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聂君兰

作品数：4 被引量：9H指数：1
供职机构：深圳大学更多>>
发文基金：深圳市科技计划项目更多>>
相关领域：一般工业技术电子电信核科学技术理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇核科学技术
  • 1篇理学

主题

  • 3篇溅射
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控溅射
  • 2篇ECR
  • 1篇膜制备
  • 1篇金刚石薄膜
  • 1篇类金刚石
  • 1篇类金刚石薄膜
  • 1篇过渡层
  • 1篇DLC
  • 1篇DLC薄膜

机构

  • 4篇深圳大学

作者

  • 4篇聂君兰
  • 3篇谷坤明
  • 3篇汤皎宁
  • 1篇樊璠

传媒

  • 1篇润滑与密封
  • 1篇工具技术
  • 1篇稀有金属与硬...

年份

  • 4篇2008
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
过渡层类型对类金刚石薄膜性能的影响被引量：9
2008年
采用电子回旋微波等离子体气相沉积和磁控溅射法相结合的方法,通过石墨靶材和金属钛靶在不锈钢和Al2O3陶瓷基片上沉积了具有不同过渡层的含钛的C薄膜,研究了不同薄膜与衬底的中间层类型对薄膜的表面形貌、硬度、摩擦磨损性能、表面能的影响。结果表明,导电基底更有助于成膜的致密性和均匀性,薄膜为衬底/Ti/TiN/TiCN/C结构时硬度最高。
聂君兰谷坤明汤皎宁刘力
关键词：类金刚石薄膜
ECR 沉积DLC 薄膜
聂君兰
关键词：磁控溅射
气源流量对所制备Me-DLC膜性能的影响
2008年
介绍了一种新型的DLC膜制备方法——ECR(电子回旋共振)微波等离子体气相沉积结合磁控溅射的方法。采用该法通过溅射石墨靶和金属钛靶在不锈钢基底上制备了具有Ti/TiN/TiN(N,C)中间层结构的碳薄膜。研究了制备时不同气源流量对薄膜的表面形貌、硬度、摩擦磨损性能、表面能等的影响。
聂君兰谷坤明汤皎宁麦达宇樊璠
关键词：磁控溅射
ECR结合磁控溅射——制备DLC薄膜的新方法
2008年
介绍了新型的结合电子回旋共振(ECR)微波等离子体气相沉积与磁控溅射镀膜特点的ECR-650型镀膜系统,并利用该系统通过溅射石墨靶和金属钛靶在不锈钢基底上制备了具有Ti/TiNx/TiNxCy中间层结构的C薄膜。由于镀膜工艺问题,得到的薄膜主要由石墨构成。研究了制备时不同的气压和氩气分压对薄膜表面形貌、硬度等的影响。
聂君兰谷坤明汤皎宁
关键词：磁控溅射
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