用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF-PECVD)方法在聚碳酸酯(PC)片上沉积含氢碳膜。利用激光拉曼光谱(Raman)检测薄膜的微观结构，利用扫描电子显微镜(SEM)观察薄膜的表面形貌，利用摩擦磨损试验机测试薄膜...
- 程春玉蔺增王凤巴德纯
- 关键词：聚碳酸酯摩擦学性能光学性能
- 聚碳酸酯表面射频磁控溅射类金刚石薄膜的摩擦学性能被引量：3
- 2013年
- 采用射频磁控溅射方法在聚碳酸酯片(PC)上沉积了类金刚石薄膜。利用激光拉曼光谱和扫描电子显微镜对薄膜的形貌及结构进行分析;采用表面粗糙度仪和球—盘式摩擦磨损试验机对薄膜的摩擦学性能进行测试。结果表明:利用射频磁控溅射方法在聚碳酸酯片上沉积的薄膜具有类金刚石特征;射频功率和直流偏压对sp3键含量有较大影响,并影响镀膜后聚碳酸酯材料的表面粗糙度。
- 程春玉蔺增王凤巴德纯
- 关键词：聚碳酸酯类金刚石薄膜射频磁控溅射摩擦学性能
- 电子回旋共振波射频溅射系统设计被引量：2
- 2013年
- 电子回旋共振波(ECWR)技术于20世纪70年代提出,是利用电磁波与电学各向异性材料(如带有外加静磁场的低压等离子体)的相互作用来产生等离子体的。ECWR技术有产生高密度等离子体、离子能量可控制在很窄的范围内、离子能量和离子流量可独立控制等优点,可有效控制薄膜的生长过程。本文以ECWR技术为背景,介绍了一种电子回旋共振波射频溅射镀膜系统的设计。
- 程春玉蔺增
- 关键词：射频溅射
- 种植体连接螺丝表面制备碳基薄膜的生物摩擦学研究
- 以CH4为碳源,氩气为辅助气体,利用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)的方法在种植体连接螺丝上制备了类金刚石(Diamond-like carbon,DLC)薄膜.采用拉曼光谱仪(Raman)、X射线光电子...
- 张哲蔺增庞骏德程春玉
- 关键词：牙种植体
- 文献传递
- 外载荷下带有界面裂纹的DLC薄膜应力响应研究
- 2014年
- 用有限元分析的方法,对受法向和切向联合载荷作用下的带界面裂纹类金刚石碳(DLC)膜力学响应进行了模拟研究。分析了薄膜厚度、裂纹长度和裂纹宽度对内部应力的影响。数值模拟结果表明:薄膜厚度对表面和界面处的应力有显著的影响;Mises等效应力的幅值和最大应力的位置对裂纹长度非常敏感,而对裂纹宽度的敏感度低。在一定的范围内(0
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- 关键词：类金刚石碳膜应力分析
- 聚碳酸酯表面碳基薄膜的制备及其光学性能研究
- 2014年
- 用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)方法在聚碳酸酯(PC)片上沉积类金刚石(DLC)薄膜,用射频磁控溅射方法制备过渡层以提高膜基结合力及控制光路。本文利用激光拉曼光谱检测薄膜的微观结构,利用X射线光电子能谱分析试样中元素组成,利用扫描电子显微镜观察薄膜的表面形貌,利用摩擦磨损试验机测试薄膜的摩擦学性能,利用紫外-可见光分光光度计研究试样在沉积碳膜后的光学性能。结果表明:利用RF-PECVD方法在PC片上沉积的薄膜为DLC薄膜,试样的摩擦系数与薄膜中sp3百分比有关,其光学特性与薄膜中sp2百分比有关,通过对不同过渡层的研究发现使用Si过渡层对形成高质量高透光率的DLC薄膜更加有利。
- 程春玉蔺增王凤巴德纯
- 关键词：聚碳酸酯摩擦学性能光学性能
- 种植体连接螺丝表面制备碳基薄膜的生物摩擦学研究被引量：3
- 2014年
- 以CH4为碳源,氩气为辅助气体,利用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)的方法在种植体连接螺丝上制备了类金刚石(Diamond-like carbon,DLC)薄膜。采用拉曼光谱仪(Raman)、X射线光电子能谱仪(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、摩擦磨损试验机、纳米压痕仪等仪器对薄膜的结构、成分、形貌、机械及摩擦学特性进行表征。结果表明,所制备薄膜致密、平滑,均匀性较好。纳米压痕测试及生理盐水环境中的摩擦磨损试验显示,DLC薄膜具有较高的硬度和良好的生物润滑性,可作为种植体连接螺丝表面的承载减摩涂层。
- 张哲蔺增庞骏德程春玉
- 关键词：RF-PECVD
- 射频磁控溅射方法制备掺氮TiO_x薄膜及其结构和亲水性研究（英文）
- 2016年
- 采用磁控溅射方法制备掺氮TiOx薄膜。将TiOx作为靶材,通以N2/Ar混合气体来精确控制N的掺杂量。为改善掺氮TiOx薄膜的性能,首先将试样放于退火炉中退火,退火温度范围为300～600℃;再将试样放于黑暗处一段时间;最后用可见光（VIS）照射。采用扫描电子显微镜（SEM）观察薄膜的表面形貌,结果表明,颗粒尺寸随退火温度升高而增大。采用X射线光电子能谱（XPS）研究薄膜的化学成分,结果表明,薄膜中生成了N-Ti-O（β-N）和羟基,这可能是因为N掺杂入TiOx晶格引起的;且羟基含量随退火温度升高而增加,使得基片有更好的亲水性。采用X射线衍射（XRD）研究薄膜的晶体结构,结果表明,退火后非晶薄膜转变为晶态。采用接触角仪测试薄膜的亲水性,结果表明,水接触角随退火温度升高而减小,这可能是由于颗粒尺寸和羟基含量的改变造成的。亲水性也受避光储存时间的影响,实验结果表明,随着储存时间的增加,水接触角增加。可见光照射实验表明,可见光照射后薄膜的亲水性增加。
- 程春玉蔺增王妨李慕勤
- 关键词：磁控溅射亲水性
